立体成像光学薄膜的制作方法

1.本技术涉及光学成像技术领域，尤其涉及一种立体成像光学薄膜。


背景技术：

2.随着社会的发展技术的进步，基于微透镜的立体成像技术的应用从防伪已经延伸至印刷包装领域，并成为印刷包装行业研发的热点，对于动态立体防伪图像的研究具有重要科学及实践意义，但目前面临技术成熟度不高、图案变化单一以及难以实现快速制备等问题。
3.现有技术中光学成像的效果主要难题就是在制备聚焦结构与图文结构之间的对准，双面对准的的精度比较难到达预期的效果，例如图1中的立体成像光学薄膜，包括pet基底100、uv胶层110、图文结构200以及聚焦结构300，所述pet基底100包括第一表面以及第二表面，所述聚焦结构300设于所述pet基底100的第一表面，所述uv胶层110设于所述pet基底100的第二表面，所述uv胶层110远离所述pet基底100的一侧设有凹槽结构，所述凹槽结构中设有油墨，形成图文结构200，所述图文结构200还可以是凸起结构，该种结构聚焦结构300与图文结构200位于所述pet基底100两侧，需要进行对准，只要对准的精度不够，所形成的立体成像效果较差，而且由于需要对准，生产效率较低、良率也会比较低，所以所制备的成像光学薄膜成本也比较高。
4.基于上述问题，有必要提出一种立体成像光学薄膜来解决现有技术中存在的技术问题。


技术实现要素：

5.基于此，有必要提供一种立体成像光学薄膜以解决上述的技术问题。
6.本技术一个技术方案是：
7.一种立体成像光学薄膜，其特征在于，包括：
8.透明基材，所述透明基材包括第一表面以及相对设置的第二表面；
9.聚焦结构，所述聚焦结构设于所述透明基材第一表面，所述聚焦结构包括若干聚焦单元；
10.图文结构，所述图文结构包括若干图文单元，所述图文单元为凹槽结构，所述图文单元设于所述聚焦单元表面，且所述聚焦单元与所述图文单元为一体结构。
11.在其中一实施例中，所述若干聚焦单元中至少存在一个所述聚焦单元表面不设有图文结构，且未设有图文结构的所述聚焦单元数量不大于聚焦单元总数量的20%。
12.在其中一实施例中，所述图文单元在所述聚焦单元所占面积与所述聚焦单元表面总面积之比不大于40%；或者，所述图文单元在所述聚焦单元所占面积与所述聚焦单元表面总面积之比不大于20%。
13.在其中一实施例中，所述透明基材第一表面设于聚合物层，所述聚焦结构位于所述聚合物层远离所述透明基材的一侧。
14.在其中一实施例中，形成所述图文单元的凹槽结构的宽度不大于所述聚焦单元宽度的五分之一。
15.在其中一实施例中，所述凹槽结构的深度小于所述聚焦单元的高度；或者所述凹槽结构的深度等于所述聚焦单元的高度。
16.在其中一实施例中，所述聚焦单元连续设置，或者所述聚焦单元间隔设置，且所述间隔不大于所述聚焦单元的宽度。
17.在其中一实施例中，还设有反射层，所述反射层设于所述聚焦结构远离所述透明基材一侧，所述反射层覆盖所述聚焦单元以及所述图文单元。
18.在其中一实施例中，所述反射层的外表形貌与所述聚焦单元以及所述图文单元的形貌相仿。
19.在其中一实施例中，所述凹槽结构中填充设有有色材料。
20.本技术的有益效果：本技术提供的一种立体成像光学薄膜，所述聚焦结构与所述图文结构为一体结构，将图文结构设于所述聚焦结构上，这样的结构由于聚焦结构与图文结构为一体，所以不需要在进行对准，更加容易制备，工艺也比现有技术中结构的工艺简单。
附图说明
21.图1为现有技术一种成像光学薄膜的截面结构示意图；
22.图2为本技术一种立体成像光学薄膜截面结构示意图；
23.图3为本技术一种立体成像光学薄膜截面另一结构示意图；
24.图4为本技术一种立体成像光学薄膜截面另一结构示意图；
25.图5为本技术一种立体成像光学薄膜截面另一结构示意图；
26.图6为本技术一种立体成像光学薄膜截面另一结构示意图；
27.图7为本技术一种立体成像光学薄膜截面另一结构示意图。
具体实施方式
28.为了便于理解本技术，下面将参照相关附图对本技术进行更全面的描述。附图中给出了本技术的较佳实施方式。但是，本技术可以通过许多不同的形式来实现，并不限于下面所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本技术的公开内容理解的更加透彻全面。
29.需要说明的是，当元件被称为“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
30.除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“和／或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
31.一种立体成像光学薄膜，所述立体成像光学薄膜可以使用与包装、防伪、电子器
件、卡片等产品上，起到装饰、防伪等作用；所述立体成像光学薄膜包括：
32.透明基材，所述透明基材包括第一表面以及相对设置的第二表面；所述透明基材可以是pet、pc、pmma、pe、pi等透明材质的聚合物材料，当然，所述透明基材还可以是几种叠加形成的复合板；
33.聚焦结构，所述聚焦结构设于所述透明基材第一表面，所述聚焦结构包括若干聚焦单元；所述聚焦单元随机或者阵列设置于所述透明基材第一表面，所述聚焦单元为微透镜，所述微透镜的直径大于20微米且小于1000微米；和/或，所述微透镜的焦距为10微米至2000微米；所述微透镜可以通过压印的方式形成于所述透明基材第一表面，或者所述微透镜通过喷墨打印在热熔成型的方式形成于所述透明基材第一表面；所述微透镜占所述透明基材第一表面总面积的70％以上，所述微透镜之间间隔设置或者连续设置，所谓连续设置即至少存在两个微透镜之间紧密或间隔小于20微米；所述微透镜可以由光固化或者热固化聚合物构成，例如uv胶等；在其中一实施例中，所述聚焦单元连续设置，或者所述聚焦单元间隔设置，且所述间隔不大于所述聚焦单元的宽度。
34.图文结构，所述图文结构包括若干图文单元，所述图文单元为凹槽结构，所述图文单元设于所述聚焦单元表面，且所述聚焦单元与所述图文单元为一体结构；所述凹槽结构直接设于所述聚焦单元表面，可以通过压印或者光刻的方式在所述聚焦单元形成凹槽结构，这样所述图文单元与所述聚焦单元设置在一起的，其中，一个完成的图文单元可以能需要在设置在若干个聚焦单元上，即所述聚焦单元上设置的为部分所述图文单元。
35.该种结构的立体成像光学薄膜聚焦单元可以对图文结构进行成像，这样结构的立体成像光学薄膜聚焦单元与图文单元一体结构，这样就无需对所述聚焦单元与所述图文单元进行对准，可以很大程度提高生产效率以及产品的良率，可以大大的节约成本。
36.在其中一实施例中，所述若干聚焦单元中至少存在一个所述聚焦单元表面不设有图文结构，且未设有图文结构的所述聚焦单元数量不大于聚焦单元总数量的20%；即在所述透明基材第一表面的全部所述聚焦单元，存在若干所述聚焦单元表面为光滑结构，不设有所述图文单元，但是该种没有设有图文单元的聚焦单元，不能大于聚焦单元总数量的20%，或者是不能大于聚焦单元总数量的10%，当然未设有图文结构的聚焦单元越少越有利于立体成像光学薄膜的成像，所述聚焦结构中还是至少存在一个或若干未设有图文单元的聚焦单元。
37.在其中一实施例中，所述图文单元在所述聚焦单元所占面积与所述聚焦单元表面总面积之比不大于40%；或者，所述图文单元在所述聚焦单元所占面积与所述聚焦单元表面总面积之比不大于20%；所述立体成像光学薄膜取样、成像主要通过聚焦结构，该结构是将图文单元设于所述聚焦单元表面，这样需要保障所述聚焦单元的取样、成像功能，所以，所述聚焦单元上的凹槽结构的占比需要一定的控制，例如，以单个聚焦单元为例，一个聚焦单元的表面积为s，所述聚焦单元所设置的凹槽结构的开口的总面积为n，n与s的比值不大于0.4。
38.在其中一实施例中，所述透明基材第一表面设于聚合物层，所述聚焦结构位于所述聚合物层远离所述透明基材的一侧，所述聚合物层的材料可以是光固化材料或者热固化材料，例如uv胶，所述聚焦结构可以通过压印、光刻等方式形成，且构成所述聚集结构的聚焦单元底部距离所述透明基材具有一定的厚度距离，即相当于所述聚焦单元底部具有一定
的残胶，所述残胶的厚度不大于30微米。
39.在其中一实施例中，形成所述图文单元的凹槽结构的宽度不大于所述聚焦单元宽度的五分之一。在其中一实施例中，所述凹槽结构的深度小于所述聚焦单元的高度；或者所述凹槽结构的深度等于所述聚焦单元的高度。所述凹槽结构的宽度正常情况可以做到2微米，当然在不同的使用领域，所述凹槽结构的宽度可以更宽，例如所述凹槽结构宽度为10微米，或者所述凹槽结构宽度为30微米；所述凹槽结构的深度会不同，因为在同一个所述聚焦单元不同位置时，所述凹槽结构的深度会不同；但是所述凹槽结构的最深的可以等于所述聚焦单元的高度，相当于存在所述凹槽结构贯穿所述聚焦单元。
40.在其中一实施例中，还设有反射层，所述反射层设于所述聚焦结构远离所述透明基材一侧，所述反射层覆盖所述聚焦单元以及所述图文单元。在其中一实施例中，所述反射层的外表形貌与所述聚焦单元以及所述图文单元的形貌相仿。所述反射层可以具有一定的透过率，或者所述反射层可以是全反射，所述反射层可以是通过镀膜、磁控溅射等方式形成，这样所述反射层的形貌与所述聚焦单元及图文单元形貌相仿，或者所述反射层可以通过喷墨打印、喷涂的方式形成于所述聚焦结构一侧，所述反射层远离所述透明基材的一侧为一平面。
41.在其中一实施例中，所述凹槽结构中填充设有有色材料；所述凹槽结构中填设油墨等有色材料形成所述图文单元。
42.请参阅图2，一种立体成像光学薄膜，包括透明基材10、图文结构以及聚焦结构，所述透明基材10包括第一表面以及相对设置的第二表面，所述聚焦结构包括若干聚焦单元30，所述聚焦结构设于所述透明基材10的第一表面，所述图文结构包括若干图文单元，所述图文单元由凹槽结构20构成，所述凹槽结构20设于所述聚焦结构的聚焦单元30表面，所述透明基材10可以是pet、pc、pmma、玻璃等材质，所述聚焦结构的材料可以是uv胶等光固化胶，所述凹槽结构20的深度小于所述聚焦单元的高度，所述凹槽结构20中至少存在一凹槽结构20底部与所述透明基材10之间存在残胶，即所述凹槽结构20底部与所述透明基材10之间具有一定的距离，所述距离不小于1微米。
43.请参阅图3，一种立体成像光学薄膜，包括透明基材10、图文结构以及聚焦结构，所述透明基材10包括第一表面以及相对设置的第二表面，所述聚焦结构包括若干聚焦单元30，所述聚焦结构设于所述透明基材10的第一表面，所述图文结构包括若干图文单元，所述图文单元由凹槽结构20构成，所述凹槽结构20设于所述聚焦结构的聚焦单元30表面，所述透明基材10的第一表面至少还存在一聚焦单元31（未设有凹槽结构的聚焦单元），所述聚焦单元31与所述聚焦单元30的区别就是一个设有凹陷结构20，一个没有设有凹陷结构20，所述聚焦结构中至少存在若干未设有凹槽结构20的聚焦单元31，且该种未设有凹槽结构20的聚焦单元31数量越少越好，所占比例不超过聚焦结构总数的20%。
44.请参阅图4，一种立体成像光学薄膜，一种立体成像光学薄膜，包括透明基材10、图文结构以及聚焦结构，所述图文结构包括若干图文单元，所述图文单元由凹槽结构21构成，所述凹槽结构21穿透所述聚焦单元30，所述凹槽结构21的底部直接为所述透明基材10的表面。
45.请参阅图5以及图6，一种立体成像光学薄膜，在图2的基础上，所述聚焦结构远离所述透明基材一侧设于反射层40，所述反射层40的形貌与所述图文单元以及聚焦单元30相
仿，所述反射层40可以通过镀膜、磁控溅射等方式形成于所述聚焦结构一侧，所述反射层40可以透过，也可以是全反射的。如图5所示，所述聚焦结构远离所述透明基材一侧设于反射层41，所述反射层41覆盖所述图文单元以及聚焦单元30，所述反射层41远离所述透明基材10一侧表面为平面结构，这当反射层不透过时，所述成像光学薄膜的观察者可以在所述透明基材第二表面看到立体的成像；当所述反射层透过或者成像光学薄膜为透过时，观察者可以从所述聚焦结构一侧看到立体成像。
46.请参阅图7，一种立体成像光学薄膜，包括透明基材10、聚合物层11、图文结构以及聚焦结构，所述透明基材10包括第一表面以及相对设置的第二表面，所述聚合物层11设于所述透明基材10的第一表面；所述聚焦结构包括若干聚焦单元30，所述聚焦结构设于所述聚合物层11远离所述透明基材10的一侧，所述图文结构包括若干图文单元，所述图文单元由凹槽结构20构成，所述凹槽结构20设于所述聚焦结构的聚焦单元30表面，所述透明基材10的第一表面至少还存在一聚焦单元31（未设有凹槽结构的聚焦单元）；所述聚焦单元30以及聚焦单元31的底部与所述透明基材10表面具有一定距离，所述距离不小于1微米。
47.本技术提供的一种立体成像光学薄膜，所述聚焦结构与所述图文结构为一体结构，将图文结构设于所述聚焦结构上，这样的结构由于聚焦结构与图文结构为一体，所以不需要在进行对准，更加容易制备，工艺也比现有技术中结构的工艺简单。
48.为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，上面结合附图对本技术的具体实施方式做详细的说明。在上面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术。但是本技术能够以很多不同于上面描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似改进，因此本技术不受上面公开的具体实施例的限制。并且，以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
49.以上所述实施例仅表达了本技术的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本技术专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本技术的保护范围。因此，本技术专利的保护范围应以所附权利要求为准。