化合物的制作方法

技术特征：
1.一种化合物，其包含具有式(x)所示的局部结构的阴离子，式(x)中，环w1表示具有至少一个取代基的环结构。2.根据权利要求1所述的化合物，其中，具有式(x)所示的局部结构的阴离子为式(i)所示的阴离子～式(viii)所示的阴离子中的任一种，
式中，环w1表示与上文相同的含义，环w2、环w3、环w4、环w5、环w6、环w7、环w8、环w9、环w
10
、环w
11
、环w
12
、环w
13
和环w
14
各自独立地表示环结构，该环结构任选具有取代基，r1、r2、r4、r5、r
12
、r
14
、r
15
、r
22
、r
24
、r
25
、r
32
、r
34
、r
35
、r
42
、r
44
、r
45
、r
52
、r
54
、r
55
、r
62
、r
64
、r
65
、r
71
、r
72
、r
74
、r
75
、r
81
、r
82
、r
84
、r
85
、r
91
、r
92
、r
94
、r
95
、r
101
、r
102
、r
104
、r
105
、r
111
、r
112
、r
114
、r
115
、r
121
、r
122
、r
124
、r
125
、r
131
、r
132
、r
134
和r
135
各自独立地表示吸电子性基团，r3表示1价的取代基，r
13
、r
23
、r
33
、r
43
、r
53
、r
63
和r
133
表示1价的取代基，
r1与r2任选相互连接而形成环，r2与r3任选相互连接而形成环，r3与r4任选相互连接而形成环，r4与r5任选相互连接而形成环，r
12
与r
13
任选相互连接而形成环，r
13
与r
14
任选相互连接而形成环，r
14
与r
15
任选相互连接而形成环，r
22
与r
23
任选相互连接而形成环，r
23
与r
24
任选相互连接而形成环，r
24
与r
25
任选相互连接而形成环，r
32
与r
33
任选相互连接而形成环，r
33
与r
34
任选相互连接而形成环，r
34
与r
35
任选相互连接而形成环，r
42
与r
43
任选相互连接而形成环，r
43
与r
44
任选相互连接而形成环，r
44
与r
45
任选相互连接而形成环，r
52
与r
53
任选相互连接而形成环，r
53
与r
54
任选相互连接而形成环，r
54
与r
55
任选相互连接而形成环，r
62
与r
63
任选相互连接而形成环，r
63
与r
64
任选相互连接而形成环，r
64
与r
65
任选相互连接而形成环，r
71
与r
72
任选相互连接而形成环，r
74
与r
75
任选相互连接而形成环，r
81
与r
82
任选相互连接而形成环，r
84
与r
85
任选相互连接而形成环，r
91
与r
92
任选相互连接而形成环，r
94
与r
95
任选相互连接而形成环，r
101
与r
102
任选相互连接而形成环，r
104
与r
105
任选相互连接而形成环，r
111
与r
112
任选相互连接而形成环，r
114
与r
115
任选相互连接而形成环，r
121
与r
122
任选相互连接而形成环，r
124
与r
125
任选相互连接而形成环，r
131
与r
132
任选相互连接而形成环，r
132
与r
133
任选相互连接而形成环，r
133
与r
134
任选相互连接而形成环，r
134
与r
135
任选相互连接而形成环，r
x1
、r
x4
和r
x7
各自独立地表示单键或2价的连接基团，
r
x2
和r
x5
各自独立地表示3价的连接基团，r
x3
和r
x6
各自独立地表示4价的连接基团。3.根据权利要求2所述的化合物，其中，r3为吸电子性基团。4.根据权利要求2或3所述的化合物，其中，选自r1、r2、r3、r4和r5中的至少一个为氰基、硝基、卤代烷基、卤代芳基、-co-r1、-co-o-r2、-co-nr3r
3k
、-co-s-r4、-cs-r5、-cs-o-r6、-cs-s-r7、-so-r8、-so
2-r9、-ocf3、-scf3、-sf5、-sf3、-so2h或-so3h，其中，r1、r2、r3、r
3k
、r4、r5、r6、r7、r8和r9各自独立地表示任选具有取代基的烃基或卤素原子。5.根据权利要求2～4中任一项所述的化合物，其中，选自r1、r2、r3、r4和r5中的至少一个为氰基、硝基、-co-r1、-co-o-r2、-so
2-r9、-sf5、-sf3、-so3h、-so2h、-ocf3或-scf3，其中，r1、r2和r9各自独立地表示任选具有取代基的烃基或卤素原子。6.根据权利要求2～5中任一项所述的化合物，其中，选自r1、r2、r3、r4和r5中的至少一个为氰基或硝基。7.根据权利要求1～6中任一项所述的化合物，其在波长400nm～波长550nm之间显示出极大吸收。8.根据权利要求1～7中任一项所述的化合物，其在极大吸收波长处的克分子吸光系数为0.5以上。9.根据权利要求1～8中任一项所述的化合物，其满足下述式(a)，ε(λ
max
)/ε(λ
max
30nm)≥5
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(a)式中，ε(λmax)表示极大吸收波长λ
max
处的克分子吸光系数，ε(λ
max
30nm)表示极大吸收波长λ
max
30nm的波长处的克分子吸光系数，需要说明的是，克分子吸光系数的单位为l/(g
·
cm)。10.一种组合物，其包含权利要求1～9中任一项所述的化合物。11.一种成形物，其是将权利要求10所述的组合物成形而成的。12.根据权利要求11所述的成形物，其在波长440nm处的透射率为50％以下。

技术总结
本发明提供一种充分吸收波长440nm附近的光且耐候性高的新型化合物。一种化合物，其包含具有式(X)所示的局部结构的阴离子。[式(X)中，环W1表示具有至少一个取代基的环结构。环W1优选为碳原子数5～7的环。]。]。]。


技术研发人员：浅津悠司 久门浩司 西上由纪
受保护的技术使用者：东友精细化工有限公司
技术研发日：2021.03.29
技术公布日：2022/12/5