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一种滤光片识别装置的制作方法

2023-02-15 19:37:55 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种滤光片识别装置,其特征在于,包括:模拟器光路,用于产生平行光,所述平行光经过待测滤光片后经过反射镜反射后从出光口射出;第一紫外辐照强度采样模块,置于所述反射镜的后方,用于检测透过所述反射镜的紫外光谱信号;第二紫外辐照强度采样模块,置于所述反射镜的后方,用于检测透过所述反射镜的紫外光谱信号;其中,所述第二紫外辐照强度采样模块的采样范围包含所述第一紫外辐照强度采样模块的采样范围;单片机模块,用于接收所述第一紫外辐照强度采样模块和第二紫外辐照强度采样模块的输出值,并根据所述第一紫外辐照强度采样模块和第二紫外辐照强度采样模块的输出值,判断所述待测滤光片的类型,以及确定所述待测滤光片是否为异常。2.根据权利要求1所述的滤光片识别装置,其特征在于,所述模拟器光路包括光源、反光碗和匀光装置,所述光源发出的光经过所述反光碗汇聚至所述匀光装置,所述匀光装置用于将汇聚后的光形成平行光,并照射至所述待测滤光片。3.根据权利要求2所述的滤光片识别装置,其特征在于,所述光源为短弧氙灯。4.根据权利要求1所述的滤光片识别装置,其特征在于,所述反射镜镀有高反膜使得紫外光的反射率不低于90%。5.根据权利要求1所述的滤光片识别装置,其特征在于,所述第一紫外辐照强度采样模块包括第一硅光二极管传感器和第一运算放大电路,所述第一硅光二极管传感器的感光面正对所述反射镜的后方中心位置,所述第一硅光二极管传感器的输出端与所述第一运算放大电路的输入端相连,所述第一运算放大电路的输出端与所述单片机模块的输入端相连。6.根据权利要求5所述的滤光片识别装置,其特征在于,所述第一硅光二极管传感器的波长响应范围为200nm-370nm。7.根据权利要求1所述的滤光片识别装置,其特征在于,所述第二紫外辐照强度采样模块包括第二硅光二极管传感器和第二运算放大电路,所述第二硅光二极管传感器的感光面正对所述反射镜的后方中心位置,所述第二硅光二极管传感器的输出端与所述第二运算放大电路的输入端相连,所述第二运算放大电路的输出端与所述单片机模块的输入端相连。8.根据权利要求7所述的滤光片识别装置,其特征在于,所述第二硅光二极管传感器的波长响应范围为200nm-400nm。

技术总结
本实用新型涉及一种滤光片识别装置,包括:模拟器光路,用于产生平行光,所述平行光经过待测滤光片后经过反射镜反射后从出光口射出;第一紫外辐照强度采样模块和第二紫外辐照强度采样模块,均置于所述反射镜的后方,用于检测透过所述反射镜的紫外光谱信号;其中,所述第二紫外辐照强度采样模块的采样范围包含所述第一紫外辐照强度采样模块的采样范围;单片机模块,用于接收所述第一紫外辐照强度采样模块和第二紫外辐照强度采样模块的输出值,并根据所述第一紫外辐照强度采样模块和第二紫外辐照强度采样模块的输出值,判断所述待测滤光片的类型,以及确定所述待测滤光片是否为异常。本实用新型能够有效识别出滤光片的类型。本实用新型能够有效识别出滤光片的类型。本实用新型能够有效识别出滤光片的类型。


技术研发人员:施庆喜 万俊超 杨智勇
受保护的技术使用者:江苏希格玛医疗科技有限公司
技术研发日:2022.10.18
技术公布日:2023/2/13
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