加工装置的制作方法

技术特征：
1.一种加工装置，其具备：差动排气装置，其具备头部，该头部相对于被处理基板的被处理面而与该被处理面的任意区域对置，在所述头部中的与所述被处理面对置的对置面形成有多个环状槽，该多个环状槽围绕所述头部的中心，在所述头部的比所述多个环状槽中的最内侧的所述环状槽靠内侧的区域设置有开口部，该开口部形成能够对所述被处理面进行处理的处理用空间，在多个所述环状槽中的至少一个所述环状槽连结真空泵，在使所述对置面与所述被处理面对置的状态下，通过来自所述环状槽的吸气作用来将所述处理用空间设为高真空度；以及聚焦离子束柱状体，其配置在所述头部中的与所述对置面相反的一侧，具备与所述开口部连结而能够与所述处理用空间连通的镜筒，在所述镜筒内内置有聚焦离子束光学系统而使聚焦离子束穿过所述开口部内来射出，在最内侧的所述环状槽连结有原料气体供给部，从该环状槽朝向所述被处理面喷出原料气体而能够使原料气体沿着该被处理面向所述处理用空间移动。2.根据权利要求1所述的加工装置，其中，所述头部具备头部主体和槽形成板，该槽形成板安装在该头部主体中的与所述被处理基板对置的一侧的面，所述槽形成板中的与所述被处理基板对置的面是所述对置面。3.根据权利要求2所述的加工装置，其中，在所述头部主体的与所述被处理基板对置的一侧的面的轮廓内呈岛状配置所述槽形成板，将由所述头部主体的与所述被处理基板对置的一侧的面和所述槽形成板的外周部形成的台阶部设为锥形形状。4.根据权利要求2所述的加工装置，其中，在所述头部主体的与所述被处理基板对置的一侧的面的轮廓内呈岛状配置所述槽形成板，将由所述头部主体的与所述被处理基板对置的一侧的面和所述槽形成板的外周部形成的台阶部的肩部设为倒圆角部。5.根据权利要求2～4中任一项所述的加工装置，其中，所述槽形成板由多个环状板构成，该多个环状板配置为围绕所述头部的中央。6.根据权利要求1～5中任一项所述的加工装置，其中，在所述镜筒的前端部内配置有微通道板，在所述微通道板上形成有供所述聚焦离子束通过的离子束通过口，将所述微通道板的所述离子束通过口的周边作为能够捕获从所述被处理基板产生的二次带电粒子的检测部。7.根据权利要求1～6中任一项所述的加工装置，其中，所述加工装置具备光学显微镜，该光学显微镜对形成于所述被处理基板的校准标记进行检测。8.根据权利要求1～7中任一项所述的加工装置，其中，所述加工装置在所述头部的附近隔开偏置距离而具备观察用显微镜，所述观察用显微镜用于观察所述被处理基板的被处理区域。9.根据权利要求1～8中任一项所述的加工装置，其中，
所述加工装置具备多个所述聚焦离子束柱状体，所述聚焦离子束柱状体在前端部具备所述差动排气装置，各所述聚焦离子束柱状体以与将所述被处理基板的所述被处理面分割为多个的区域分别对置的方式配置。10.根据权利要求1～9中任一项所述的加工装置，其中，固定所述被处理基板的位置，使在前端部设置所述差动排气装置的所述聚焦离子束柱状体能够相对于所述被处理基板在x－y方向上移动。

技术总结
加工装置具备：差动排气装置，其在头部中的与被处理基板对置的面形成有多个环状槽，该多个环状槽围绕所述头部的中心，在比所述多个环状槽中的最内侧的所述环状槽靠内侧的区域设置有开口部，该开口部形成能够对所述被处理面进行处理的处理用空间，在多个所述环状槽中的至少一个所述环状槽连结真空泵，在使所述对置面与所述被处理面对置的状态下，通过来自所述环状槽的吸气作用将所述处理用空间设为高真空度；以及聚焦离子束柱状体，其具备与所述开口部连结而能够与所述处理用空间连通的镜筒，在所述镜筒内内置有聚焦离子束光学系统而使聚焦离子束穿过所述开口部内而射出，在最内侧的所述环状槽连结原料气体供给部，从该环状槽朝向所述被处理面喷出原料气体而能够使原料气体沿着该被处理面向所述处理用空间移动。料气体沿着该被处理面向所述处理用空间移动。料气体沿着该被处理面向所述处理用空间移动。


技术研发人员：水村通伸 新井敏成 松本隆德 竹下琢郎
受保护的技术使用者：株式会社V技术
技术研发日：2021.05.31
技术公布日：2022/12/8