一种抗紫外复合膜及其在显示模组产品中的应用的制作方法

1.本发明涉及显示模组产品技术领域，尤其涉及一种抗紫外复合膜及其在显示模组产品中的应用。


背景技术：

2.显示模组产品耐uv能力差，已经成为影响其应用的最大问题。
3.目前提高显示模组产品耐uv能力的方法一般为覆盖紫外截止膜或抗uv光学贴合膜。
4.其中，紫外截止膜需要至少30层堆叠膜层，工艺较为复杂，成本较高、膜层较厚，且如果面积较大情况下，产品整体的色差严重，因此该技术主要应用于小尺寸、更精、更高的光学玻璃上，大面积的镀制由于色差，会影响模组产品的显示效果。
5.抗uv光学贴合膜是在产品表面帖覆抗uv的film保护膜，film保护膜硬度低容易被划伤，并且由于是采用硅胶、pu胶等材料作为帖覆层，有机材料易老化，寿命低。


技术实现要素：

6.有鉴于此，本发明要解决的技术问题在于提供一种抗紫外复合膜及其在显示模组产品中的应用，可以提高显示模组的抗uv能力。
7.本发明提供了一种抗紫外复合膜，依次包括：第一干涉膜层、第二干涉膜层、第三干涉膜层、透明基板和无机吸收层；
8.所述第一干涉膜层在550nm对黄光进行增透；
9.所述第二干涉膜层在400nm对可见光波段紫光进行增透；
10.所述第三干涉膜层在330～380nm对紫外光进行增反；
11.所述无机吸收层在290～330nm对紫外光进行吸收。
12.本发明提供了一种显示模组，所述显示模组的表面贴合有上述抗紫外复合膜。
13.与现有技术相比，本发明设置了3个光学膜干涉层，第一干涉膜层在550nm对眼球最为敏感的黄光进行增透，第二干涉膜层在400nm对可见光波段的紫光进行增透，第三干涉膜层在330～380nm对紫外光进行增反，利用不同的频谱区间设计光学膜层，达到增加可见光透过，减少紫外光透过的目的。进一步的，在基板下表面镀制无机吸收层，增加对短波紫外光的吸收。通过增反、吸收两种方式减小紫外光对模组产品的影响。制备的复合膜可以起到较好的增透可见光、增反紫外光的作用。
附图说明
14.图1是本发明提供的显示模组的结构示意图；
15.图2是本发明提供的显示模组的结构示意图；
16.图3为本发明提供的抗紫外复合膜的光路示意图；
17.图4为1.3mm玻璃基板镀膜前后的光谱曲线图对比；
18.图5为0.5mm与1.0mm玻璃基板镀膜后的光谱曲线图对比。
具体实施方式
19.本发明提供了一种抗紫外复合膜，依次包括：第一干涉膜层、第二干涉膜层、第三干涉膜层、透明基板和无机吸收层；
20.所述第一干涉膜层在550nm对黄光进行增透；
21.所述第二干涉膜层在400nm对可见光波段紫光进行增透；
22.所述第三干涉膜层在330～380nm对紫外光进行增反；
23.所述无机吸收层在290～330nm对紫外光进行吸收。
24.可选的，所述第一干涉膜层包括一层或多层高折射率膜和一层或多层低折射率膜；
25.所述高折射率膜和低折射率膜交替设置。
26.可选的，所述第一干涉膜层的总厚度为200～880nm。
27.进一步的，所述第一干涉膜层的总厚度为580～800nm。
28.可选的，第一干涉膜层中高折射率膜的单层厚度为25.34-149.36nm，低折射率膜的单层厚度为42.25-115.35nm。
29.可选的，所述第二干涉膜层包括一层或多层高折射率膜和一层或多层低折射率膜；
30.所述高折射率膜和低折射率膜交替设置。
31.可选的，所述第二干涉膜层的总厚度为120～550nm。
32.进一步的，所述第二干涉膜层的总厚度为400～480nm。
33.可选的，第二干涉膜层中高折射率膜的单层厚度为15.86-142.71nm，低折射率膜的单层厚度为35.46-107.45nm。
34.所述第二干涉膜层主要对400nm可见光波段紫光增透，对420-450的蓝光无增透作用。
35.可选的，所述第三干涉膜层包括一层或多层高折射率膜和一层或多层低折射率膜；
36.所述高折射率膜和低折射率膜交替设置。
37.可选的，所述第三干涉膜层的总厚度为120～350nm。
38.进一步的，所述第三干涉膜层的总厚度为280～330nm。
39.可选的，第三干涉膜层中高折射率膜的单层厚度为18-50nm，低折射率膜的单层厚度为40-110nm。
40.可选的，所述高折射率膜的材料选自sin、tio2、zro2、al2o3、sio
x
ny、nb2o5、ta2o5、sno2和zno中的一种或多种。
41.可选的，所述低折射率膜的材料选自sio2、mgf2中的一种或多种。
42.在一些具体实施例中，所述第一干涉膜层包括1～3组低折射率膜-高折射率膜组成的交替膜层；
43.所述低折射率膜的材料选自sio2、mgf2中的一种；
44.所述高折射率膜的材料选自sin、tio2、al2o3、sio
x
ny、nb2o5中的一种。
45.在一些具体实施例中，所述第一干涉膜层包括2～3组低折射率膜-高折射率膜组成的交替膜层；
46.所述低折射率膜的材料选自sio2；
47.所述高折射率膜的材料选自sin或al2o3。
48.可选的，所述第一干涉膜层的总厚度为580～800nm。
49.在一些具体实施例中，所述第一干涉膜层包括3组sio
2-sin组成的交替膜层。可选的，其总厚度为770～800nm。具体可以为770、780、790或800nm。
50.在一些具体实施例中，所述第一干涉膜层包括2组sio
2-sin组成的交替膜层。可选的，其总厚度为580～600nm。具体可以为580、590或600nm。
51.在一些具体实施例中，所述第一干涉膜层包括3组sio
2-al2o3组成的交替膜层。可选的，其总厚度为680～700nm。具体可以为680、690或700nm。
52.在一些具体实施例中，所述第一干涉膜层包括2组sio
2-al2o3组成的交替膜层。可选的，其总厚度为650～670nm。具体可以为650、660或670nm。
53.可选的，所述第二干涉膜层包括1～2组低折射率膜-高折射率膜组成的交替膜层；
54.所述低折射率膜的材料选自sio2；
55.所述高折射率膜的材料选自sin、tio2、zro2、al2o3、zno、sio
x
ny、nb2o5、ta2o5、sno2和zno中的一种。
56.可选的，所述第二干涉膜层包括2组低折射率膜-高折射率膜组成的交替膜层；
57.所述低折射率膜的材料选自sio2；
58.所述高折射率膜的材料选自sin、tio2或sio
x
ny。
59.可选的，所述第二干涉膜层的总厚度为400～480nm。
60.在一些具体实施例中，所述第二干涉膜层包括2组sio
2-sin组成的交替膜层。可选的，其总厚度为420～480nm。具体可以为420、430、440、450、460、470或480nm。
61.在一些具体实施例中，所述第二干涉膜层包括2组sio
2-sio
x
ny组成的交替膜层。可选的，其总厚度为400～420nm。具体可以为400、410或420nm。
62.在一些具体实施例中，所述第二干涉膜层包括2组sio
2-tio2组成的交替膜层。可选的，其总厚度为400～420nm。具体可以为400、410或420nm。
63.所述第二干涉膜层的设置可以增加对可见光波段紫光透射，防止紫外增反膜层干涉漂移对380-420nm的可见光产生反射作用，防止可见光失真。
64.可选的，所述第三干涉膜层包括1～2组低折射率膜-高折射率膜组成的交替膜层；
65.所述低折射率膜的材料选自sio2；
66.所述高折射率膜的材料选自sin、tio2、zro2、al2o3、zno、sio
x
ny、nb2o5、ta2o5、sno2和zno中的一种。
67.可选的，所述第三干涉膜层包括2组低折射率膜-高折射率膜组成的交替膜层；
68.所述低折射率膜的材料选自sio2；
69.所述高折射率膜的材料选自tio2或nb2o5。
70.可选的，所述第三干涉膜层的总厚度为280～330nm。
71.在一些具体实施例中，所述第三干涉膜层包括2组sio
2-tio2组成的交替膜层。可选的，其总厚度为280～310nm。具体可以为280、290、300或310nm。
72.在一些具体实施例中，所述第三干涉膜层包括2组sio
2-nb2o5组成的交替膜层。可选的，其总厚度为280～330nm。具体可以为280、290、300、310、320或330nm。
73.本发明中，所述第一干涉膜层、第二干涉膜层、第三干涉膜层依次设置，且整体为低折射率膜和高折射率膜交替设置。即按照由外层到内层的方向，第一干涉膜层、第二干涉膜层、第三干涉膜层均为低折射率膜-高折射率膜组，且第一干涉膜层的最后一层高折射率膜与第二干涉膜层的第一层低折射率膜接触，第二干涉膜层的最后一层高折射率膜与第三干涉膜层的第一层低折射率膜接触，第三干涉膜层的最后一层高折射率膜与透明基板接触。所述透明基板的另一侧与无机吸收层接触。
74.可选的，所述透明基板为玻璃、pc或pmma。
75.可选的，所述透明基板的厚度为0.5-10mm。
76.可选的，所述无机吸收层由tio2、ceo2、zno、掺氮zno材料中的一种或多种形成。
77.可选的，所述无机吸收层的厚度为150-500nm。
78.可选的，所述无机吸收层的厚度为150-300nm。
79.上述无机吸收层禁带宽度低，在小于360nm光照射时发生电子跃迁，可以吸收短波紫外光，辐射长波光子，防止显示失真，进一步提高了整个产品的透过率。
80.本发明中，所述第一干涉膜层、第二干涉膜层、第三干涉膜层均通过物理气相沉积(pvd)工艺镀制，形成的膜层硬度大、附着力强，寿命长。
81.可选的，所述pvd工艺的温度为220℃～280℃。
82.可选的，镀制第一干涉膜层的工艺为：o2流量为20～80sccm、n2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa。
83.可选的，镀制第二干涉膜层的工艺为：o2流量为100～130sccm、n2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间。
84.可选的，镀制第三干涉膜层的工艺为：o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间。
85.可选的，镀制无机吸收层的工艺为：o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间。
86.试验结果表明，本发明提供的抗紫外复合膜可以达到90％以上的紫外吸收能力。
87.本发明提供了一种显示模组，所述显示模组的表面贴合有上述抗紫外复合膜。
88.可选的，所述抗紫外复合膜的无机吸收层通过光学贴合胶和显示模组贴合。
89.可选的，所述光学贴合胶为抗紫外光学贴合胶。
90.可选的，所述显示模组和抗紫外复合膜中间设置有传感器。
91.可选的，所述抗紫外复合膜的无机吸收层没有被光学贴合胶覆盖的部分设置有油墨层。
92.图1是本发明一些具体实施例提供的显示模组的结构示意图，其中，1-1为第一干涉膜层，1-2为第二干涉膜层，1-3为第三干涉膜层，1-4为透明基板，1-5为无机吸收层，1-6为油墨层，1-7为光学贴合胶，1-8为传感器，1-9为显示模组，1-10为复合膜。
93.图2是本发明另一些具体实施例提供的显示模组的结构示意图，其中，2-1为第一干涉膜层，2-2为第二干涉膜层，2-3为第三干涉膜层，2-4为透明基板，2-5为无机吸收层，2-6为油墨层，2-7为光学贴合胶，2-8为显示模组，2-9为复合膜。
94.图3为抗紫外复合膜的光路示意图，其中，ⅰ表示紫外光线，ⅱ表示可见光线，e表示总反射光，3-1为第一干涉膜层，3-2为第二干涉膜层，3-3为第三干涉膜层，3-4为透明基板，3-5为无机吸收层，3-6为油墨层，3-7为光学贴合胶，3-8为显示模组，3-9为复合膜，a、b、c、d、e表示每一结构层对紫外光的吸收量，曲线的粗细表示吸收量的多少。由图3可以看出，可见光ⅱ在第一干涉膜层、第二干涉膜层被增透，然后透过整个复合膜到达模组，紫外光ⅰ290-330nm短波部分，在第一干涉膜层、第二干涉膜层被少量吸收，第三干涉膜层主要吸收330-380nm波段紫外光，无机吸收层吸收大量290～330nm紫外光。
95.上述显示模组中，第一干涉膜层、第二干涉膜层、第三干涉膜层、透明基板和无机吸收层组合成为覆盖层，形成对紫外光具有反射、吸收功能的结构，光学贴合胶也具备一定的紫外吸收性能，从而避免/减少紫外光到达模组影响模组的寿命，可以极大提升产品耐uv性能。
96.为了进一步说明本发明，下面结合实施例对本发明提供的抗紫外复合膜及其在显示模组产品中的应用进行详细描述。
97.实施例1
98.在进行镀膜之前使用去离子水对玻璃基片进行清洗、吹干，然后上架装片镀(sio2 sin)3 (sio2 sio
x
ny)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 ceo2。采用立式全自动连续磁控溅射镀膜机进行镀膜，镀膜温度设置范围：220℃～280℃，镀膜室传动节拍：120秒；在第一腔室使用1个ti靶进行镀ceo2膜，ceo2溅射功率：8500w～12000w，o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，镀制厚度约175nm的ceo2膜层，在基板上形成玻璃基板 ceo2结构；在第二腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用3个ti靶进行镀tio2膜，其中si溅射功率8000w～15000w，tio2溅射功率：8000w～15000w，o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第三腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 tio2)2膜层厚度约280nm，在基板上形成(sio2 tio2)2 玻璃基板 ceo2结构；然后在第四腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用2个si靶进行镀sio
x
ny膜，其中si溅射功率8000w～15000w，sio
x
ny溅射功率：8500w～9000w，o2流量为100～130sccm、n2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第五腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 sio
x
ny)2膜层厚度约420nm，在基板上形成(sio2 sio
x
ny)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 ceo2结构；接着在第六腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用2个si靶进行镀sin膜，其中si溅射功率8000w～15000w，sin溅射功率：8500w～9000w，o2流量为20～80sccm、n2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第七、八腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 sin)3膜层厚度约770nm，在基板上形成(sio2 sin)3 (sio2 sio
x
ny)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 ceo2结构；透过率(550nm波长)为92.36％，290-380nm波长透过率为8.56％(340nm)，产品具有比较明显的可见光增透，紫外光吸收、截止的作用。在经过切割、丝印、贴合、性能测试等工序后，产品最终检验合格应用于显示模组上。
99.实施例2
100.在进行镀膜之前使用去离子水对玻璃基片进行清洗、吹干，然后上架装片镀(sio2 sin)3 (sio2 sio
x
ny)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 tio2。采用立式全自动连续磁控溅射镀膜机进行镀膜，镀膜温度设置范围：220℃～280℃，镀膜室传动节拍：100秒；在第一腔室使用1
个ti靶进行镀tio2膜，tio2溅射功率：8500w～12000w，o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，镀制厚度约150nm的tio2膜层，在基板上形成玻璃基板 tio2结构；在第二腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用3个ti靶进行镀tio2膜，其中si溅射功率8000w～15000w，tio2溅射功率：8000w～15000w，o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第三腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 tio2)2膜层厚度约310nm，在基板上形成(sio2 tio2)2 玻璃基板 tio2结构；然后在第四腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用2个si靶进行镀sio
x
ny膜，其中si溅射功率8000w～15000w，sio
x
ny溅射功率：8500w～9000w，o2流量为100～130sccm、n2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第五腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 sio
x
ny)2膜层厚度约400nm，在基板上形成(sio2 sio
x
ny)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 tio2结构；接着在第六腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用2个si靶进行镀sin膜，其中si溅射功率8000w～15000w，sin溅射功率：8500w～9000w，o2流量为20～80sccm、n2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第七、八腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 sin)3膜层厚度约780nm，在基板上形成(sio2 sin)3 (sio2 sio
x
ny)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 tio2结构；透过率(550nm波长)为93.86％；290-380nm波长透过率为4.56％(340nm)，产品具有比较明显的可见光增透，紫外光吸收、截止的作用。在经过切割、丝印、贴合、性能测试等工序后，产品最终检验合格之后，应用于显示模组上。
101.实施例3
102.在进行镀膜之前使用去离子水对玻璃基片进行清洗、吹干，然后上架装片镀(sio2 al2o3)2 (sio2 sin)2 (sio2 nb2o5)2 玻璃基板 tio2。采用立式全自动连续磁控溅射镀膜机进行镀膜，镀膜温度设置范围：220℃～280℃，镀膜室传动节拍：120秒；在第一腔室使用1个ti靶进行镀tio2膜，tio2溅射功率：8500w～12000w，o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，镀制厚度约230nm的tio2膜层，在基板上形成玻璃基板 tio2结构；在第二腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用3个nb靶进行镀nb2o5膜，其中si溅射功率8000w～15000w，nb2o5溅射功率：8000w～15000w，o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第三腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 nb2o5)2膜层厚度约330nm，在基板上形成(sio2 tio2)2 玻璃基板 tio2结构；然后在第四腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用2个si靶进行镀sin膜，其中si溅射功率8000w～15000w，sin溅射功率：8500w～9000w，n2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第五腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 sin)2膜层厚度约480nm，在基板上形成(sio2 sin)2 (sio2 nb2o5)2 玻璃基板 tio2结构；接着在第六腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用2个al靶进行镀al2o3膜，其中si溅射功率8000w～15000w，al2o3溅射功率：8500w～9000w,o2流量为20～80sccm、n2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第七、八腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 al2o3)2膜层厚度约650nm，在基板上形成(sio2 al2o3)2 (sio2 sin)2 (sio2 nb2o5)2 玻璃基板 tio2结构；透过率(550nm波长)为92.16％；290-380nm波长透过率为5.56％(340nm)，产品具有比较明显的可见光增透，紫外光吸收、截止的作用。在经过切割、丝印、贴合、性能测试等工序
后，产品最终检验合格之后，应用于显示模组上。
103.实施例4
104.在进行镀膜之前使用去离子水对玻璃基片进行清洗、吹干，然后上架装片镀(sio2 sin)2 (sio2 sin)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 zno。采用立式全自动连续磁控溅射镀膜机进行镀膜，镀膜温度设置范围：220℃～280℃，镀膜室传动节拍：120秒；在第一腔室使用1个掺杂zn靶进行镀zno膜，zno溅射功率：8500w～12000w，o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，镀制厚度约250nm的zno膜层，在基板上形成玻璃基板 zno结构；在第二腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用3个ti靶进行镀tio2膜，其中si溅射功率8000w～15000w，tio2溅射功率：8000w～15000w，o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第三腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 tio2)2膜层厚度约280nm，基板上形成(sio2 tio2)2 玻璃基板 zno结构；然后在第四腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用2个si靶进行镀sin膜，其中si溅射功率8000w～15000w，sin溅射功率：8500w～9000w，n2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第五腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 sin)2膜层厚度约420nm，在基板上形成(sio2 sin)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 zno结构；接着在第六腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用2个si靶进行镀sin膜，其中si溅射功率8000w～15000w，sin溅射功率：8500w～9000w，o2流量为20～80sccm、n2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第七、八腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 sin)2膜层厚度约580nm，在基板上形成(sio2 sin)2 (sio2 sin)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 zno结构；透过率(550nm波长)为92.56％；290-380nm波长透过率为8.34％(340nm)，产品具有比较明显的可见光增透，紫外光吸收、截止的作用。在经过切割、丝印、贴合、性能测试等工序后，产品最终检验合格之后，应用于显示模组上。
105.实施例5
106.在进行镀膜之前使用去离子水对玻璃基片进行清洗、吹干，然后上架装片镀(sio2 sin)3 (sio2 tio2)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 tio2。采用立式全自动连续磁控溅射镀膜机进行镀膜，镀膜温度设置范围：220℃～280℃，镀膜室传动节拍：120秒；在第一腔室使用1个ti靶进行镀tio2膜，tio2溅射功率：12000w～15000w，o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，镀制厚度约180nm的tio2膜层，在基板上形成玻璃基板 tio2结构；在第二腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用3个ti靶进行镀tio2膜，其中si溅射功率8000w～15000w，tio2溅射功率：8000w～15000w，o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第三腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 tio2)2膜层厚度约280nm，在基板上形成(sio2 tio2)2 玻璃基板 tio2结构；然后在第四腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用2个ti靶进行镀tio2膜，其中si溅射功率8000w～15000w，tio2溅射功率：8500w～10000w，ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第五腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 tio2)2膜层厚度约420nm，在基板上形成(sio2 tio2)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 tio2结构；接着在第六腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用2个si靶进行镀sin膜，其中si溅射功率8000w～15000w，sin溅射功率：8500w～9000w，o2流量为20～80sccm、n2流量为100～
130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第七、八腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 sin)3膜层厚度约800nm，在基板上形成(sio2 sin)3 (sio2 sin)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 tio2结构；透过率(550nm波长)为93.15％；290-380nm波长透过率为4.34％(340nm)，产品具有比较明显的可见光增透，紫外光吸收、截止的作用。在经过切割、丝印、贴合、性能测试等工序后，产品最终检验合格之后，应用于显示模组上。
107.实施例6
108.在进行镀膜之前使用去离子水对玻璃基片进行清洗、吹干，然后上架装片镀(sio2 al2o3)3 (sio2 sin)2 (sio2 nb2o5)2 玻璃基板 zno。采用立式全自动连续磁控溅射镀膜机进行镀膜，镀膜温度设置范围：220℃～280℃，镀膜室传动节拍：120秒；在第一腔室使用1个zn靶进行镀zno膜，zno溅射功率：8500w～12000w，o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，镀制厚度约300nm的zno膜层，在基板上形成玻璃基板 zno结构；在第二腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用3个nb靶进行镀nb2o5膜，其中si溅射功率8000w～15000w，nb2o5溅射功率：8000w～15000w，o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第三腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 nb2o5)2膜层厚度约280nm，在基板上形成(sio2 nb2o5)2 玻璃基板 zno结构；然后在第四腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用2个si靶进行镀sin膜，其中si溅射功率8000w～15000w，sin溅射功率：8500w～9000w，n2流量100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa间，在第五腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 sin)2膜层厚度约420nm，在基板上形成(sio2 sin)2 (sio2 nb2o5)2 玻璃基板 zno结构；接着在第六腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用2个ai靶进行镀al2o3膜，其中si溅射功率8000w～15000w，al2o3溅射功率：8500w～9000w,o2流量为20～80sccmar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第七、八腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 al2o3)3膜层厚度约680nm，在基板上形成(sio2 al2o3)3 (sio2 sin)2 (sio2 nb2o5)2 玻璃基板 zno结构；透过率(550nm波长)为92.57％；290-380nm波长透过率为9.37％(340nm)，产品具有比较明显的可见光增透，紫外光吸收、截止的作用。在经过切割、丝印、贴合、性能测试等工序后，产品最终检验合格之后，应用于显示模组上。
109.应用例1
110.选用1.3mm钠钙玻璃基板，镀膜处理后波形整体右移约97nm，长波紫外的透过率明显降低，550nm可见光透过率提升约3.3％。
111.镀膜采用如下工艺实施：
112.在进行镀膜之前使用去离子水对玻璃基片进行清洗、吹干，然后上架装片镀(sio2 sin)3 (sio2 sio
x
ny)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 tio2。采用立式全自动连续磁控溅射镀膜机进行镀膜，镀膜温度设置范围：220℃～280℃，镀膜室传动节拍：100秒；在第一腔室使用1个ti靶进行镀tio2膜，tio2溅射功率：8500w～12000w，o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，镀制厚度约140nm的tio2膜层，作为短波紫外的吸收层，在基板上形成玻璃基板 tio2结构；在第二腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用3个ti靶进行镀tio2膜，其中si溅射功率8000w～15000w，tio2溅射功率：8000w～15000w，
o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第三腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 tio2)2膜层厚度约310nm，在基板上形成(sio2 tio2)2 玻璃基板 tio2结构；然后在第四腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用2个si靶进行镀sio
x
ny膜，其中si溅射功率8000w～15000w，sio
x
ny溅射功率：8500w～9000w，o2流量为100～130sccm、n2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第五腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 sio
x
ny)2膜层厚度约400nm，在基板上形成(sio2 sio
x
ny)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 tio2结构；接着在第六腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用2个si靶进行镀sin膜，其中si溅射功率8000w～15000w，sin溅射功率：8500w～9000w，o2流量为20～80sccm、n2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第七、八腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 sin)3膜层厚度约780nm，在基板上形成(sio2 sin)3 (sio2 sio
x
ny)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 tio2结构；透过率为93.77％(550nm波长)；290-380nm波长透过率4.56％(340nm)，产品具有比较明显的可见光增透，紫外光吸收、截止的作用。在经过切割、丝印、贴合、性能测试等工序后，产品最终检验合格之后，应用于显示模组上。
113.图4为1.3mm玻璃基板镀膜前后的光谱曲线图对比，由图4可以看出，镀膜后在200-290nm透过率下降14.72％，290-320nm透过率下降77.45％，320-380nm透过率下降72.21％，可以证明本发明提供的复合膜对紫外光的反射、吸收效果明显。
114.应用例2
115.分别选用0.55mm、1.1mm钠钙玻璃基板，在相同镀膜工艺条件下镀膜处理。
116.镀膜采用如下工艺实施：
117.在进行镀膜之前使用去离子水对玻璃基片进行清洗、吹干，然后上架装片镀(sio2 sin)3 (sio2 tio2)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 tio2。采用立式全自动连续磁控溅射镀膜机进行镀膜，镀膜温度设置范围：220℃～280℃，镀膜室传动节拍：120秒；在第一腔室使用1个ti靶进行镀tio2膜，tio2溅射功率：12000w～15000w，o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，镀制厚度约180nm的tio2膜层，在基板上形成玻璃基板 tio2结构；在第二腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用3个ti靶进行镀tio2膜，其中si溅射功率8000w～15000w，tio2溅射功率：8000w～15000w，o2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第三腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 tio2)2膜层厚度约280nm，在基板上形成(sio2 tio2)2 玻璃基板 tio2结构；然后在第四腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用2个ti靶进行镀tio2膜，其中si溅射功率8000w～15000w，tio2溅射功率：8500w～10000w，ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第五腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 tio2)2膜层厚度约420nm，在基板上形成(sio2 tio2)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 tio2结构；接着在第六腔室使用2个si靶进行镀sio2膜，使用2个si靶进行镀sin膜，其中si溅射功率8000w～15000w，sin溅射功率：8500w～9000w，o2流量为20～80sccm、n2流量为100～130sccm、ar流量200～220sccm、真空度3.0
×
10-1
pa～4.5
×
10-1
pa之间，在第七、八腔室使用相同参数，再次镀制相同膜层，得到的(sio2 sin)3膜层厚度约800nm，在基板上形成(sio2 sin)3 (sio2 sin)2 (sio2 tio2)2 玻璃基板 tio2结构；透过率为93.65％(550nm波长)；290-380nm波长透过率4.34％(340nm)，产品具有比较明显的可见光增透，紫外光吸收、截止
的作用。在经过切割、丝印、贴合、性能测试等工序后，产品最终检验合格之后，应用于显示模组上。
118.图5为0.5mm与1.0mm玻璃基板镀膜后的光谱曲线图对比。
119.由图5可以看出，不同基板厚度情况下，实测数据基本一致。通过对测试数据的对比，可以证明在不同基板下，产品的实际透过率基本保持一致。
120.以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。