用于制造和/或处理颗粒的反应器系统和方法与流程

技术特征：
1.一种用于在振动工艺气体流中制造和/或处理颗粒(p)的反应器系统(1)，所述反应器系统带有反应器单元(2)，所述反应器单元具有前置的工艺气体供应单元(3)和后置的工艺气体导出单元(4)，所述反应器单元具有至少一个反应器(9)，所述反应器包括用于制造和/或处理颗粒的反应室(8)和用于将原材料引入到反应室(8)中的进料装置(10)，其中，沿所述工艺气体导出单元(4)的方向穿流所述反应器单元(2)的所述工艺气体(pg)能够经由所述工艺气体供应单元(3)供应给所述反应器单元(2)，并且所述反应器系统(1)包括适用于产生工艺气体(pg)的脉动的脉动装置(7)，其中，借助所述脉动装置(7)能够对所述工艺气体(pg)施加具有脉动频率和脉动压力幅度的脉动，并且其中，具有尤其是可调整的静态工艺气体压力的反应器系统(1)构造为声学共振器(12)，所述共振器具有相应限定共振状态的固有共振频率，并且所述工艺气体(pg)能够在所述反应器系统(1)中构造能共振的气体柱，使得所述共振器(12)能够通过由所述脉动装置(7)产生的所述脉动的脉动频率和/或脉动压力幅度来激励，并且在所述共振状态下所述脉动能够被增强成所述工艺气体(pg)的具有共振频率和共振压力幅度的共振振动，并且其中，所述工艺气体供应单元(3)和所述工艺气体导出单元(4)分别包括产生压力损失的压力损失产生装置(13)，其中，所述压力损失产生装置(13)如此构造，使得所述共振状态中的一个能够选择性地进行调整，其特征在于，所述脉动装置(7)配置成，使所述脉动的脉动频率和/或脉动压力幅度与所述共振器(12)的固有共振频率中的一个相适配，从而能够达到所选择的共振状态。2.根据权利要求1所述的反应器系统(1)，其特征在于，所述脉动装置(7)构造为无焰工作的脉动装置(7)。3.根据权利要求1或2所述的反应器系统(1)，其特征在于，所述反应器系统(1)具有用于加热所述工艺气体(pg)的加热装置(6)。4.根据权利要求3所述的反应器系统(1)，其特征在于，所述加热装置(6)布置在所述脉动装置(7)的上游或在其下游。5.根据前述权利要求中任一项所述的反应器系统(1)，其特征在于，在运行状态下所述压力损失产生装置(13)在所述工艺气体供应单元(3)和所述工艺气体导出单元(4)中在其相应的位置方面不可变地布置。6.根据前述权利要求中任一项所述的反应器系统(1)，其特征在于，所述脉动装置(7)构造为压力损失产生装置(13)。7.根据前述权利要求中任一项所述的反应器系统(1)，其特征在于，在所述至少一个反应器(9)的上游布置有工艺气体体积流调节装置(17)。8.根据权利要求7所述的反应器系统(1)，其特征在于，所述工艺气体体积流调节装置(17)布置在所述脉动装置(7)的下游。9.根据权利要求7或8所述的反应器系统(1)，其特征在于，所述工艺气体体积流调节装置(17)构造为滑动滑阀、调节阀、调节旋塞或可调节的光阑式节流阀。10.根据权利要求7至9中任一项所述的反应器系统(1)，其特征在于，所述工艺气体体积流调节装置(17)具有小于等于3%、优选小于等于2%、特别优选小于等于1%并且最优选小于等于0.5%的调节精度。11.根据前述权利要求中任一项所述的反应器系统(1)，其特征在于，在所述至少一个反应器(9)的上游布置有工艺气体流分配装置(18)，使得所述反应器单元(2)的每个反应器
(9)配属有至少一个工艺气体输入管路(19)。12.根据权利要求11所述的反应器系统(1)，其特征在于，所述工艺气体流分配装置(18)布置在所述脉动装置(7)的下游。13.根据权利要求11或12所述的反应器系统(1)，其特征在于，每个工艺气体输入管路(19)具有工艺气体体积流调节装置(17)。14.根据权利要求11至13中任一项所述的反应器系统(1)，其特征在于，每个工艺气体输入管路(19)如此构造，使得每个工艺气体输入管路(19)在所述工艺气体流分配装置(18)和反应器入口(20)之间具有压力损失，其中，每个工艺气体输入管路(19)中的压力损失基本上一样大。15.根据权利要求11至14中任一项所述的反应器系统(1)，其特征在于，所述工艺气体输入管路(19)具有相同的工艺气体输入管路长度和/或相同的工艺气体输入管路内径和/或其他相同的内置件。16.根据前述权利要求中任一项所述的反应器系统(1)，其特征在于，所述工艺气体供应单元(3)和所述工艺气体导出单元(4)具有工艺气体压力调节装置(15)，从而能够调节所述反应器系统(1)中的静态工艺气体压力。17.根据前述权利要求中任一项所述的反应器系统(1)，其特征在于，所述工艺气体导出装置(4)具有多个工艺气体排出管路(21)，其中，每个工艺气体排出管路(21)具有压力损失产生装置(13)。18.根据前述权利要求中任一项所述的反应器系统(1)，其特征在于，所述脉动装置(7)构造为压缩模块、尤其是活塞，或者构造为转动滑块或改良的转动闸。19.根据前述权利要求中任一项所述的反应器系统(1)，其特征在于，所述工艺气体导出装置(4)具有工艺气体冷却路段(16)和/或分离装置(11)和/或工艺气体输送装置(5)。20.一种用于在振动工艺气体流中制造和/或处理颗粒(p)的方法，其包括反应器系统(1)，所述反应器系统带有反应器单元(2)，所述反应器单元具有前置的工艺气体供应单元(3)和后置的工艺气体导出单元(4)，所述反应器单元具有至少一个反应器(9)，所述反应器包括用于制造和/或处理颗粒的反应室(8)和用于将原材料引入到所述反应室(8)中的进料装置(10)，其中，将沿所述工艺气体导出单元(4)的方向穿流所述反应器单元(2)的所述工艺气体(pg)经由所述工艺气体供应单元(3)供应给所述反应器单元(2)，并且所述反应器系统(1)包括适用于产生工艺气体(pg)的脉动的脉动装置(7)，其中，借助所述脉动装置(7)对所述工艺气体(pg)施加具有脉动频率和脉动压力幅度的脉动，并且其中，具有尤其是可调整的静态工艺气体压力的反应器系统(1)构造为声学共振器(12)，所述共振器具有相应限定共振状态的固有共振频率，并且所述工艺气体(pg)在所述反应器系统(1)中构造能共振的气体柱，从而激励所述共振器(12)通过由所述脉动装置(7)产生的脉动的脉动频率和/或脉动压力幅度，并且在共振状态下将所述脉动增强成所述工艺气体(pg)的具有共振频率和共振压力幅度的共振振动，并且其中，所述工艺气体供应单元(3)和所述工艺气体导出单元(4)分别包括产生压力损失的压力损失产生装置(13)，其中，所述压力损失产生装置(13)如此构造，使得共振状态中的一个选择性地进行调整，其特征在于，借助所述脉动装置(7)使所述脉动的脉动频率和/或脉动压力幅度与所述共振器(12)的固有共振频率中的一个相适配，以便达到所选择的共振状态。
21.根据权利要求20所述的方法，其特征在于，对所述工艺气体(pg)施加周期性脉动。22.根据权利要求20或21所述的方法，其特征在于，将所述脉动频率或其整数倍调整在所述共振器(12)的共振频率附近。23.根据权利要求20至22中任一项所述的方法，其特征在于，所述反应器系统(1)具有用于加热所述工艺气体的加热装置(6)，其中，将所述工艺气体(pg)加热到100℃至3000℃的温度。24.根据权利要求20至23中任一项所述的方法，其特征在于，所述工艺气体(pg)以0.1s至25s的停留时间穿流所述反应器系统(1)。25.根据权利要求20至24中任一项所述的方法，其特征在于，通过所述脉动装置(7)对所述工艺气体(pg)施加1hz至2000hz的脉动频率。26.根据权利要求20至25中任一项所述的方法，其特征在于，通过所述脉动装置(7)对所述工艺气体(pg)施加0.1mbar至350mbar的脉动压力幅度。27.根据权利要求20至24中任一项所述的方法，其特征在于，通过所述脉动装置(7)对所述工艺气体(pg)施加40hz至160hz的脉动频率以及10mbar至40mbar的脉动压力幅度。28.根据权利要求20至27中任一项所述的方法，其特征在于，在运行状态下所述压力损失产生装置(13)在相应的位置方面不进行变化。29.根据权利要求20至28中任一项所述的方法，其特征在于，所述工艺气体供应单元(3)和所述工艺气体导出单元(4)具有工艺气体压力调节装置(15)，使得所述反应器系统(1)中的静态工艺气体压力可调整或可调节。30.根据权利要求20至29中任一项所述的方法，其特征在于，用于所述方法的反应器系统(1)是根据权利要求1至19中任一项所述的反应器系统(1)。

技术总结
本发明涉及一种用于在振动工艺气体流中制造和/或处理颗粒(P)的反应器系统(1)和方法。法。法。


技术研发人员：F
受保护的技术使用者：顺利工程技术有限责任公司
技术研发日：2021.03.25
技术公布日：2023/1/13