生产用于容纳样品液体的载体元件的方法和控制器、载体元件、载体模块和使用载体元件的方法与流程

技术特征：
1.生产用于容纳样品液体(10)的载体元件(150)的方法(1000)，其中该方法(1000)包括以下步骤：
‑ꢀ
用光敏聚合物层(101)涂覆(1)载体基底(100)，以获得经涂覆的载体基底(100)，特别是其中载体基底(100)具有亲水表面性质；
‑ꢀ
使经涂覆的载体基底(100)曝光(2)和显影，以获得结构化聚合物层(102)；和
‑ꢀ
使布置在载体基底(100)上的结构化聚合物层(102)氟化(3)，以产生用于容纳样品液体(10)的载体元件(150)，特别是其中结构化聚合物层(102)通过氟化步骤(3)获得疏水表面性质。2.根据权利要求1所述的方法(1000)，其中在涂覆步骤(1)中，涂覆所述载体基底(100)，所述载体基底至少部分地由半导体材料，特别是含硅材料形成。3.根据前述权利要求中任一项所述的方法(1000)，其具有使所述载体基底(100)结构化以在所述载体基底(100)中获得至少一个凹部(200)的步骤(21)。4.根据权利要求3所述的方法(1000)，其中在结构化步骤(21)中，在所述至少一个凹部(200)的至少一个侧壁上产生钝化层(201)，且其中在氟化步骤(3)中至少部分地去除所述布置在凹部(200)的至少一个侧壁上的钝化层。5.根据前述权利要求中任一项所述的方法(1000)，其中在涂覆步骤(1)中，使用具有氧化物层(106)的基底和/或涂覆有附着力促进剂层(104)的载体基底(100)作为载体基底(100)。6.根据前述权利要求中任一项所述的方法(1000)，其具有施加另一光敏聚合物层(109)的步骤(001)，以及使所述另一聚合物层(109)进一步曝光和显影以获得另一结构化聚合物层(110)的步骤(002)。7.根据权利要求6所述的方法(1000)，其在进一步曝光和显影的步骤(002)之后具有进一步的结构化步骤(003)，以获得至少一个进一步的结构化(500)，特别是位于载体基底(100)上的氧化物层(106)的结构化。8.根据前述权利要求中任一项所述的方法(1000)，其在氟化步骤(3)之后具有使层(105)沉积以改变和/或覆盖所述载体基底(100)的表面的步骤(31)。9.控制器(900)，其被设置用于在相应的单元(905、910、915)中执行和/或控制根据前述权利要求中任一项所述的方法(1000)的步骤(1、2、3)。10.计算机程序，其被设置用于执行和/或控制根据权利要求1至8中任一项所述的方法(1000)的步骤(1、2、3)。11.存储有根据权利要求10所述的计算机程序的机器可读存储介质。12.用于容纳样品液体(10)的载体元件(150)，其中载体元件(150)具有以下特征：
‑ꢀ
具有亲水表面性质的载体基底(100)；和
‑ꢀ
布置或可布置在载体基底(100)上并具有疏水表面性质的聚合物层(101；103)。13.载体模块(500)，其具有以下特征：
‑ꢀ
用于容纳样品液体(10)的根据权利要求12所述的载体元件(150)；和
‑ꢀ
与载体元件(150)可连接或连接的覆盖元件(160)，其被设计用于将样品液体(10)施加到载体元件(100)上。14.使用根据权利要求13所述的载体模块(500)的方法(800)，其中当使用所述载体模
块(500)时，使样品液体(10)与覆盖元件(160)接触，和/或其中使样品液体(10)与载体元件(150)的表面接触。15.装置(900)，其被设计用于在相应的单元(905、910、915)中执行、控制或实施根据权利要求1所述的方法的步骤(1、2、3)。

技术总结
本发明涉及生产用于容纳样品液体(10)的载体元件(150)的方法，其中该方法包括用光敏聚合物层涂覆载体基底(100)以获得经涂覆的载体基底(100)的步骤，特别是其中载体基底(100)具有亲水表面性质。在曝光和显影的步骤中，将经涂覆的载体基底(100)曝光和显影，以获得结构化聚合物层。在氟化步骤中，使布置在载体基底(100)上的结构化聚合物层氟化，以产生用于容纳样品液体(10)的载体元件(150)，特别是其中结构化聚合物层通过氟化步骤获得疏水表面性质。性质。性质。


技术研发人员：F
受保护的技术使用者：罗伯特
技术研发日：2021.05.19
技术公布日：2023/1/13