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一种基于分层设计的双光谱动态隐身结构

2023-01-05 15:49:48 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种基于分层设计的双光谱动态隐身结构,其特征在于:包括从上到下依次层叠的中红外相变光栅层、中间介质过渡层和微波阻抗匹配层;所述中红外相变光栅层为周期性排列于中间介质过渡层上表面的正方形凸起,用于红外光的吸收,所述正方形凸起包括从上到下层叠设置的中红外相变层和中红外反射层,所述中红外相变层材质为相变材料,所述中红外反射层材质为金属材料;所述中间介质层用于实现由红外光谱调制到微波光谱调制的转变,设置于中红外相变光栅层与微波阻抗匹配层之间;所述微波阻抗匹配层包括从上到下依次层叠的石墨烯薄膜、高阻层、第一间隔层、损耗层、第二间隔层和微波反射层,所述第一间隔层和第二间隔层均为微波透明材料,所述微波反射层的材质为金属材料,通过栅极电压调控石墨烯薄膜的方阻,实现对于微波吸收光谱的调控。2.如权利要求1所述的基于分层设计的双光谱动态隐身结构,其特征在于:所述中红外相变层为硫系相变材料,厚度h1在100nm-800nm之间;所述中红外反射层的厚度h2在50nm-300nm之间;所述正方形凸起的边长w为0.6μm
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3μm,正方形凸起阵列的周期p为2μm-5μm;所述中间介质过渡层为透明介质材料,厚度h3的范围在0.1mm-1mm之间。3.如权利要求2所述的基于分层设计的双光谱动态隐身结构,其特征在于:所述石墨烯薄膜的方阻范围为120-700ω/sq,厚度h1的范围在50μm-200μm;所述高阻层为喷涂有高阻导电油墨的聚酰亚胺薄膜,高阻层的方阻ω1范围为2000-8000ω/sq,损耗层为喷涂有低阻导电油墨的聚酰亚胺薄膜,损耗层的方阻ω2的范围在100-500ω/sq,高阻层和损耗层的厚度均为h2,h2的范围为20μm
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100μm;所述第一间隔层和第二间隔层的厚度均为h3,厚度h3的范围在3mm-100mm。4.如权利要求3所述的基于分层设计的双光谱动态隐身结构,其特征在于:所述正方形凸起阵列的周期p=3μm,光正方形凸起的边长w=1.8μm,所述中红外相变层为ge2sb2te5,厚度h1=440nm,所述中红外反射层为金,厚度h2=200nm,所述中间介质过渡层为二氧化硅,厚度h3=0.2mm,所述石墨烯薄膜的厚度h1=200μm,所述高阻层的方阻ω1=5000ω/sq,所述损耗层的方阻ω2=250ω/sq,厚度h2=50μm,所述第一间隔层和第二间隔层的材质均为聚乙烯,厚度h3=7.5mm。5.如权利要求1-4中任意一项所述的基于分层设计的双光谱动态隐身结构,其特征在于:所述石墨烯薄膜包括pet基底,所述pet基底上设有1-5层石墨烯。6.如权利要求5所述的基于分层设计的双光谱动态隐身结构,其特征在于:所述pet基底,所述pet基底上设有三层石墨烯。7.如权利要求2所述的基于分层设计的双光谱动态隐身结构,其特征在于:所述硫系相变材料为ge2sb2te5、ge3sb2te6或gete。8.如权利要求1-3中任意一项所述的基于分层设计的双光谱动态隐身结构,其特征在于:所述中红外反射层为金、银、铜、铬或钨。9.如权利要求1-3中任意一项所述的基于分层设计的双光谱动态隐身结构,其特征在于:所述中间介质过渡层为二氧化硅、二氧化钛或硫化锌。10.如权利要求1-3中任意一项所述的基于分层设计的双光谱动态隐身结构,其特征在于:所述微波反射层的材质为为金、银、铜、铬或钨。

技术总结
本实用新型提供了一种基于分层设计的双光谱动态隐身结构,包括从上到下依次层叠的中红外相变光栅层、中间介质过渡层和微波阻抗匹配层;所述中红外相变光栅层为周期性排列于中间介质过渡层上表面的正方形凸起,用于红外光的吸收,所述正方形凸起包括从上到下层叠设置的中红外相变层和中红外反射层,所述中红外相变层材质为相变材料,所述中红外反射层材质为金属材料;所述中间介质层设置于中红外相变光栅层与微波阻抗匹配层之间,用于实现由红外光谱调制到微波光谱调制的转变;所述微波阻抗匹配层实现微波阻抗匹配层对微波吸收光谱的调控;本实用新型提供的基于分层设计的双光谱动态隐身结构成本低、适应性强、能实现不同光谱的分立动态调控。的分立动态调控。的分立动态调控。


技术研发人员:姜鑫鹏 杨俊波 何新 张振福 罗世尚
受保护的技术使用者:中国人民解放军国防科技大学
技术研发日:2022.07.25
技术公布日:2022/12/30
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