一种基体表面镀层的制备方法与流程

技术特征：
1.一种基体表面镀层的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：(1)将二氧化硅、金属氧化物和溶剂混合配制成浆料，再将浆料涂覆在基体表面，形成浆料层；(2)将步骤(1)涂覆浆料层的基体进行固化处理，得到含有表面镀层的基体。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述二氧化硅和金属氧化物均为粉末状颗粒，其粒径独立地为0.01～50μm；所述金属氧化物包括氧化铝、氧化锆、氧化钇、氧化钙、氧化钠或氧化钾中任意一种或至少两种的组合；所述溶剂包括水和/或乙醇。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述浆料包括固相组分和液相组分，所述固相组分的质量分数为20～80wt％；所述固相组分中二氧化硅的质量分数为35～70wt％，金属氧化物的质量分数为30～65wt％。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述基体包括石英基体、碳化硅基体、石墨基体或金属基体中任意一种或至少两种的组合；所述基体的表面为平面或弧面，所述弧面包括圆柱形侧面。5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述涂覆的方式包括喷涂或粉刷；所述浆料涂覆后烘干，得到浆料层，所述浆料层的厚度为0.03～500μm。6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述固化处理包括烧制、烘烤或干燥中任意一种；所述烧制的方式包括采用烧制炉进行烧制；所述烘烤的方式包括采用火焰枪进行烘烤。7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述烧制的温度为700～1350℃，时间为5～120min；所述烘烤的温度为1000～1700℃，时间为1～20min；所述干燥的温度为25～200℃，时间为8～12h。8.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述基体的表面为弧面时，固化时基体进行旋转。9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述固化后降温，重复涂覆、固化步骤至少一次，在上一层镀层的基础上再形成一层镀层；所述固化后形成的单层镀层的厚度独立地为0.01～1000μm。10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：(1)将二氧化硅、金属氧化物和溶剂混合配制成浆料，所述二氧化硅和金属氧化物均为粉末状颗粒，其粒径独立地为0.01～50μm，所述金属氧化物包括氧化铝、氧化锆、氧化钇、氧化钙或氧化钾中任意一种或至少两种的组合，所述溶剂包括水和/或乙醇，所述浆料的固相组分中二氧化硅的质量分数为35～70wt％，金属氧化物的质量分数为30～65wt％，固相组分占浆料的质量分数为20～80wt％，再将浆料涂覆在基体表面，所述基体包括石英基体、碳化硅基体、石墨基体或金属基体中任意一种或至少两种的组合，所述涂覆的方式包括喷涂
或粉刷，所述浆料涂覆后烘干，形成浆料层，所述浆料层的厚度为0.03～500μm；(2)将步骤(1)涂覆浆料层的基体进行固化处理，所述固化处理包括烧制、烘烤或干燥中任意一种，所述烧制的温度为700～1350℃，时间为5～120min；所述烘烤的温度为1000～1700℃，时间为1～20min；所述干燥的温度为25～200℃，时间为8～12h，所述固化后降温，重复进行涂覆、固化步骤至少一次，在上一层镀层的基础上再形成一层镀层，单层镀层的厚度独立地为0.01～1000μm，得到含有表面镀层的基体。

技术总结
本发明提供了一种基体表面镀层的制备方法，所述制备方法包括：将二氧化硅、金属氧化物和溶剂混合配制成浆料，再将浆料涂覆在基体表面，形成浆料层；将涂覆浆料层的基体进行固化处理，得到含有表面镀层的基体。本发明所述方法通过浆料涂覆及固化处理的操作工艺，在基体表面形成镀层，对基体起到保护作用，避免应用时可能造成的化学腐蚀及表面裂纹的产生，提高基体的使用寿命；本发明浆料除了耐高温的二氧化硅，还选择高强度的金属氧化物，有助于提高镀层的强度、韧性及耐温性等性能；所述方法操作简便，成本较低，应用范围较广。应用范围较广。


技术研发人员：朱太荣 庞爱锁 林佳继 张武
受保护的技术使用者：深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
技术研发日：2022.11.09
技术公布日：2022/12/30