技术特征:
1.一种镀膜设备,其特征在于,包括:真空腔体,所述真空腔体包括真空腔室;位于所述真空腔室内,且与所述真空腔体内壁固定连接的冷阱管道;与所述冷阱管道连通的制冷器,所述制冷器设置于所述真空腔体的外部。2.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述冷阱管道采用金属管道。3.如权利要求2所述的镀膜设备,其特征在于,所述金属管道包括:铜管。4.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述制冷器的温控范围为:零下100摄氏度~零下200摄氏度。5.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述冷阱管道呈“s”形排布。6.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述冷阱管道与所述真空腔体内壁之间具有间隙。7.如权利要求6所述的镀膜设备,其特征在于,所述间隙的尺寸范围为:大于或等于40毫米。8.如权利要求6所述的镀膜设备,其特征在于,所述冷阱管道通过支撑件与所述真空腔体内壁固定连接。9.如权利要求8所述的镀膜设备,其特征在于,所述支撑件包括:陶瓷支撑件。10.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述制冷器包括:快速循环水汽深冷泵。
技术总结
一种镀膜设备,包括:真空腔体,所述真空腔体包括真空腔室;位于所述真空腔室内,且与所述真空腔体内壁固定连接的冷阱管道;与所述冷阱管道连通的制冷器,所述制冷器设置于所述真空腔体的外部。由于镀膜质量对真空度的要求较高,而镀膜设备中的水汽对抽真空的影响较大,当水汽含量较高时无法使得所述真空腔室内的真空值达到预定范围。因此通过位于所述真空腔室内的所述冷阱管道,能够迅速的将所述真空腔室内的水汽捕集并冷凝在表面,从而使系统快速获得所需要的工艺真空条件,保证了膜材分子自由程和精准的光学厚度,显著提高镀膜沉积质量和生产效率,提高膜基界面结合力。提高膜基界面结合力。提高膜基界面结合力。
技术研发人员:宗坚
受保护的技术使用者:江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
技术研发日:2022.09.01
技术公布日:2022/11/29
再多了解一些
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