一种减少湿法刻蚀清洗剂用量的系统的制作方法

技术特征：
1.一种减少湿法刻蚀清洗剂用量的系统，其特征在于，包括：供液单元，用于分别向第一清洁腔室和第二清洁腔室内通入原液；回收装置，用于回收处理所述第二清洁腔室内排出的废液，获得满足预设要求的待配置溶液，并将所述待配置溶液作为原液通入至所述第一清洁腔室内。2.一种减少湿法刻蚀清洗剂用量的系统，其特征在于，所述原液至少包括两种反应物，所述废液包括原液中的某一种只参与反应但不消耗的反应物。3.根据权利要求1所述的减少湿法刻蚀清洗剂用量的系统，其特征在于，所述回收装置包括：回收处理单元，用于回收所述第二清洁腔室排出的废液，并对废液进行第一次处理，获得满足预设要求的待配置溶液；存储单元，用于存储待配置溶液，并对待配置溶液进行第二次处理后，通入至所述第一清洁腔室内作为原液使用。4.根据权利要求3所述的减少湿法刻蚀清洗剂用量的系统，其特征在于，所述回收处理单元包括：两个回收处理腔室，两个所述回收处理腔室并联设置，在一个回收处理腔室对第二清洁腔室排出的废液进行第一次处理时，另一个回收处理腔室对第二清洁腔室的废液进行回收。5.根据权利要求4所述的减少湿法刻蚀清洗剂用量的系统，其特征在于，还包括：在线监测单元，用于对所述回收处理腔室内的废液中的粒子数量、化学品浓度、金属含量以及阴阳离子含量进行在线监测。6.根据权利要求4所述的减少湿法刻蚀清洗剂用量的系统，其特征在于，两个回收处理腔室包括：第一回收处理腔室和第二回收处理腔室，所述第二清洁腔室的排液端b通过第一阀门(f1)分别与所述第一回收处理腔室的进液端a和第二回收处理腔室的进液端b连通，所述第一回收处理腔室的循环出液口a和第二回收处理腔室的循环出液口b分别通过第二阀门(f2)与第一过滤器连通，所述循环出液口a和循环出液口b与第二阀门(f2)的连通处分别设有第一泵(p1)和第二泵(p2)，所述第一回收处理腔室的循环进液口a和第二回收处理腔室的循环进液口b分别通过第三阀门(f3)与第四阀门(f4)连通，所述第四阀门(f4)与第一过滤器连通，所述第四阀门(f4)还通过第五阀门(f5)与存储单元连通，所述第五阀门(f5)通过第一缓冲槽与厂务废液单元连通；所述第一缓冲槽用于冷却排放所述第一回收处理腔室和第二回收处理腔室内未达到预设要求的废液，以及冷却排放所述存储单元中过量的待配置溶液。7.根据权利要求6所述的减少湿法刻蚀清洗剂用量的系统，其特征在于，两个所述回收处理腔室内均设有加热单元，在所述回收处理腔室对回收的废液进行处理时，所述加热单元启动，同时，所述第一过滤器对此回收处理腔室内的废液进行循环过滤；当处理后的废液达到预设要求后，得到满足预设要求的待配置溶液并通入至存储单元，在所述存储单元内对待配置溶液进行第二次处理，然后将处理后的待配置溶液作为原液通入至第一清洁腔室内。8.根据权利要求6所述的减少湿法刻蚀清洗剂用量的系统，其特征在于，所述存储单元的循环出液口c通过第六阀门(f6)分别与第三泵(p3)和第一清洁腔室连通，所述存储单元的循环进液口c通过第二过滤器与第三泵(p3)连通。
9.根据权利要求7所述的减少湿法刻蚀清洗剂用量的系统，其特征在于，所述第六阀门(f6)通过第七阀门(f7)与第一预加热槽连通，所述供液单元向第一清洁腔室内通入的某一种只参与反应但不消耗的反应物通过第七阀门(f7)进入第一预加热槽内，所述第一预加热槽通过第四泵(p4)与所述第一清洁腔室连通，所述第一清洁腔室的排液端a通过第二缓冲槽与厂务废液单元连通。10.根据权利要求6所述的减少湿法刻蚀清洗剂用量的系统，其特征在于，所述供液单元向第二清洁腔室内通入的某一种只参与反应但不消耗的反应物通过第二预加热槽进入至第二清洁腔室连通。11.根据权利要求1所述的减少湿法刻蚀清洗剂用量的系统，其特征在于，所述第一清洁腔室和第二清洁腔室之间连通有第一热快排槽，所述第二清洁腔室之后依次连通设有第二热快排槽、一号液槽、快排槽以及干燥槽。12.根据权利要求6所述的减少湿法刻蚀清洗剂用量的系统，其特征在于，所述第一过滤器包括：外壳(1)，所述外壳(1)的内部转动连接有旋转轴(2)，所述旋转轴(2)通过第一驱动部驱动其转动，所述旋转轴(2)的两端外侧均设有定位安装板(3)，所述旋转轴(2)的中部外侧设有卡接固定件(4)，沿所述旋转轴(2)的周向分布有至少两个过滤主体(5)，所述过滤主体(5)的上下两端分别与两个所述定位安装板(3)可拆卸连接，所述过滤主体(5)的中部与所述卡接固定件(4)可拆卸连接；所述外壳(1)内且位于其中一个过滤主体(5)的两端设有自动连接机构(6)，所述自动连接机构(6)上设有第一连接管(7)，所述第一连接管(7)用于与设置在所述过滤主体(5)上的第二连接管(8)密封插接。13.根据权利要求12所述的减少湿法刻蚀清洗剂用量的系统，其特征在于，所述自动连接机构(6)包括：固定设置在所述外壳(1)内的限位壳体(610)，所述限位壳体(610)的内侧上下滑动设有活动板(620)，所述活动板(620)上设有贯穿其设置的第一连接管(7)，所述活动板(620)的一侧通过第二驱动部(630)转动设有驱动架(640)，所述活动板(620)上还设有与其固定连接的驱动杆(650)，所述驱动杆(650)水平设置且位于所述驱动架(640)远离所述活动板(620)的一侧，所述驱动杆(650)的一端与所述活动板(620)固定连接，所述驱动杆(650)的另一端通过第三驱动部控制其上下移动；所述驱动架(640)包括与所述第二驱动部(630)连接且与所述活动板(620)转动连接的连接环(641)，所述连接环(641)的外侧沿周向布置至少三个限位杆(642)，所述限位杆(642)的端部设有限位柱，所述限位壳体(610)的内侧壁上设有限位槽(611)，所述限位槽(611)靠近所述活动板(620)的一端侧壁设有与所述限位柱对应的限位滑槽(612)；所述活动板(620)上设有第一固定柱(621)，其中一个所述限位杆(642)上设有第二固定柱(643)，所述第一固定柱(621)和第二固定柱(643)之间连接有弹簧(660)，所述弹簧(660)为所述限位柱从限位槽(611)移动至限位滑槽(612)内提供动力；所述驱动杆(650)靠近所述驱动架(640)的一侧设有滑块(651)，其中两个所述限位杆(642)之间连接有弧形杆(644)，所述弧形杆(644)上设有与所述滑块(651)对应的弧形槽(645)。14.一种减少湿法刻蚀清洗剂用量的方法，包括权利要求1-13任一项所述的减少湿法刻蚀清洗剂用量的系统，其特征在于，包括：
s100、分别向第一清洁腔室和第二清洁腔室内选择性的通入原液；s200、将所述第二清洁腔室排出的废液进行回收并进行第一次处理，得到满足预设要求的待配置溶液；s300、对待配置溶液进行第二次处理后，作为第一清洁腔室的原液进行使用。

技术总结
本发明公开了一种减少湿法刻蚀清洗剂用量的系统，包括：供液单元，用于分别向第一清洁腔室和第二清洁腔室内通入原液；回收装置，用于回收处理所述第二清洁腔室内排出的废液，获得满足预设要求的待配置溶液，并将所述待配置溶液作为原液通入至所述第一清洁腔室内。本发明能够对半导体在两个清洁腔室内进行两次清洗，有效改善同一清洁腔室在清洁过程中对半导体前后洁净度的差异，同时，利用回收装置能够有效回收利用废液中存在的大量的可回收利用的化学品，降低化学品的用量，从而降低成本。从而降低成本。从而降低成本。


技术研发人员：程江晏 朱焱均 洪学天 王尧林 赵大国 林和
受保护的技术使用者：晋芯电子制造（山西）有限公司 晋芯先进技术研究院（山西）有限公司
技术研发日：2022.08.24
技术公布日：2022/12/12