用于单晶炉副炉室的清洗装置的制作方法

技术特征：
1.用于单晶炉副炉室的清洗装置，所述副炉室包括副炉室本体及同轴设置于所述副炉室本体上端的副炉室延伸段，其特征在于，所述清洗装置包括：第一清洗部(20)，与所述副炉室延伸段的内壁适配，所述第一清洗部(20)沿所述副炉室延伸段的轴线方向移动以清洁所述副炉室延伸段的内壁；第二清洗部(30)，与所述副炉室本体的内壁适配，所述第二清洗部(30)沿所述副炉室本体的轴线方向移动以清洁所述副炉室本体的内壁；支撑杆(10)，所述第一清洗部(20)和所述第二清洗部(30)沿轴线方向间隔设置在所述支撑杆(10)上，所述支撑杆(10)被配置为对所述第一清洗部(20)和所述第二清洗部(30)进行驱使以分别对所述副炉室延伸段和所述副炉室本体进行同时清洁。2.根据权利要求1所述的用于单晶炉副炉室的清洗装置，其特征在于：所述第一清洗部(20)包括第一架体(201)及第一清洗件(202)，所述第一清洗件(202)包覆于所述第一架体(201)用于清洗的部分；所述第二清洗部(30)包括第二架体(301)及第二清洗件(302)，所述第二清洗件(302)包覆于所述第二架体(301)用于清洗的部分。3.根据权利要求2所述的用于单晶炉副炉室的清洗装置，其特征在于：所述第一清洗件(202)和所述第二清洗件(302)均为无尘布。4.根据权利要求2或3所述的用于单晶炉副炉室的清洗装置，其特征在于：所述第一架体(201)和所述第二架体(301)均为圆环状架体，所述第一清洗件(202)和所述第二清洗件(302)分别包覆在所述第一架体(201)和所述第二架体(301)的外周面上。5.根据权利要求2所述的用于单晶炉副炉室的清洗装置，其特征在于：所述第一架体(201)上设置有第一连接部(21)，所述第二架体(301)上设置有第二连接部(31)，所述第一架体(201)和所述第二架体(301)分别通过所述第一连接部(21)和所述第二连接部(31)与所述支撑杆(10)固定连接。6.根据权利要求5所述的用于单晶炉副炉室的清洗装置，其特征在于：所述第一连接部(21)包括由所述第一架体(201)内侧壁的一部分向圆心方向延伸的第一凸起，所述第一凸起上设置有与所述支撑杆(10)适配的第一通孔(210)；所述第二连接部(31)包括由所述第二架体(301)内侧壁的一部分向圆心方向延伸的第二凸起，所述第二凸起上设置有与所述支撑杆(10)适配的第二通孔(310)；所述支撑杆(10)依次穿过所述第二通孔(310)和所述第一通孔(210)并通过紧固件固定。7.根据权利要求6所述的用于单晶炉副炉室的清洗装置，其特征在于：所述第一架体(201)和所述第二架体(301)同轴设置，且所述第一通孔(210)和所述第二通孔(310)到该轴线的距离相等。8.根据权利要求5所述的用于单晶炉副炉室的清洗装置，其特征在于：所述支撑杆(10)与所述第一架体(201)之间还设置有倾斜延伸的至少一个第一加强杆(22)，所述第一加强杆(22)的下端与所述支撑杆(10)固定连接，所述第一加强杆(22)的上端与所述第一架体(201)固定相连；所述支撑杆(10)与所述第二架体(301)之间还设置有倾斜延伸的至少一个第二加强杆(32)，所述第二加强杆(32)的下端与所述支撑杆(10)固定连接，所述第二加强杆(32)的上
端与所述第二架体(301)固定相连。9.根据权利要求8所述的用于单晶炉副炉室的清洗装置，其特征在于：所述第一加强杆(22)的上端与所述第一架体(201)的连接处与所述第一架体(201)上设置所述第一连接部(21)的位置沿所述第一架体(201)的周向均匀分布；所述第二加强杆(32)的上端与所述第二架体(301)的连接处与所述第二架体(301)上设置所述第二连接部(31)的位置沿所述第二架体(301)的周向均匀分布。10.根据权利要求1所述的用于单晶炉副炉室的清洗装置，其特征在于：所述第一清洗部(20)与所述第二清洗部(30)之间的距离大于或等于所述副炉室延伸段的长度。

技术总结
本申请一种用于单晶炉副炉室的清洗装置，该副炉室包括副炉室本体和同轴设置在该副炉室本体上端的副炉室延伸段，该清洗装置包括：第一清洗部，与副炉室延伸段的内壁适配，第一清洗部沿副炉室延伸段的轴线方向移动可清洁副炉室延伸段的内壁；第二清洗部，与副炉室本体的内壁适配，第二清洗部沿副炉室本体的轴线方向移动可清洁副炉室本体的内壁；支撑杆，配置为对第一清洗部和第二清洗部进行驱使以对副炉室延伸段和副炉室本体进行同时清洁，第一清洗部和第二清洗部沿轴向方向间隔设置在支撑杆上。本装置能同时对清洗副炉室延伸段和副炉室本体进行清洗，一步到位，方便了工作人员的操作，省时省力，能够快速有效的精准清理，提高工作效率。高工作效率。高工作效率。


技术研发人员：王怡然 刘娜 张瑞
受保护的技术使用者：包头晶澳太阳能科技有限公司
技术研发日：2022.07.18
技术公布日：2022/12/9