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一种多晶硅还原炉用多功能清洗系统的制作方法

2022-12-07 12:43:36 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种多晶硅还原炉用多功能清洗系统,其特征在于,包括清洗容器(100)、桁架机器人(200)、清洗上料平台(300)和清洗下料平台(400),所述清洗容器(100)内设置有多个隔挡板(500),将所述清洗容器(100)内依次分隔为多个上端开口的容纳腔,所述桁架机器人(200)设置于所述清洗容器(100)上方,用于夹抓待清洗件从一个所述容纳腔搬移至另一所述容纳腔,多个所述容纳腔中包括依次排列的第一容纳腔(110)、第二容纳腔(120)和第三容纳腔(130),所述第一容纳腔(110)容纳有碱液或酸液,且安装有第一转动平台(111)、第一加热模组(112)、第一鼓泡模组(113)和第一温控模组(114),且与所述清洗上料平台(300)的一侧相连,所述第二容纳腔(120)容纳有清水,且安装有第一搅转机构(121)和超声换能器(122),所述第三容纳腔(130)的内壁安装有多个加热条(131),所述加热条(131)用于加热烘干所述待清洗件,所述第三容纳腔(130)的一侧与所述清洗下料平台(400)相连。2.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉用多功能清洗系统,其特征在于,多个所述加热条(131)等间隔设置,且任意相邻的两个所述加热条(131)之间设置有多个第一气吹头(132),多个所述第一气吹头(132)可吹出高压干燥冷却洁净气体,用于冷却所述待清洗件。3.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉用多功能清洗系统,其特征在于,所述第三容纳腔(130)的底部安装有第二转动平台(133),所述待清洗件可放置于所述第二转动平台(133),所述第二转动平台(133)可带动所述待清洗件旋转。4.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉用多功能清洗系统,其特征在于,所述第一容纳腔(110)与所述第二容纳腔(120)之间还具有第四容纳腔(140),所述第二容纳腔(120)与所述第三容纳腔(130)之间还具有第五容纳腔(150),所述第四容纳腔(140)和所述第五容纳腔(150)的内壁均设置有多个冲洗喷头(141),多个所述冲洗喷头(141)可喷出高压清水,用于冲洗所述待清洗件,所述第四容纳腔(140)和所述第五容纳腔(150)的底部开设有快排水口(142)。5.根据权利要求4所述的一种多晶硅还原炉用多功能清洗系统,其特征在于,所述第一容纳腔(110)与所述第四容纳腔(140)之间还具有第六容纳腔(160)和第七容纳腔(170),所述第六容纳腔(160)容纳有清水,且安装有第二搅转机构(161)和第二鼓泡模组(162),所述第七容纳腔(170)容纳有碱液或氢氟酸溶液,且安装有第三搅转机构(171)和第三鼓泡模组(172),所述第一容纳腔(110)、所述第六容纳腔(160)、所述第七容纳腔(170)和所述第四容纳腔(140)依次连接。6.根据权利要求5所述的一种多晶硅还原炉用多功能清洗系统,其特征在于,所述第一容纳腔(110)与所述第七容纳腔(170)内均设置有ph检测器(173)。7.根据权利要求4所述的一种多晶硅还原炉用多功能清洗系统,其特征在于,所述第二容纳腔(120)与所述第五容纳腔(150)之间还具有第八容纳腔(180),所述第八容纳腔(180)容纳有脱盐水,且安装有第四搅转机构(181)、第四鼓泡模组(182)、第二加热模组(183)和第二温控模组(184)。8.根据权利要求4所述的一种多晶硅还原炉用多功能清洗系统,其特征在于,所述第五容纳腔(150)与所述第三容纳腔(130)之间还具有第九容纳腔(190),所述第九容纳腔(190)的内壁设置有多个第二气吹头(191),多个所述第二气吹头(191)可吹出高压干燥洁净气体,用于吹去所述待清洗件上的至少部分液体。

技术总结
本申请涉及一种多晶硅还原炉用多功能清洗系统,清洗容器内设置的多个隔挡板将清洗容器内分隔为多个容纳腔,桁架机器人用于夹抓待清洗件从一个容纳腔搬移至另一容纳腔,多个容纳腔中包括依次排列的第一容纳腔、第二容纳腔和第三容纳腔,第一容纳腔容纳有碱液或酸液,且安装有第一转动平台、第一加热模组、第一鼓泡模组和第一温控模组,第二容纳腔容纳有清水,且安装有第一搅转机构和超声换能器,第三容纳腔的内壁安装有多个加热条,加热条用于加热烘干待清洗件。上述方案能够自动完成氮化硅瓷环以及硅芯的清洗,清洗效率高,且清洗过程无需人工参与,减轻工作人员的劳动强度,同时也避免了人工操作的过程中腐蚀性液体溅出伤人事故的发生。人事故的发生。人事故的发生。


技术研发人员:徐志国 吴瑾东 王奕凯 梁学勤 段波 赵明
受保护的技术使用者:宁夏润阳硅材料科技有限公司
技术研发日:2022.06.28
技术公布日:2022/12/6
再多了解一些

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