一种漏液侦测设备的制作方法

1.本实用新型涉及半导体制造领域，特别涉及一种漏液侦测设备。


背景技术：

2.在半导体制造工艺中，光刻工艺是半导体制造工艺中的核心制程之一。其中，在光刻工艺中，光刻胶的涂布工艺是光刻工艺中极为重要的部分，光刻胶的涂布方法包括旋转涂布技术、刷涂或浸泡法等，光刻胶涂布质量的好坏直接会影响到半导体器件的质量。
3.在半导体设备旋转涂布工艺的机台运作过程中，输送试剂，输送试剂的管道外侧设置控温管道，控温管道若出现破裂则会导致渗漏液体，液体可能喷溅到晶圆表面造成污染，如不及时处理漏液，会导致产线上大批晶圆污染甚至报废，影响产品的良率。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种漏液侦测设备，能有效降低因管道破裂发生漏液对产线中晶圆造成的持续污染，提高产品的良率。
5.本实用新型提供一种漏液侦测设备，至少包括，
6.储存室；
7.涂布室，设置在所述储存室的一侧，且所述涂布室通过输送装置与所述储存室连通；
8.循环水冷机，所述循环水冷机通过循环水管与所述储存室连通；
9.压力检测装置，设置在所述储存室、所述涂布室与所述循环水冷机形成的通路上；以及
10.控制单元，与所述压力检测装置电性连接，允许所述压力检测装置向所述控制单元传输信号。
11.在本实用新型的一实施例中，所述压力检测装置设置在所述储存室与所述循环水冷机之间，且所述压力检测装置设置在所述循环水管上。
12.在本实用新型的一实施例中，所述循环水冷机包括回水端，所述回水端通过所述压力检测装置与所述储存室连接。
13.在本实用新型的一实施例中，所述压力检测装置包括液泵，所述液泵控制所述循环水管内产生的负压。
14.在本实用新型的一实施例中，所述控制单元与所述涂布室电性连接，控制所述涂布室停止工作或使晶圆退回晶圆盒。
15.在本实用新型的一实施例中，所述输送装置包括外输送件和内输送件，所述外输送件套设于所述内输送件外侧。
16.在本实用新型的一实施例中，所述储存室设置循环出水端口、循环回水端口与试剂端口，所述内输送件与所述试剂端口连接，所述外输送件的进水口与所述循环出水端口连接，所述外输送件的出水口与所述循环回水端口连接。
17.在本实用新型的一实施例中，所述内输送件的内径为所述外输送件内径的1/4-3/4。
18.在本实用新型的一实施例中，所述涂布室包括转盘，所述转盘上设置有多个真空孔，多个所述真空孔对称分布在所述转盘上。
19.在本实用新型的一实施例中，所述涂布室包括真空泵，所述真空泵对所述转盘进行抽真空操作。
20.本实用新型提供的一种漏液侦测设备，能有效降低因管道发生破裂造成漏液，对产线中大批晶圆造成污染，或对晶圆表面涂布的试剂造成影响，从而提高产品良率，也便于操作人员的查看和检修，提高生产效率。
附图说明
21.为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
22.图1为本实用新型一实施例中一种漏液侦测设备的结构示意图。
23.图2为本实用新型一实施例中一种漏液侦测设备的局部结构示意图。
24.图3为本实用新型一实施例中储存室与输送装置的结构示意图。
25.图4为本实用新型一实施例中压力检测装置的结构示意图。
26.图5为本实用新型一实施例中压力检测单元的结构示意图。
27.图6为本实用新型一实施例中数据处理单元的结构示意图。
28.标号说明：
29.100、压力检测装置；110、压力检测单元；111、压力传感器；112、信号处理器；120、液泵；130、数据处理单元；131、数据转换器；132、液晶显示面板；133、报警器；200、循环水冷机；201、循环水管；300、储存室；301、试剂端口；302、循环出水端口；303、循环回水端口；400、输送装置；401、内输送件；402、外输送件；500、喷洒装置；501、缓冲部；502、喷头；600、控制单元；700、涂布室；701、晶圆；702、腔室；703、转盘；704、动力源；705、真空泵；706、真空孔。
具体实施方式
30.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
31.须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本方案可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本方案所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本方案所揭示的技术内容能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便
于叙述的明了，而非用以限定本方案可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本方案可实施的范畴。
32.请参阅图1所示，本实用新型提出一种漏液侦测设备，此设备包括压力检测装置100、循环水冷机200、储存室300、输送装置400、控制单元600和涂布室700。储存室300中储存有试剂，储存室300一端通过输送装置400与涂布室700连通，向涂布室700输送试剂，储存室300另一端通过循环水管201与循环水冷机200连通。循环水冷机200、储存室300与涂布室700之间形成通路，压力检测装置100设置在此通路上，对储存室300与涂布室700之间输送装置400的压力进行监测和记录。控制单元600分别与压力检测装置100和涂布室700电性连接，当输送装置400破裂，压力检测装置100检测到压力异常并报警。并将信号传输至控制单元600，控制单元600控制涂布室700停止工作，可有效防止泄露的液体喷溅到晶圆表面造成污染，避免造成晶圆的报废。
33.请参阅图1所示，在本实用新型一实施例中，储存室300例如可以呈长方体状设置，在其他实施例中，储存室300例如也可以呈圆柱体、棱柱体或其他形状设置，在此不做限定。在本实用新型一实施例中，储存室300的容量例如可以设置为3l-6l。储存室300内储存化学试剂，如光刻胶等，在其他制程中，还可储存其他试剂，因此储存室300应采用耐高温耐腐蚀的材料制成。本实用新型对储存室300的具体材质不加以限制，在一实施例中，储存室300例如可以由聚四氟乙烯、聚醚醚酮或对位聚苯酚等防腐材料制成。
34.请参阅图1所示，在本实用新型一实施例中，循环水冷机200设置在储存室300的一侧，循环水冷机200可通过循环水管201与储存室300连通。在本实用新型一实施例中，循环水冷机200可包括一水泵，以实现向储存室300输送循环水，且循环水从循环水冷机200的出水端(图1中箭头方向所示)输送至储存室300，再从储存室300回流至循环水冷机200的回水端(图1中箭头方向所示)，节约水资源的利用。在本实用新型一实施例中，循环水冷机200可将循环水的温度控制在3℃-6℃。循环水的温度设置在此范围内，可将储存室300内的试剂进行降温，并让试剂维持在一个稳定的低温状态，有效防止试剂的挥发或变质。
35.请参阅图1所示，在本实用新型一实施例中，涂布室700设置在储存室300的相对循环水冷机200的一侧，且涂布室700通过输送装置400与储存室300连通，将储存室300内储存的试剂输送至涂布室700。
36.请参阅图1所示，在本实用新型一实施例中，输送装置400的横截面例如可以设置为圆形，在其他实施开中，输送装置400的横截面例如也可以设置为方形、椭圆形等形状。在本实用新型一实施例中，输送装置400例如为可绕曲软管。本实用新型对输送装置400的材质不加以限制，在一实施例中，输送装置400例如可以由硅橡胶、丁氰橡胶或氟硅橡胶等材质制成。
37.请参阅图1和图2所示，在本实用新型一实施例中，输送装置400包括内输送件401和外输送件402。在本实用新型一实施例中，外输送件402套设在内输送件401外围，内输送件401的内径例如为外输送件402内径的1/4-3/4。在在本实用新型一实施例中，外输送件402包括相互连通的进水管路(图中未显示)与出水管路(图中未显示)，进水管路与出水管路组合形成套设于内输送件401外部的环状管路。在其他实施例中，可设置多组相互连通的进水管路和出水管路。本实用新型一实施例中，储存室300内的试剂通路与循环水通路相互独立，且储存室300设有试剂端口301、循环出水端口302和循环回水端口303。外输送件402
的进水口(图2中箭头方向所示)与循环出水端口302，外输送件402的出水口(图2中箭头方向所示)与循环回水端口303连接，内输送件401与试剂端口301连接。内输送件401输送试剂，外输送件402输送循环冷却水，循环冷却水包裹内输送件401，可对内输送件401的试剂进行降温。在本实用新型一实施例中，根据实际生产需要，外输送件402还可以输送循环温水，循环温水包裹内输送件401，可对内输送件401的试剂进行水浴加热。
38.请参阅图1和图3所示，在本实用新型一实施例中，输送装置400与涂布室700之间设置有喷洒装置500，喷洒装置500包括缓冲部501和喷头502。在本实用新型一实施例中，缓冲部501的形状不做限定，其横截面例如可以设置成矩形，例如也可以设置成圆形，例如还可以设置成锥形。在本实用新型一实施例中，缓冲部501的一端与输送装置400连接，输送装置400输送试剂的流量大于喷头502喷洒试剂的流量，试剂在缓冲部501中被收集、储存，防止输送装置400输送的试剂流量过大，起到缓冲的作用。在本实用新型一实施例中，缓冲部501的容量例如可以为0.5l-1l。在本实用新型一实施例中，缓冲部501的另一端与喷头502连接，通过喷头502将存储的试剂喷洒至晶圆表面。在本实用新型一实施例中，喷头502为尖嘴喷头，可减小喷洒至晶圆表面的试剂的流量，防止破坏晶圆表面的结构。在本实用新型一实施例中，喷头502例如可以呈圆锥设置，喷头502例如也可以呈棱锥设置。
39.请参阅图1和图3所示，在本实用新型一实施例中，涂布室700包括腔室702、转盘703、动力源704和真空泵705，转盘703设置在腔室702内，动力源704与转盘703连接，驱动转盘703进行旋转，晶圆701放置在转盘703上，真空泵705与腔室702内的转盘703连接，可对转盘703进行抽真空处理，此时晶圆701在负压的作用下被吸附在转盘703上并匀速旋转，从而使喷洒装置500喷洒的试剂均匀的喷涂在晶圆701表面。在本实用新型一实施例中，转盘703上设置有多个真空孔706，且多个真空孔706对称分布在转盘703上。在本实用新型一实施例中，真空孔706的数量例如为2-6个，真空孔706的直径例如可以为5mm-10mm。晶圆701放置在转盘703上，真空泵705对转盘703进行抽真空操作时，晶圆701与转盘703之间缝隙的空气通过真空孔706排出，晶圆701被牢固吸附在转盘703表面，并在动力源704的驱动下进行匀速转动。
40.请参阅图1和图3所示，在本实用新型一实施例中，腔室702例如可以呈圆柱状设置。在其他实施例中，腔室702例如也可以呈棱柱体、锥体等设置。
41.在本实用新型一实施例中，腔室702顶部设有开口，喷头502从开口伸进腔室702内，腔室702与喷洒装置500进行连通。在本实用新型一实施例中，转盘703设置在腔室702内，以承载晶圆701。在本实用新型一实施例中，转盘703的形状例如可以设置为圆形。
42.请参阅图1和图3所示，在本实用新型一实施例中，动力源704与转盘703连接，动力源704例如可以设置在转盘703底部，以驱动转盘703匀速转动。在本实用新型一实施例中，转盘703的转速例如可以设置为1000r/min-5000r/min。本实用新型对动力源704的种类不加以限制，在本实施例中，动力源704例如可以为电机。在本实用新型对真空泵705的位置不加以限制，真空泵705可设置在腔室702内部，也可设置在腔室702外部。
43.请参阅图1和图4所示，循环水冷机200、储存室300与涂布室700之间形成通路，压力检测装置100设置在此通路上。在本实用新型一实施例中，压力检测装置100可设置在储存室300与循环水冷机200之间，且压力检测装置100位于循环水冷机200的回水端(图1中箭头方向)，压力检测装置100对循环水管201内的压力进行监测，从而实现对循环水冷机200
与储存室300之间的通路及储存室300与涂布室700之间通路的内部压力进行监测。在其他实施例中，压力检测装置100也可设置在储存室300与涂布室700之间。
44.请参阅图1和图4所示，在本实用新型一实施例中，压力检测装置100包括压力检测单元110、液泵120和数据处理单元130，压力检测单元110与数据处理单元130电性连接。在本实用新型一实施例中，液泵120对循环水管201进行操作，使循环水冷机200与储存室300之间的通路及储存室300与涂布室700之间通路处于稳定负压状态，当输送装置400的外输送件402或循环水管201破裂时，通路内的循环水不会立刻泄露，可有效防止输送装置400或循环水管201破裂造成漏液，对晶圆造成污染或对涂布在晶圆表面的试剂造成影响。
45.请参阅图1、图4和图5所示，在本实用新型一实施例中，压力检测单元110例如包括压力传感器111和信号处理器112。本实用新型对压力传感器111的种类不加以限制，在一实施例中，压力传感器111例如可以为陶瓷压力传感器，在另一实施例中，压力传感器111例如也可以为扩散硅压力传感器，在其他实施例中，压力传感器111例如还可以为蓝宝石压力传感器等。在本实用新型一实施例中，压力传感器111测量范围例如为-1kpa～1.5kpa，测量精度例如为5pa
±
0.1pa。在本实用新型一实施例中，压力传感器111对循环水冷机200与储存室300之间的通路及储存室300与涂布室700之间通路的压力进行采集，通过信号处理器112进行处理，将压力数据传输至数据处理单元130。当循环水管201和输送装置400正常工作时，循环水冷机200与储存室300之间的通路及储存室300与涂布室700之间通路的压力处于稳定状态。当循环水管201或输送装置400破裂时，循环水冷机200与储存室300之间的通路及储存室300与涂布室700之间通路的压力会急剧增大，出现异常。
46.请参阅图6所示，在本实用新型一实施例中，数据处理单元130例如包括数据转换器131、液晶显示面板132和报警器133。压力数据传输至数据处理单元130时，数据转换器131将压力数据进行转换和存储，并通过液晶显示面板132进行显示。当压力数据异常时，报警器133就会报警，便于操作人员进行查看和检修。
47.请参阅图1和图3所示，在本实用新型一实施例中，控制单元600一端与压力检测装置100电性连接，另一端与涂布室700电性连接。当压力检测装置100检测到储存室300与涂布室700之间通路内的压力异常时，压力检测装置100发出警报，控制单元600控制涂布室700停止工作，并控制晶圆701退回晶圆盒(图中未显示)，防止输送装置400破裂发生漏液，泄露出的液体对晶圆701表面造成污染，并造成一批晶圆报废，影响产品良率。当压力检测装置100检测到循环水冷机200与储存室300之间的通路内压力异常时，压力检测装置100发出警报，控制单元600控制涂布室700停止工作，防止循环水管201破裂发生漏液，储存室300内的试剂温度过高发生变质，影响晶圆的涂布效果，最终影响产品良率。
48.综上，本实用新型提供的一种漏液侦测设备，通过对循环水冷和晶圆涂布阶段的压力进行监测，压力异常时发出报警信号，并控制机台停止运行，能有效降低因管道发生破裂造成漏液，对产线中大批晶圆造成污染，或对晶圆表面涂布的试剂造成影响，从而提高产品良率，也便于操作人员的查看和检修，提高生产效率。
49.以上公开的本实用新型实施例只是用于帮助阐述本实用新型。实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该实用新型仅为所述的具体实施方式。显然，根据本说明书的内容，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本实用新型的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本实用新
型。本实用新型仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。