一种TiN-SrMoO4复合高反射膜、器件及其制备和应用的制作方法

技术特征：
1.一种tin-srmoo4复合高反射膜，其特征在于，包括交替复合的tin层和srmoo4层。2.如权利要求1所述的tin-srmoo4复合高反射膜，其特征在于，所述的tin层的厚度为150～160nm；优选地，所述的srmoo4层的厚度为360～400nm。3.如权利要求1所述的tin-srmoo4复合高反射膜，其特征在于，所述的tin层和srmoo4层交替复合层数为5-10层。4.一种权利要求1～3任一项所述的tin-srmoo4复合高反射膜的制备方法，其特征在于，采用离子溅射镀膜方式，交替镀制所述的tin层和srmoo4层。5.如权利要求4所述的tin-srmoo4复合高反射膜的制备方法，其特征在于，镀制tin层的镀制工艺为：采用射频离子源轰击tin靶材，使tin靶材粒子沉积于工件盘基底上；其中，镀膜机真空室压力≤2*10-6
tor,通上氩气、氧气压力设置到25～35pai；tin的沉积速率为7.5～8nm/s，沉积时间为160-200秒。6.如权利要求4所述的tin-srmoo4复合高反射膜的制备方法，其特征在于，镀制srmoo4层的工艺为：采用射频离子源轰击srmoo4靶材，使srmoo4靶材粒子沉积于工件盘基底上；其中，镀膜机真空室压力≤2*10-6
tor，通上氩气、氧气压力设置到25～35ppai；srmoo4的沉积速率为2.5～3nm/s；沉积温度设定为260-300℃，沉积时间设定为160-200秒。7.一种权利要求1～3所述的tin-srmoo4复合高反射膜的应用，其特征在于，将其在基底表面按tin层和srmoo4层的顺序依次叠置，形成tin-srmoo4复合高反射膜器件。8.一种tin-srmoo4复合高反射膜器件，其特征在于，包括基底，以及复合在其表面的权利要求1～3任一项所述的tin-srmoo4复合高反射膜；其膜结构为：sub/(hl)^m/air；h为tin层；l为srmoo4层；所述的m为h和l重复复合的系数；其中，m为5-10的整数；所述的sub为基底，所述的air为空气。9.如权利要求8所述的tin-srmoo4复合高反射膜器件，其特征在于，所述的基底为掺er:ylf激光晶体、cr:znse晶体、fe:znse晶体、tm:kyw晶体或tm,ho:kyw晶体。10.一种权利要求8～9任一项所述tin-srmoo4复合高反射膜器件的应用，其特征在于，将其用于制备激光测距、激光加工、激光全息技术、激光医学中的至少一种器件。

技术总结
本发明属于反射材料领域，具体涉及一种TiN-SrMoO4复合高反射膜，包括交替复合的TiN层和SrMoO4层。本发明还包括所述的材料的制备和应用。本发明研究表明，采用TiN和SrMoO4复合，能够意外地实现协同，能够显著改善反射率、改善应力和附着力等机械强度，改善其耐高温、耐湿稳定性。耐湿稳定性。耐湿稳定性。


技术研发人员：姜海 范鹏 熊锋 刘俞含
受保护的技术使用者：湖南麓星光电科技有限公司
技术研发日：2022.08.26
技术公布日：2022/12/1