防紫光ITO膜生产工艺的制作方法

技术特征：
1.防紫光ito膜生产工艺，其特征在于：包括如下原料：普通浮法玻璃、清洗试剂、氩气；复合uv涂料；紫光屏蔽剂；辅材；复合uv涂料由六官能团聚氨酯丙烯酸树脂、光引发剂irgacure、助剂、纳米si02油性分散液和丙烯酸流平剂组成；且生产工艺步骤如下：步骤一、先将六官能团聚氨酯丙烯酸树脂、光引发剂irgacure和助剂按照配比5：3：1加入高速分散釜中，然后再向高速分散釜中加入纳米si02分散液，混合均匀后过滤，得到纳米复合涂料；步骤二、再采用mayer线棒涂布器将纳米复合涂料均匀涂覆在超薄型pet膜上，且mayer线棒涂布器对纳米复合涂料涂覆过程中，在mayer线棒涂布器上均匀涂覆丙烯酸流平剂，使纳米复合涂料在mayer线棒涂布器上均匀流平延展，然后再将涂覆纳米复合涂料后的超薄型pet膜置于烘干箱内进行烘干处理，待烘干完成后，然后再将初步热固于超薄型pet膜置上的纳米复合涂料进行uv成型固化，即可制得ito膜用的超薄型硬化涂层；步骤三、采用jgp450f型射频高真空卧式磁控溅射设备按照磁控溅射法先将步骤二制得ito膜用的超薄型硬化涂层在普通浮法玻璃衬底基片上烧结形成氧化物陶瓷靶，再使用清洗试剂对普通浮法玻璃衬底基片上烧结形成的氧化物陶瓷靶进行清洗，然后设定jgp450f型射频高真空卧式磁控溅射设备的前腔室真空度达到2.0
×
10-3
pa，并在氧化物陶瓷靶的靶材上进行至少10min的预溅射，清洁其表面的杂质样品沉积后，直接在jgp450f型射频高真空卧式磁控溅射设备的溅射腔体内充入氩气，且再氩气气氛中，再进行退火处理处理，且退火温度范围控制在50℃-200℃之间，在普通浮法玻璃衬底基片的上层制得单面磁控溅射完成的ito膜，再将单面磁控溅射完成的ito膜进行翻面，同上，即可在普通浮法玻璃衬底基片上下层制得双面磁控溅射完成的ito膜；步骤四、再使用高压喷涂机对步骤三制得的普通浮法玻璃衬底基片双面ito膜的上下两面分别进行高压喷涂紫光屏蔽剂，然后再将完成双面紫光屏蔽剂喷涂后的普通浮法玻璃衬底基片双面ito膜置于烘干箱内进行热固成型处理，即可制得双面防紫光的ito膜；步骤五、最后对步骤四制得的双面防紫光ito膜进行透光率、硬度、附着率、摩擦系数和防紫光等级进行检验，确保步骤四制得的双面防紫光ito膜达到合格要求。2.根据权利要求1所述的防紫光ito膜生产工艺，其特征在于：所述普通浮法玻璃的厚度介于0.5-0.8mm之间，所述清洗试剂由丙酮、酒精和去离子水组成，所述复合uv涂料中助剂由丁酮、甲基异丁基酮和丙二醇甲醚组成。3.根据权利要求1所述的防紫光ito膜生产工艺，其特征在于：所述复合uv涂料中纳米si02油性分散液中含有几种不同粒径，各粒子量为25%，且si02的纳米级粒子粒径介于50nm-130nm。4.根据权利要求1所述的防紫光ito膜生产工艺，其特征在于：所述紫光屏蔽剂采用纳米级tio2溶剂，且纳米级tio2溶剂中的tio2含量比为80粒/g。5.根据权利要求1所述的防紫光ito膜生产工艺，其特征在于：所述辅材选用超薄型pet
膜，且超薄型pet膜厚度范围介于0.5-0.7mm。6.根据权利要求1所述的防紫光ito膜生产工艺，其特征在于：所述在步骤一中，高速分散釜对按照5：3：1配比下的六官能团聚氨酯丙烯酸树脂、光引发剂irgacure和助剂在800r/min下分散25min，高速分散釜中加入纳米si02分散液后，以1500r/min搅拌40min，对混合溶液过滤时，采用六层滤纸逐层过滤，且六层滤纸的网眼密度由上至下依次递增，最下层滤纸的网眼密度介于500-800目之间，纳米复合涂料的固含量控制在20%-25%之间。7.根据权利要求1所述的防紫光ito膜生产工艺，其特征在于：所述在步骤二中，烘干箱上管温度控制在50-100℃，下管温度控制在40-80℃，烘干1-3min。8.根据权利要求1所述的防紫光ito膜生产工艺，其特征在于：所述在步骤三中，氧化物陶瓷靶的大小为200
×
80
×
4mm3，由90wt%in
203
和10wt%sn02条件下烧结而成，清洗试剂分三次对普通浮法玻璃衬底基片上烧结形成的氧化物陶瓷靶进行清洗，清洗后的氧化物陶瓷靶再利用超声清洗机进行超声清洗15min，jgp450f型射频高真空卧式磁控溅射设备在普通浮法玻璃衬底基片上形成双面ito膜过程中，jgp450f型射频高真空卧式磁控溅射设备的o2/ar流量比控制在0.1/25-0.7/25之间，且射频电源功率范围设定在130-220w之间，工作气压介于0.2-1.0pa，且jgp450f型射频高真空卧式磁控溅射设备在普通浮法玻璃衬底基片上形成双面ito膜时，靶材与基片的间距控制在2-4cm。9.根据权利要求1所述的防紫光ito膜生产工艺，其特征在于：所述在步骤五中，附着力按gb/t9286-1998进行测试、硬度按gb/t6739-2006进行测试、透光率/雾度测试根据astmd1003标准测试、摩擦系数按gb10006-1988进行测试以及防紫光按综合等级按照等级评定。

技术总结
本发明公开了防紫光ITO膜生产工艺，包括如下原料：普通浮法玻璃、清洗试剂、氩气；复合UV涂料；紫光屏蔽剂；辅材，通过普通浮法玻璃、清洗试剂、氩气、复合UV涂料、紫光屏蔽剂以及辅材的原料配合，从原料的选择上实现优化，使各原料之间的作用特性更为合理，避免从原料上出现排异现象，再通过步骤一至五配合，提升双面型ITO薄膜的硬度，在外力作用下或在运输途中，提高双面型ITO薄膜表面的抗划伤性能，且双面型ITO薄膜收卷和后续深加工时，减少双面型ITO薄膜双面硬化层的摩擦系数，同时也避免双面型ITO薄膜上的双面硬化层发生粘连损坏，也能达到有效屏蔽400nm-10nm波段的紫光照射的防紫光要求，提高双面型ITO薄膜的整体核心竞争力。提高双面型ITO薄膜的整体核心竞争力。提高双面型ITO薄膜的整体核心竞争力。


技术研发人员：孟凡杰
受保护的技术使用者：怡通科技有限公司
技术研发日：2022.07.30
技术公布日：2022/11/11