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半导体多晶硅片清洗试剂生产散热设备的制作方法

2022-10-20 01:39:32 来源:中国专利 TAG:


1.本实用新型属于电子试剂技术领域,涉及到半导体多晶硅片清洗试剂生产散热设备。


背景技术:

2.半导体多晶硅片清洗试剂中的酸性组分,如:氢氟酸,其沸点较低(19.54℃),在生产过程中需要及时散热降温。氢氟酸定量灌装后需要进入包装车间贴标和分箱包装,氢氟酸置于链板线上自动到达包装工位。由于氢氟酸的沸点很低,在炎热的夏季,车间温度较高的情况下,氢氟酸大量挥发会导致包装瓶内压力升高,一旦包装瓶发生破损将严重威胁工作人员的健康,因此需要提出一种在瓶装氢氟酸输送过程中对其降温的设备。


技术实现要素:

3.本实用新型要解决的技术问题是:提供一种在瓶装氢氟酸输送过程中对其降温的设备。
4.为解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案如下:
5.一种半导体多晶硅片清洗试剂生产散热设备,包括两组分别位于链板线两侧的换热装置,所述换热装置包括固定于链板线侧面基座上的壳体,所述壳体内部设置有沿其长度延伸的连续弯曲的水管,所述水管的一端连接板式换热器的出水管,另一端连接板式换热器的进水管,所述壳体内部设置有包覆所述水管的保温棉,所述保温棉的密度自进水端向出水端逐渐降低。
6.与现有技术相比,本实用新型具有的有益效果是:
7.设置在链板线两侧的换热装置为进入其间的瓶装氢氟酸快速降温,避免了瓶内压力升高,消除了瓶破的风险。
附图说明
8.为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
9.图1为生产散热设备的示意图;
10.图2为生产散热设备的剖面示意图;
11.图3为生产散热设备的另一个角度的剖面示意图;
12.图4为另一种生产散热设备的剖面示意图。
具体实施方式
13.为了使本实用新型所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合实施例,对本实用新型进行进一步的详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限制本实用新型。
14.实施例
15.图1中所示的生产散热设备,设置于链板线10中,其包括两组分别位于链板线两侧的换热装置20。参见图2和3,换热装置包括安装于链板线侧面基座上的壳体,壳体内部设置有沿其长度延伸的连续弯曲的冷水管21,壳体内部设置有固定冷水管的支架,冷水管的一端连接板式换热器的出水管,另一端连接板式换热器的进水管,壳体内部设置有包覆冷水管的保温棉22,保温棉的密度自进水端向出水端逐渐降低。包装瓶进入两组换热装置之间形成的冷却通道内,在冷却通道内行走时,包装瓶被快速降温,避免了瓶内压力升高,消除了瓶破的风险。
16.在壳体的内侧壁上设置有自润滑的聚四氟乙烯涂层23,如此便可减小冷却通道的宽度,提高包装瓶的冷却速度,而且即使包装瓶触碰到涂层,也不会损坏包装瓶的外包装。
17.在壳体的外侧设置有可拆卸的盖板24,将盖板拆卸后便可检修冷水管和保温棉。
18.作为本实施例的改进,参见图4,壳体内部设置有两条冷水管21,这两条冷水管的运水方向相反,如此便可保证换热装置内部温度均匀。
19.作为本实施例的改进,链板线的侧面基座的顶部设置有滑轨30,壳体滑接于滑轨上,通过调节左右两个壳体在滑轨上的位置可以调节冷却通道的宽度,如此便可适应不同直径的包装瓶。
20.对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。


技术特征:
1.半导体多晶硅片清洗试剂生产散热设备,其特征在于,包括两组分别位于链板线两侧的换热装置,所述换热装置包括安装于链板线侧面基座上的壳体,所述壳体内部设置有沿其长度延伸的连续弯曲的冷水管,所述冷水管的一端连接板式换热器的出水管,另一端连接板式换热器的进水管,所述壳体内部设置有包覆所述冷水管的保温棉,所述保温棉的密度自进水端向出水端逐渐降低。2.根据权利要求1所述的半导体多晶硅片清洗试剂生产散热设备,其特征在于,所述壳体的内侧壁上设置有自润滑的聚四氟乙烯涂层。3.根据权利要求1所述的半导体多晶硅片清洗试剂生产散热设备,其特征在于,所述壳体的外侧设置有可拆卸的盖板。4.根据权利要求1所述的半导体多晶硅片清洗试剂生产散热设备,其特征在于,所述壳体内部设置有固定所述冷水管的支架。5.根据权利要求1所述的半导体多晶硅片清洗试剂生产散热设备,其特征在于,所述壳体内部设置有两条冷水管,这两条冷水管的运水方向相反。6.根据权利要求1所述的半导体多晶硅片清洗试剂生产散热设备,其特征在于,所述链板线的侧面基座的顶部设置有滑轨,所述壳体滑接于所述滑轨上。

技术总结
本实用新型属于电子试剂技术领域,公开了一种半导体多晶硅片清洗试剂生产散热设备,其包括两组分别位于链板线两侧的换热装置,换热装置包括安装于链板线侧面基座上的壳体,壳体内部设置有沿其长度延伸的连续弯曲的冷水管,冷水管的一端连接板式换热器的出水管,另一端连接板式换热器的进水管,壳体内部设置有包覆冷水管的保温棉,保温棉的密度自进水端向出水端逐渐降低。本设备通过设置在链板线两侧的换热装置形成一条冷却通道,为进入其间的瓶装氢氟酸快速降温,避免了瓶内压力升高,消除了瓶破的风险。破的风险。破的风险。


技术研发人员:郁亮 周志坚 李兴元 王建远 徐强
受保护的技术使用者:昆山金城试剂有限公司
技术研发日:2022.04.25
技术公布日:2022/10/18
再多了解一些

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