偏振片及显示装置的制作方法

1.本发明涉及一种偏振片及显示装置。


背景技术：

2.光学膜具有各种用途，作为其中之一用于偏振片。
3.偏振片用作液晶显示装置(lcd)或有机电致发光(有机el)显示器(oled)等部件，在其显示性能中发挥重要的作用。通常的偏振片具有使光学膜贴合在使碘络合物等二色性色素吸附取向于聚乙烯醇(pva)系树脂而成的起偏器的单面或者两面上的结构。
4.近年来，正在进行显示装置的大型化、薄型化及可挠化，伴随于此，偏振片也被要求与以往不同的功能或薄型化。
5.为了使偏振片薄型化，需要构成偏振片的光学膜的薄型化。例如，专利文献1中记载了如下方法：在伪支撑体上设置涂布膜，在该涂布膜上贴合起偏器之后，从涂布膜剥离伪支撑体，由此制作贴合有膜厚小于10μm的涂布膜的偏振片。
6.这种薄型偏振片的耐久性低，在高温或赋予热冲击的情况下具有容易破裂的倾向。
7.以往技术文献
8.专利文献
9.专利文献1：国际公开第2014/199934号


技术实现要素：

10.发明要解决的技术课题
11.鉴于上述问题，本发明要解决的课题在于提供一种偏振片及显示装置，所述偏振片在薄型偏振片中，抗裂性，尤其在高温或赋予热冲击时的抗裂性优异，且安装在显示装置时的显示性能优异。
12.用于解决技术课题的手段
13.本发明人等发现，通过控制薄型光学膜的抗张力及厚度方向延迟，能够解决前述课题。
14.具体而言，发现通过下述方法能够解决上述课题。
15.1.16.一种偏振片，其至少包含起偏器和光学膜，
17.上述起偏器与上述光学膜直接层叠或经由粘接剂层叠，
18.上述光学膜的膜厚为0.1～10μm，抗张力为50～1000mpa，且厚度方向延迟rth的绝对值为25nm以下。
19.2.20.根据[1]所述的偏振片，其中，构成上述光学膜的基质材料的吸湿率为2.0质量％以下。
[0021]
[3]
[0022]
根据[1]或[2]所述的偏振片，其中，上述光学膜含有具有下述i～iii中的任一个性质的添加剂。
[0023]
i添加剂的弹性模量高于上述基质材料
[0024]
ii添加剂的断裂伸长率高于上述基质材料
[0025]
iii添加剂的断裂强度高于上述基质材料
[0026]
[4]
[0027]
一种显示装置，其在[1]～[3]中任一项所述的偏振片中包含的上述光学膜的与上述起偏器相反的一侧的面上层叠有粘合层，进一步层叠有基板，
[0028]
上述粘合层的弹性模量为0.01～100mpa，
[0029]
上述基板的弹性模量为6gpa～100gpa。
[0030]
[5]
[0031]
一种显示装置，其包含[1]～[3]中任一项所述的偏振片。
[0032]
发明效果
[0033]
根据本发明，能够提供一种偏振片及显示装置，所述偏振片即使在高温或热冲击的环境下，也具有优异的抗裂性，且安装在显示装置时的显示性能优异。
具体实施方式
[0034]
对本发明的内容详细地进行说明。有时根据本发明的代表性实施方式来完成以下记载的构成要件的说明，但本发明并不限定于这种实施方式。另外，在本技术说明书中，“～”是以将记载在其前后的数值作为下限值及上限值而包含的含义使用。
[0035]
[偏振片]
[0036]
本发明的偏振片至少包含起偏器和光学膜，上述起偏器与上述光学膜直接层叠或经由粘接剂层叠，上述光学膜的膜厚为0.1～10μm，抗张力为50～1000mpa，且厚度方向延迟rth的绝对值为25nm以下。
[0037]
以下，对本发明的偏振片的各构成要件进行说明。
[0038]
〔起偏器〕
[0039]
作为起偏器，没有特别限定，例如，优选使用将聚乙烯醇膜浸渍在碘溶液中并进行拉伸的起偏器、涂布二色性色素进行取向处理的起偏器等。具体而言，作为起偏器能够使用含有碘-聚乙烯醇络合物的薄膜等。对于由聚乙烯醇(pva)和二色性分子构成的起偏器，例如能够参考日本特开2009-237376号公报的记载。起偏器的膜厚可以为1～50μm，优选为2～30μm，更优选为3～20μm。
[0040]
〔偏振片保护膜〕
[0041]
在起偏器上贴合有本发明中使用的后述光学膜(以下，还称为本发明的光学膜)的面的相反面上，可以进一步贴合本发明的光学膜，也可以贴合以往已知的偏振片保护膜。
[0042]
对于上述以往已知的偏振片保护膜，对光学特性及材料均没有特别限制，能够优选使用含有纤维素酯树脂、丙烯酸树脂、和/或环状烯烃树脂、聚酯系树脂(或者作为主成分)的薄膜，可以使用光学各向同性的薄膜，也可以使用光学各向异性的相位差薄膜。
[0043]
对于上述以往已知的偏振片保护膜，作为含有纤维素酯树脂的薄膜，例如能够利
用fujitac td40uc、fujitac tj25(fujifilm corporation制造)等。
[0044]
对于上述以往已知的偏振片保护膜，作为含有丙烯酸树脂的薄膜，能够利用日本专利第4570042号公报中记载的包含含有苯乙烯系树脂的(甲基)丙烯酸树脂的偏振片保护膜、日本专利第5041532号公报中记载的含有在主链上具有戊二酰亚胺环结构的(甲基)丙烯酸树脂的偏振片保护膜、日本特开2009-122664号公报中记载的含有具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸系树脂的偏振片保护膜、日本特开2009-139754号公报中记载的含有具有戊二酸酐单元的(甲基)丙烯酸系树脂的偏振片保护膜。
[0045]
并且，对于上述以往已知的偏振片保护膜，作为含有环状烯烃树脂的薄膜，能够利用日本特开2009-237376号公报的[0029]段以后记载的环状烯烃系树脂薄膜、日本专利第4881827号公报、日本特开2008-063536号公报中记载的含有减少rth的添加剂的环状烯烃树脂薄膜。
[0046]
并且，对于上述以往已知的偏振片保护膜，作为含有聚酯树脂的薄膜，能够举出由聚对苯二甲酸乙二酯形成的cosmoshine srf(toyobo co.,ltd.制造)等。
[0047]
而且，在使用利用丙烯酸树脂的偏振片保护膜时，能够进一步发挥通过使用本发明的光学膜而带来的提高抗裂性效果。
[0048]
可以对以往已知的偏振片保护膜实施表面处理(日本特开平6-94915号公报、日本特开平6-118232号公报中也记载)而亲水化，例如，优选实施辉光放电处理、电晕放电处理、或碱皂化处理等。作为上述表面处理，最优选使用电晕放电处理。
[0049]
〔粘接剂〕
[0050]
在本发明的偏振片中，起偏器与光学膜直接或经由粘接剂层叠。
[0051]
作为经由粘接剂层叠时使用的粘接剂，优选为含有至少一种聚合性化合物的粘接剂。聚合性化合物优选含有至少一种阳离子聚合性化合物。
[0052]
粘接剂优选为含有阳离子聚合性化合物及产酸剂(所谓的引发剂)的方式。并且，为了提高固化率，优选添加增感剂，也可以在照射活性能量射线之后进行加热。并且，在光学膜为含有剥离性的基材膜的剥离性层叠薄膜的情况下，也能够在适当剥离基材膜之后，追加照射活性能量射线。
[0053]
粘接剂或增感剂的化合物能够使用通常的化合物，阳离子聚合性化合物或产酸剂(引发剂)的具体例记载于日本特开2018-41079号公报的[0014]～[0066]等中。并且，增感剂的具体例可举出蒽系(日本特开2018-25771号公报的[0103])、噻吨酮系等。并且，这些引发剂和增感剂也能够选定两种以上同时使用。
[0054]
本发明的偏振片还优选如下方式：光学膜与起偏器在上述起偏器的至少一个表面上经由含有至少一种以上的聚合性化合物的粘接剂层叠，且上述聚合性化合物实质上不渗入上述光学膜。
[0055]
上述聚合性化合物实质上不渗入上述光学膜是指，在不影响薄膜的外观和性能方面的范围内，可以渗入少量。例如，在渗入上述光学膜的上述聚合性化合物中，也包括渗入深度的最大值为0.001～3μm的聚合性化合物。优选为0.005～1μm，更优选为0.01～0.5μm。
[0056]
在本发明中，利用atr-ir测定光学膜的与具有粘接剂的一侧相反的一侧的表面，判定粘接剂的渗入状态，在未检测出源自粘接剂的吸收峰的情况下，设为实质上不渗入。atr是attenuated total reflection(衰减全反射)的缩写，ir是infrared spectroscopy
(红外光谱学)的缩写。具体而言，能够通过将由ge、krs-5、金刚石或znse等构成的atr棱镜(例如，mkii golden gate single reflection atr system，specac制造)安装在傅里叶变换红外光谱仪(例如，nicolet6700，thermo fisher scientific inc.制造)上，以反射模式进行测定，观测特征性的吸收峰面积来进行评价。
[0057]
〔光学膜〕
[0058]
对本发明的偏振片中包含的光学膜进行说明。
[0059]
本发明中使用的光学膜的膜厚为0.1～10μm，抗张力为50～1000mpa，且厚度方向延迟rth的绝对值为25nm以下。
[0060]
光学膜的可见光(波长380～780nm)的总透光率优选为80％以上，更优选为82％以上，进一步优选为85％以上。
[0061]
构成光学膜的材料没有特别限定，能够适当地使用聚合物树脂、或包含反应性单体的组合物的固化组合物等，将质量比率最高的材料作为基质材料。从提高抗张力的观点出发，能够选定凝聚性高的材料，作为原材料单体中硬度或抗张力高的添加剂，优选添加后述强度改进剂。
[0062]
＜基质材料＞
[0063]
从对光学膜赋予阻隔性的功能的观点出发，上述基质材料的吸湿率(在没有特别记载的情况下，设为25℃80％rh下的平衡吸湿率)优选为2.0质量％以下，更优选为0～1.5质量％，进一步优选为0～1.0质量％。上述rh表示相对湿度。
[0064]
上述基质材料的吸湿率如下进行测定。
[0065]
将基质材料的样品在25℃、相对湿度80％下调湿24小时之后，使用水分测定器、试样干燥装置“ca-03”及“va-05”{均为mitsubishi chemical corporation制造}通过卡尔费休法测定吸湿率。
[0066]
基质材料优选为后述树脂，更优选为苯乙烯系树脂、环状聚烯烃树脂、聚酯树脂，进一步优选为苯乙烯系树脂、或环状聚烯烃树脂。
[0067]
相对于光学膜的总质量，上述基质材料优选为45质量％以上，更优选为50～90质量％，进一步优选为55～80质量％。
[0068]
在由上述聚合物树脂、或包含反应性单体的组合物(涂布液)制作光学膜的情况下，将从涂布液的总质量减去溶剂后的质量作为光学膜的总质量。
[0069]
＜光学膜的厚度＞
[0070]
光学膜的厚度为0.1～10μm。当厚度超过10μm时，偏振片的薄膜化变得困难，当比0.1μm薄时，偏光度的耐湿热性下降。光学膜的厚度优选为1～9μm，更优选为3～6μm。
[0071]
＜光学膜的抗张力＞
[0072]
本发明中使用的光学膜的抗张力为50～1000mpa。当抗张力小于50mpa时，偏振片的抗裂性劣化。并且，当抗张力超过1000mpa时，有时会损害透明性。
[0073]
从提高抗裂性的观点出发，光学膜的抗张力优选为70～500mpa，更优选为90～300mpa。
[0074]
另外，在本说明书中，抗张力是指，从光学膜切出150mm
×
10mm的样品，使用toyo baldwin co.,ltd.制造的万能拉伸试验机“stm t50bp”，在25℃、60％rh气氛中，以拉伸速度10％/分测定相对于伸长的应力时的，到断裂为止观测到的最大应力(最大点应力)。
[0075]
＜光学膜的延迟＞
[0076]
在本发明中，re及rth分别表示波长590nm下的面内延迟及厚度方向的延迟。
[0077]
在本发明中，re及rth是在axoscan opmf-1(opto science,inc.制造)中，在波长590nm下进行测定的值。通过在axoscan中输入平均折射率((nx ny nz)/3)和膜厚(d)，可以计算
[0078]
慢轴方向(
°
)
[0079]
re＝(nx-ny)
×d[0080]
rth＝((nx ny)/2-nz)
×
d。nx是薄膜的慢轴方向的折射率，ny是薄膜的快轴方向的折射率，nz是薄膜的厚度方向的折射率。
[0081]
本发明的偏振片中使用的光学膜的rth的绝对值为25nm以下，即，-25～25nm。当光学膜的rth在上述范围内时，来自倾斜方向的漏光得到改善，能够提高显示品质。
[0082]
从上述观点出发，在ips模式的液晶单元内部的液晶性化合物的预倾角大于1.0
°
的情况下，rth优选为-20～5nm，更优选为-10～0nm。并且，在ips模式的液晶单元内部的液晶性化合物的预倾角为1.0
°
以下的情况下，上述rth优选为-5～25nm，更优选为0～20nm。
[0083]
本发明的偏振片中使用的光学膜的re没有特别限定，从来自倾斜方向的漏光进一步得到改善，提高显示品质的观点出发，在用于ips模式的液晶显示装置的情况下，re优选为0～20nm，更优选为0～10nm，进一步优选为0～5nm。
[0084]
＜其他特性＞
[0085]
光学膜的上述以外的特性值没有特别限定，可以具有与通常的公知的偏振片保护膜同等的性能，优选在液晶显示装置中具有配置在起偏器与液晶单元之间的所谓内膜所要求的性能。作为具体的特性值，能够举出与显示特性相关的雾度、光谱特性、延迟的耐湿热性等，能够举出与力学特性、偏振片加工适性相关的伴随湿热恒温器的尺寸变化率、玻璃化转变温度、平衡吸湿率、透湿度、接触角等。
[0086]
＜层结构＞
[0087]
光学膜可以是单层，也可以具有两层以上的层叠结构，还可以直接或经由粘合剂等包含具有光学各向异性、散射等的功能层。但是，光学膜优选功能层以外满足上述特性。光学膜优选为单层。
[0088]
＜树脂＞
[0089]
光学膜优选含有至少一种树脂而成。
[0090]
对光学膜中含有的树脂进行说明。
[0091]
光学膜中含有的树脂没有特别限定，但从确保具有使偏振片的耐湿热性良好的效果的具有离子性官能团的化合物的阻隔性的观点出发，优选基于hoy法的sp值(溶解性参数值)为20mpa
0.5
以下。
[0092]
基于hoy法的sp值根据树脂的分子结构通过polymer handbook fourth e dition中记载的方法计算。并且，在树脂为多种树脂的混合物的情况下，作为sp值，分别计算各构成单元的sp值。
[0093]
更具体而言，利用剃刀削取光学膜，利用热分解gc(气相色谱仪)/ms(质谱仪)分析分子结构，利用核磁共振(nmr)分析组成比。
[0094]
作为树脂，可以是线状的树脂，也可以是网眼状的树脂。
[0095]
作为树脂，具体而言，可举出苯乙烯系树脂、环状聚烯烃树脂、环氧树脂、甲基丙烯酸甲酯树脂(pmma)等丙烯酸系树脂；聚酯树脂、乙酸纤维素等纤维素系树脂；包含具有烯属不饱和双键的基团的化合物的聚合物等，从作为偏振片保护膜的耐湿热性的观点出发，优选为包含选自苯乙烯系树脂、环状聚烯烃树脂、聚酯树脂及包含环状脂肪族烃基和具有烯属不饱和双键的基团的化合物的聚合物中的至少一种的树脂，更优选包含苯乙烯系树脂、环状聚烯烃树脂、纤维素系树脂、包含环状脂肪族烃基和具有烯属不饱和双键的基团的化合物的聚合物作为基质材料，进一步优选包含苯乙烯系树脂、环状聚烯烃树脂或纤维素系树脂作为基质材料。
[0096]
(苯乙烯系树脂)
[0097]
苯乙烯系树脂表示在构成树脂的单体单元中，比率最高的单体单元为源自苯乙烯系单体的单体单元的树脂。例如，在由2成分系构成的树脂的情况下，是指含有50质量％以上源自苯乙烯系单体的单体单元的树脂。在此，苯乙烯系单体是指其结构中具有苯乙烯骨架的单体。
[0098]
苯乙烯系树脂优选含有70质量％以上源自苯乙烯系单体的单体单元，更优选含有85质量％以上。
[0099]
作为苯乙烯系树脂的具体例，可以是苯乙烯或其衍生物的均聚物，也可以是苯乙烯或者其衍生物与其他共聚合性单体的二元或其以上的共聚物。在此，苯乙烯衍生物是指在苯乙烯中键合有其他基团的化合物，例如，可举出在如邻甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、2,4-二甲基苯乙烯、邻乙基苯乙烯、对乙基苯乙烯的烷基苯乙烯及如羟基苯乙烯、叔丁氧基苯乙烯、乙烯基苯甲酸、邻氯苯乙烯、对氯苯乙烯的苯乙烯的苯核中导入有羟基、烷氧基、羧基、卤素等的取代苯乙烯等。
[0100]
并且，苯乙烯系树脂中还包括苯乙烯系单体成分与其他单体成分共聚而成的物质。作为能够共聚的单体，可举出甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸甲基苯酯、甲基丙烯酸异丙酯等甲基丙烯酸烷基酯；丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸环己酯等丙烯酸烷基酯等不饱和羧酸烷基酯单体；甲基丙烯酸、丙烯酸、衣康酸、马来酸、富马酸、肉桂酸等不饱和羧酸单体；作为马来酸酐、衣康酸、乙基马来酸、甲基衣康酸、氯马来酸等酸酐的不饱和二羧酸酐单体；丙烯腈、甲基丙烯腈等不饱和腈单体；1,3-丁二烯、2-甲基-1,3-丁二烯(异戊二烯)、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、1,3-戊二烯、1,3-己二烯等共轭二烯等，也能够使它们中的两种以上共聚。
[0101]
后述as-70能够包含在苯乙烯系树脂中。
[0102]
作为苯乙烯系树脂，能够同时使用组成、分子量等不同的多种苯乙烯系树脂。
[0103]
苯乙烯系树脂能够通过公知的阴离子、本体、悬浮、乳化或溶液聚合方法来获得。并且，在苯乙烯系树脂中，共轭二烯或苯乙烯系单体的苯环的不饱和双键可以被氢化。氢化率能够通过核磁共振装置(nmr)来测定。
[0104]
(含有环状脂肪族烃基和具有烯属不饱和双键的基团的化合物)
[0105]
作为环状脂肪族烃基，优选为从碳原子数7以上的脂环式化合物衍生的基团，更优选为从碳原子数10以上的脂环式化合物衍生的基团，进一步优选为从碳原子数12以上的脂环式化合物衍生的基团。
[0106]
作为环状脂肪族烃基，尤其优选为从二环式、三环式等多环式化合物衍生的基团。
[0107]
更优选举出日本特开2006-215096号公报中记载的化合物的中心骨架、日本特开2001-10999号公报中记载的化合物的中心骨架、或者金刚烷衍生物的骨架等。
[0108]
作为环状脂肪族烃基，具体而言，可举出降冰片烷基、三环癸烷基、四环十二烷基、五环十五烷基、金刚烷基、金刚烃基等。
[0109]
含有环状脂肪族烃基和具有烯属不饱和双键的基团的化合物优选在分子内具有两个以上的具有烯属不饱和双键的基团。
[0110]
作为环状脂肪族烃基(包含连接基团)，优选由下述通式(i)～(v)中的任一个表示的基团，更优选由下述通式(i)、(ii)或(iv)表示的基团，进一步优选由下述通式(i)表示的基团。
[0111]
即，含有环状脂肪族烃基和具有烯属不饱和双键的基团的化合物优选为具有由下述通式(i)～(v)中的任一个表示的结构的化合物，更优选为具有由下述通式(i)、(ii)或(iv)表示的结构的化合物，进一步优选为具有由下述通式(i)表示的结构的化合物。
[0112]
[化学式1]
[0113][0114]
通式(i)中，l1及l2分别独立地表示单键或2价以上的连接基团。n表示1～3的整数。
[0115]
[化学式2]
[0116][0117]
通式(ii)中，l1及l2分别独立地表示单键或2价以上的连接基团。n表示1～2的整数。
[0118]
[化学式3]
[0119][0120]
通式(iii)中，l1及l2分别独立地表示单键或2价以上的连接基团。n表示1～2的整数。
[0121]
[化学式4]
[0122][0123]
通式(iv)中，l1及l2分别独立地表示单键或2价以上的连接基团，l3表示氢原子、单键或2价以上的连接基团。
[0124]
[化学式5]
[0125][0126]
通式(v)中，l1及l2分别独立地表示单键或2价以上的连接基团。
[0127]
作为关于l1、l2及l3的2价以上的连接基团，可举出碳原子数1～6的可被取代的亚烷基、n位可被取代的酰胺键、n位可被取代的氨基甲酸酯键、酯键、氧羰基、醚键等及组合这些中的两个以上而得的基团。
[0128]
含有环状脂肪族烃基，且含有在分子内具有2个以上的烯属不饱和双键的基团的化合物通过上述环状脂肪族烃基与具有烯属不饱和双键的基团经由连接基团键合来构成。
[0129]
这些化合物例如通过具有上述环状脂肪族烃基的二醇、三醇等多元醇与具有(甲基)丙烯酰基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等的化合物的羧酸、羧酸衍生物、环氧衍生物、异氰酸酯衍生物等的一阶段或者两阶段的反应而能够轻松地合成。
[0130]
优选能够使用(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酰氯、(甲基)丙烯酸酐、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等化合物或wo2012/00316a号记载的化合物(例如，1,1-双(丙烯酰氧基甲基)乙基异氰酸酯)，并通过使其与具有上述环状脂肪族烃基的多元醇进行反应而合成。
[0131]
以下，示出含有环状脂肪族烃基且含有具有烯属不饱和双键的基团的化合物的优选具体例，但本发明并不限定于这些。
[0132]
[化学式6]
[0133][0134]
[化学式7]
[0135][0136]
(环状聚烯烃树脂)
[0137]
环状聚烯烃树脂表示具有环状烯烃结构的聚合物树脂。
[0138]
作为具有优选的环状烯烃结构的聚合物，是包含至少一种以上由下述通式(ii)表示的重复单元的加成(共)聚合物即环状聚烯烃树脂及根据需要进一步包含至少一种以上由通式(i)表示的重复单元而成的加成(共)聚合物即环状聚烯烃树脂。并且，也能够适当地使用包含至少一种由通式(iii)表示的重复单元的开环(共)聚合物。
[0139]
[化学式8]
[0140][0141]
[化学式9]
[0142][0143]
[化学式10]
[0144][0145]
式(i)～(iii)中，m表示0～4的整数。r1～r6表示氢原子或碳原子数1～10的烃基，x1～x3、y1～y3表示氢原子、碳原子数1～10的烃基、卤原子、被卤原子取代的碳原子数1～10的烃基、-coor
10
、-(ch2)ncoor
11
、-(ch2)nocor
12
、-(ch2)nnco、-(ch2)nno2、-(ch2)ncn、-(ch2)nconr
13r14
、-(ch2)nnr
13r14
、-(ch2)noz、-(ch2)nw、或由x1与y1或者x2与y2或者x3与y3构成的(-co)2o、(-co)2nr
15
。另外，r
10
，r
11
，r
12
，r
13
，r
14
，r
15
表示氢原子、碳原子数1～20的烃基，z表示烃基或被卤素取代的烃基，w表示sir
16pd3-p
(r
16
表示碳原子数1～10的烃基，d表示卤原子、-ocor
16
或-or
16
，p表示0～3的整数)，n表示0～10的整数。
[0146]
并且，也能够优选使用降冰片烯系聚合物氢化物，如日本特开平1-240517号、日本特开平7-196736号、日本特开昭60-26024号、日本特开昭62-19801号、日本特开2003-1159767号或者日本特开2004-309979号等中公开的那样，通过将多环状不饱和化合物加成聚合或者易位开环聚合后进行氢化而制作。在降冰片烯系聚合物中，r5～r6优选为氢原子或-ch3，x3及y3优选为氢原子、cl、-cooch3，其他基团可适当选择。
[0147]
而且，也能够优选使用降冰片烯系加成(共)聚合物，在日本特开平10-7732号、日本特表2002-504184号、美国公开专利2004229157a1号或者wo2004/070463a1号等中公开。通过将降冰片烯系多环状不饱和化合物彼此加成聚合而获得。并且，根据需要，也能够将降冰片烯系多环状不饱和化合物与乙烯、丙烯、丁烯；丁二烯、异戊二烯那样的共轭二烯；乙叉降冰片烯那样的非共轭二烯；丙烯腈、丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸酐、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、马来酰亚胺、乙酸乙烯酯、氯乙烯等线状二烯化合物进行加成聚合。
[0148]
(丙烯酸系树脂)
[0149]
作为丙烯酸系树脂，能够采用任意适当的(甲基)丙烯酸系树脂。例如，可举出聚甲
基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(ms树脂等)、具有脂环族烃基的聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸环己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降冰片酯共聚物等)。优选可举出聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸c1-6烷基酯。更优选可举出以甲基丙烯酸甲酯为主成分(50～100质量％，优选为70～100质量％)的甲基丙烯酸甲酯系树脂。并且，优选为具有戊二酸酐结构的(甲基)丙烯酸系树脂、具有戊二酰亚胺结构的(甲基)丙烯酸系树脂、具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸系树脂，也能够使用具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸系树脂。
[0150]
用作强度改进剂的丙烯酸系树脂的重均分子量没有特别限定，从提高机械强度的观点出发，优选为1万～500万，更优选为5万～200万，进一步优选为10万～150万。
[0151]
作为丙烯酸系树脂的市售品，可举出mitsubishi rayon co.,ltd.制造的dianal se-5437、se-5102、se-5377、se-5649、se-5466、se-5482、hr-169、hr-124、hr-1127、hr-116、hr-113、hr-148、hr-131、hr-470、hr-634、hr-606、hr-607、lr-1065、lr-574、lr-143、lr-396、lr-637、lr-162、lr-469、lr-216、br-50、br-52、br-60、br-64、br-73、br-75、br-77、br-79、br-80、br-83、br-85、br-87、br-88、br-90、br-93、br-95、br-100、br-101、br-102、br-105、br-106、br107、br-108、br-112、br-113、br-115、br-116、br-117；sekisui chemical co.,ltd.制造的esrex pse-0020、se-0040、se-0070、se-0100、se-1010、se-1035；sanyo chemical industries,ltd.himer st95、st120；mitsui chemicals,inc.制造的fm601等。
[0152]
(聚酯树脂)
[0153]
作为聚酯树脂，具体而言，可举出聚对苯二甲酸丙二醇酯(ptt)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(pbt)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚萘二甲酸丁二醇酯(pbn)等，尤其优选pen。
[0154]
用作光学膜的基质材料的树脂的重均分子量(mw)没有特别限定，优选为3,000～1,000,000，更优选为10,000～500,000。
[0155]
另外，关于树脂的重均分子量，在以下条件下测定了标准聚苯乙烯换算的重均分子量(mw)及分子量分布(mw/mn)。另外，mn为标准聚苯乙烯换算的数均分子量。
[0156]
使用gpc：凝胶渗透色谱装置(tosoh corporation制造的hlc-8220gpc)、柱：依次连结tosoh corporation制造的保护柱hxl-h、tsk gel g7000hxl、2根tsk gel gmhxl、tsk gel g2000hxl、洗脱液：四氢呋喃、流速：1ml/min、样品浓度：0.7～0.8质量％、样品注入量：70μl、测定温度：40℃、检测器：示差折射(ri)仪(40℃)、构成曲线：基于tosoh制造的tsk标准聚苯乙烯mw＝2800000～1050(mw/mn＝1.03～1.06)为止的7个样品的校准曲线。
[0157]
用于光学膜的树脂可以含有一种，也可以含有两种以上。并且，在光学膜由多层形成的情况下，各层的树脂可以相同，也可以不同。
[0158]
相对于光学膜的总质量，光学膜中的树脂的含量优选为50质量％以上，更优选为60质量％以上，进一步优选为70质量％以上。并且，相对于光学膜的总质量，光学膜中的树脂的含量优选为99.5质量％以下。
[0159]
＜其他添加剂＞
[0160]
光学膜中能够配合公知的添加剂。作为以提高光学膜的抗张力为目的而添加的添加剂、强度改进剂、以及公知的添加剂，能够举出低分子增塑剂、低聚物系增塑剂、延迟调整剂、消光剂、紫外线吸收剂、劣化抑制剂、剥离促进剂、红外线吸收剂、抗氧化剂、填料、表面
活性剂、相容化剂、色素等。这些中，从提高抗张力的观点出发，作为原材料单体中硬度或抗张力高的添加剂，能够优选使用后述强度改进剂。只要能够获得本发明的效果，则各原材料的种类及量没有特别限定。并且，在光学膜由多层形成的情况下，各层的添加剂的种类及量可以不同。
[0161]
(强度改进剂)
[0162]
公知的添加剂中，能够配合具有下述i～iii中的任一个性质的添加剂来提高光学膜的强度。具体而言，可举出后述无机填料或有机填料、前述树脂等。这种添加剂的添加量没有特别限定，相对于光学膜总量，优选为0.1质量％以上，更优选为0.5～49质量％。在添加剂为无机物的情况下，从薄膜操作性或透明性的观点出发，添加量进一步优选为0.5～25质量％，最优选为1～15质量％。并且，在有机物的情况下，从兼顾强度提高效果和其他特性的观点出发，相对于光学膜总量，进一步优选为4.5～49质量％，最优选为10～35质量％。
[0163]
i添加剂的弹性模量高于基质材料
[0164]
ii添加剂的断裂伸长率高于基质材料
[0165]
iii添加剂的断裂强度高于基质材料
[0166]
·
i弹性模量高于基质材料的添加剂
[0167]
作为强度改进剂，优选使用弹性模量高于基质材料的弹性模量的添加剂。作为添加剂的弹性模量与基质材料的弹性模量之差，优选为100mpa以上，更优选为500mpa以上，进一步优选为1,000mpa以上。
[0168]
并且，作为添加剂本身的弹性模量，也取决于基质材料的种类，优选为1,000mpa～100,000mpa，更优选为2,000mpa～70,000mpa，进一步优选为3,000mpa～50,000mpa。
[0169]
本发明中的添加剂及基质材料的弹性模量是指将添加剂及基质材料整形为宽度10mm、厚度0.04mm、夹头间距100mm，用tensilon(a&d company,limited制造)以拉伸速度10mm/分，在25℃60％rh下进行测定的值。并且，填料(粒子、纤维等)的弹性模量是指使用微小压缩试验机(mct-211，shimadzu corporation制造)进行测定的值。
[0170]
作为弹性模量高于基质材料的添加剂，具体而言，可举出无机物、工程塑料等高弹性模量树脂、纤维素系树脂等。
[0171]
·
ii断裂伸长率高于基质材料的添加剂
[0172]
作为强度改进剂，优选使用断裂伸长率高于基质材料的断裂伸长率的添加剂。作为添加剂的断裂伸长率与基质材料的断裂伸长率之差，优选为1％以上，更优选为3％以上，进一步优选为10％以上。
[0173]
并且，作为添加剂本身的断裂伸长率，也取决于基质材料的种类，优选为1％～500％，更优选为5％～300％，进一步优选为10％～100％。
[0174]
关于本发明中的添加剂及基质材料的断裂伸长率，遵循jis k5600，将添加剂及基质材料整形为宽度10mm、厚度0.04mm、夹头间距100mm，在25℃60％rh的环境下放置2小时后，立即用tensilon(a&d company,limited制造)在25℃60％rh气氛中使其以拉伸速度10％/分拉伸，作为试样断裂时的断裂伸长率(％)求出。
[0175]
作为断裂伸长率高于基质材料的添加剂，具体而言，可举出高分子量的树脂(例如超高分子量丙烯酸)、纤维素系树脂、聚碳酸酯、聚酯、聚乙烯等树脂等。
[0176]
·
iii断裂强度高于基质材料的添加剂
[0177]
作为强度改进剂，优选使用断裂强度高于基质材料的断裂强度的添加剂。作为添加剂的断裂强度与基质材料的断裂强度之差，优选为1mpa以上，更优选为5mpa以上，进一步优选为10mpa以上。
[0178]
并且，作为添加剂本身的断裂强度，也取决于基质材料的种类，优选为50～1,000mpa，更优选为60～500mpa，进一步优选为70～300mpa。
[0179]
关于本发明中的添加剂及基质材料的断裂强度，在与上述断裂伸长率相同的测定中，作为试样断裂时的断裂强度(mpa)求出。
[0180]
作为断裂强度高于基质材料的添加剂，具体而言，可举出丙烯酸、纤维素系树脂、聚碳酸酯、聚酯等树脂等。
[0181]
作为强度改进剂，优选为具有上述i～iii中的任一个性质的添加剂，更优选为与基质树脂相容的添加剂、或不与基质材料相容且分散在基质树脂中的添加剂。
[0182]-填料-[0183]
作为具有上述i～iii中的任一个性质的添加剂，可优选举出填料。
[0184]
能够使用二氧化硅微粒或金属微粒等球状填料、晶须等棒状填料、纤维状填料(有机系和/或无机系)等。例如，日本特开2016-053232号公报等中有记载。
[0185]
填料优选为有机系填料。具体而言，作为有机系填料，优选为纤维素系聚合物或者弹性体的纳米纤维材料。
[0186]
作为纳米纤维材料的纤维素系聚合物优选为纤维素酰化物、硝基纤维素、乙基纤维素、羧甲基乙基纤维素中的任一个。作为纤维素酰化物，更优选为乙酸纤维素、丙酸纤维素、丁酸纤维素、乙酸丙酸纤维素。作为乙酸纤维素，进一步优选为三乙酸纤维素、二乙酸纤维素。在使用纤维素系聚合物作为纳米纤维材料的情况下，尤其优选为三乙酸纤维素。
[0187]
并且，作为纳米纤维材料的弹性体，优选为丙烯酸系弹性体、苯乙烯系弹性体、烯烃系弹性体、氯乙烯系弹性体、聚氨酯系弹性体、酰胺系弹性体中的任一个。在使用弹性体作为纳米纤维材料的情况下，尤其优选为丙烯酸系弹性体。
[0188]
作为上述添加剂，优选为与基质材料相容且弹性模量、断裂伸长率、断裂强度中的任一个高于基质材料的添加剂、或不与基质材料相容且分散在基质材料中且弹性模量、断裂伸长率、断裂强度中的任一个高于基质材料的添加剂。
[0189]
关于添加剂与基质材料的相容性，使用差示扫描量热计(dsc)，若同时观察到添加剂及基质材料中的源自各原材料的特长信号(玻璃化转变温度、熔点等)，则判断为不相容，若为单一信号，则判断为相容。
[0190]-作为强度改进剂的树脂-[0191]
作为具有上述i～iii中的任一个性质的添加剂，可优选举出前述树脂。其中，优选为丙烯酸系树脂或环烯烃系树脂、纤维素系树脂、聚酯系树脂，更优选为丙烯酸系树脂。
[0192]
作为丙烯酸系树脂，优选为聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、聚丙烯酸酯、或它们的共聚物，更优选为聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸甲酯、或它们的共聚物，进一步优选为聚甲基丙烯酸甲酯。
[0193]
使用丙烯酸系树脂作为强度改进剂时的丙烯酸系树脂的重均分子量没有特别限定，从提高机械强度的观点出发，优选为1万～500万，更优选为5万～200万，进一步优选为10万～150万。
[0194]
如上所述，在本发明的偏振片中，上述起偏器与上述光学膜直接层叠或经由上述粘接剂层叠。
[0195]
当制造本发明的偏振片时，还优选使用由光学膜和剥离性的基材膜形成的剥离性层叠薄膜。
[0196]
〔剥离性层叠薄膜〕
[0197]
对由光学膜和剥离性的基材膜(也简称为“基材膜”。)构成的剥离性层叠薄膜进行说明。
[0198]
优选为如下剥离性层叠薄膜：剥离性层叠薄膜是包含含有聚对苯二甲酸乙二酯的基材膜和光学膜的层叠体，
[0199]
上述基材膜与上述光学膜直接接触，
[0200]
上述光学膜的厚度为0.1～10μm。
[0201]
能够在本发明中使用的剥离性层叠薄膜的基材膜能够从光学膜剥离。从光学膜剥离基材膜时的应力优选为0.05n/25mm以上且2.00n/25mm以下，更优选为0.08n/25mm以上且0.50n/25mm以下，进一步优选为0.11n/25mm以上且0.20n/25mm以下。
[0202]
若上述应力为0.05n/25mm以上，则在偏振片加工工艺的中途不易产生剥落，因此优选，若为2.00n/25mm以下，则在剥离基材膜时，偏振片不会发生弯折，因此优选。
[0203]
将裁切为宽度25mm、长度80mm的剥离性层叠薄膜的光学膜的表面经由丙烯酸系粘合剂片贴合于玻璃基材并进行固定之后，使用拉伸试验机(a&d company,limited制造的rtf-1210)，夹持试验片的长度方向一端(宽度25mm的一边)的基材膜，在温度23℃、相对湿度60％的气氛下，以十字头速度(夹持移动速度)200mm/分钟，实施90
°
剥离试验(遵循日本工业标准(jis)k 6854-1：1999“粘接剂-剥离粘接强度试验方法-第1部：90度剥离”)，由此能够评价将剥离性层叠薄膜的基材膜从光学膜剥离时的应力。
[0204]
＜基材膜＞
[0205]
对剥离性层叠薄膜所具有的基材膜进行说明。
[0206]
剥离性层叠薄膜所具有的基材膜没有特别限定，基材膜的主成分(在构成基材膜的成分中，质量基准的含有率最大的成分)优选为聚酯树脂。
[0207]
基材膜优选含有聚对苯二甲酸乙二酯(pet)。
[0208]
从基材的力学强度的观点出发，基材膜中含有的pet的重均分子量优选为20,000以上，更优选为30,000以上，进一步优选为40,000以上。
[0209]
pet的重均分子量是在六氟异丙醇(hfip)中溶解基材膜，并通过前述gpc法确定的。
[0210]
基材膜的厚度没有特别限定，优选为5～100μm，更优选为10～75μm，进一步优选为15～55μm。
[0211]
并且，作为公知的表面处理，可以对基材膜进行电晕处理、辉光放电处理、底涂等。
[0212]
＜剥离性层叠薄膜的制造方法＞
[0213]
对剥离性层叠薄膜的制造方法进行说明。
[0214]
剥离性层叠薄膜优选通过在上述基材膜上涂布含有上述树脂及溶剂的溶液，并使其干燥，形成光学膜来制造。在能够溶解或分散树脂、在涂布工序、干燥工序中容易成为均匀的面状、能够确保溶液保存性、具有适度的饱和蒸气压等观点上，能够适当选择溶剂。另
外，无需在涂布光学膜形成用树脂溶液之前对基材膜进行表面处理。
[0215]
另外，为了获得本发明中使用的光学膜，如上所述，优选在基材膜上通过涂布制膜形成光学膜，但也可以不一定使用基材膜。例如，在光学膜中含有的树脂为聚酯系树脂等能够熔融制膜的树脂的情况下，也可以通过熔融制膜来制造光学膜。
[0216]
在通过熔融制膜制造光学膜的情况下，从将光学膜的rth的绝对值设为25以下的观点出发，优选将拉伸条件设为低拉伸倍率/高拉伸温度，抑制取向或结晶化。
[0217]
本发明的偏振片可以在起偏器上贴合有光学膜的面的相反面进一步贴合本发明的光学膜，也可以贴合以往已知的上述偏振片保护膜。
[0218]
本发明的偏振片还可以包含具有25nm以上的比较高的re或rth的薄膜。具体而言，是聚合物薄膜系的光学补偿薄膜、液晶性化合物系的光学补偿薄膜等。并且，作为另一方式，本发明的偏振片还可以包含无机溅射系的防反射层。通过包含本发明的薄膜，能够抑制这些部件及偏振片的破裂。
[0219]
〔偏振片的制造方法〕
[0220]
本发明的偏振片的制造方法包括将上述光学膜直接或经由上述粘接剂层叠在起偏器上的工序。其中，优选包括经由上述粘接剂将上述光学膜层叠在起偏器上之后，照射活性能量射线的工序。
[0221]
在使用上述剥离性层叠薄膜的情况下，本发明的偏振片的制造方法包括经由上述粘接剂将上述光学膜的与上述基材膜侧界面相反的一侧的面层叠在起偏器上之后，从上述基材膜侧照射活性能量射线的工序，优选进一步包括剥离上述基材膜的工序。
[0222]
并且，优选使上述光学膜与上述粘接剂接触，在0.1～30秒后照射活性能量射线。
[0223]
本发明的偏振片的制造方法优选为经由粘接剂将剥离性层叠薄膜的光学膜的与基材膜侧界面相反的一侧的面贴合于起偏器之后，剥离基材膜来获得具有起偏器及光学膜的偏振片的、偏振片的制造方法。对上述光学膜的渗入深度，除了根据粘接剂与光学膜的sp值差以外，还根据粘接剂与光学膜接触之后的经时条件(温度、时间)而变化，例如，为了抑制渗入，优选低温
·
短时间的条件。并且，关于渗入深度，通过暂时照射活性能量射线，能够降低渗透速度，因此在通过临时照射抑制渗入深度之后，为了确保偏振片的耐久性，以促进固化为目的，追加照射也是有效的。
[0224]
根据需要，可以通过辉光放电处理、电晕处理、碱皂化处理等对光学膜的与起偏器贴合的面进行亲水化处理。在使用剥离性层叠薄膜的情况下，根据需要，可以通过辉光放电处理、电晕处理、碱皂化处理等对剥离性层叠薄膜的光学膜的与基材膜侧界面相反的一侧的面进行亲水化处理。
[0225]
＜基材膜的剥离＞
[0226]
在使用剥离性层叠薄膜的情况下，基材膜的剥离能够通过与利用通常的带粘合剂的偏振片进行的分离器(剥离薄膜)的剥离工序相同的方法进行剥离。基材膜的剥离可以在直接或经由粘接剂层叠光学膜和起偏器，并使其干燥的工序之后，直接立即进行剥离，也可以在干燥工序之后，暂时卷取成辊状，在之后的工序中另行剥离。
[0227]
[显示装置]
[0228]
本发明的偏振片能够用于液晶显示装置或有机el显示装置等。
[0229]
液晶显示装置包含液晶单元和偏振片。
[0230]
在液晶显示装置中，偏振片可以任意配置，但优选偏振片中的光学膜配置在比起偏器更靠液晶单元侧。
[0231]
液晶显示装置还具有背光灯，优选上述偏振片配置在背光灯侧或者视觉辨认侧。作为背光灯，没有特别限制，能够使用公知的背光灯。液晶显示装置优选依次层叠有背光灯、背光灯侧偏振片、液晶单元、视觉辨认侧偏振片。
[0232]
关于其他结构，能够采用公知的液晶显示装置的任意结构。关于液晶单元的方式(模式)也没有特别限制，能够构成为tn(twisted nematic，扭曲向列)方式的液晶单元、ips(in-plane switching，面内切换)方式的液晶单元、flc(ferroelectric liquid crystal，铁电液晶)方式的液晶单元、aflc(anti-ferroelectric liquid crystal，反铁电液晶)方式的液晶单元、ocb(optically compensatory bend，光学补偿弯曲排列)方式的液晶单元、stn(supper twisted nematic，超扭曲向列)方式的液晶单元、va(vertically aligned，垂直排列)方式的液晶单元及han(hybrid aligned nematic，混合排列向列)方式的液晶单元等各种显示方式的液晶显示装置。其中，液晶单元优选为ips方式。
[0233]
关于其他结构，能够采用公知的液晶显示装置或有机el显示装置的任意结构。
[0234]
本发明还涉及一种显示装置，其在本发明的偏振片中包含的上述光学膜的与上述起偏器相反的一侧的面上层叠有粘合层，进一步层叠有基板，上述粘合层的弹性模量为0.01～100mpa，上述基板的弹性模量为6～100gpa。
[0235]
本发明中的粘合层弹性模量是指将粘合层整形为宽度5mm、厚度1mm、夹头间距10mm，用tensilon(a&d company,limited制造)以拉伸速度10mm/分，在25℃60％rh下进行测定的值。
[0236]
在本发明中，粘合层弹性模量优选为0.001～100mpa，更优选为0.01～10mpa，进一步优选为0.03～1mpa。通过使弹性模量在上述范围内，能够使将本发明的偏振片贴合于玻璃等时的贴合性良好。
[0237]
并且，在本发明中，粘合层的膜厚优选为3～30μm，更优选为5～20μm。
[0238]
作为粘合层中含有的成分，能够使用丙烯酸系树脂、和/或环氧系树脂、和/或烯烃系树脂。
[0239]
粘合层中能够配合通常在这种领域中配合在粘合层中的耐候稳定剂、增粘剂、增塑剂、软化剂、染料、颜料、硅烷偶联剂及导电性微粒/光散射性微粒等无机填料等。
[0240]
作为本发明中的基板，可举出本发明的显示装置中使用的液晶单元的玻璃基板等。
[0241]
本发明中的基板的弹性模量是指按照iso14577(压入弹性模量)，使用微小硬度试验机(fischer instruments k.k.制造，装置名；picodenter hm2000)、berkovich压头进行测定的值。
[0242]
在本发明中，基板弹性模量优选为6～100gpa，更优选为10～90gpa，进一步优选为30～80gpa。通过使弹性模量在上述范围内，能够抑制基板的翘曲。
[0243]
基板的厚度没有特别限定，优选为10μm～1000μm，更优选为10μm～500μm，进一步优选为20μm～200μm。
[0244]
并且，本发明还涉及包含本发明的偏振片的显示装置。
[0245]
实施例
[0246]
以下举出实施例对本发明进一步进行具体说明。以下的实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等只要不脱离本发明的宗旨，则能够适当进行变更。因此，本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。
[0247]
《测定法》
[0248]
[取代度]
[0249]
作为后述填料1使用的纤维素酰化物的酰基取代度通过carbohydr.res.273(1995)83-91(tezuka等)中记载的方法利用
13
c-nmr求出。
[0250]
[延迟]
[0251]
通过前述方法测定。
[0252]
[抗张力]
[0253]
从所制作的光学膜切出150mm
×
10mm的样品，使用toyo baldwin co.,ltd.制造的万能拉伸试验机“stm t50bp”在25℃、60％rh气氛中，以拉伸速度10％/分测定相对于伸长的应力，将此时的最大点应力作为抗张力求出。
[0254]
另外，当测定光学膜的延迟及抗张力时，对于光学膜a1～a3、及a6～a12，从具有光学膜的剥离性层叠薄膜切出样品，然后剥离基材膜，将其作为评价试样。
[0255]
[吸湿率]
[0256]
将基质材料的样品在25℃、相对湿度80％下调湿24小时之后，使用水分测定器、试样干燥装置“ca-03”及“va-05”{均为mitsubishi chemical corporation制造}通过卡尔费休法测定吸湿率。
[0257]
[弹性模量]
[0258]
添加剂及基质材料的弹性模量是指将添加剂及基质材料整形为宽度10mm、厚度0.04mm、夹头间距100mm，用tensilon(a&d company,limited制造)以拉伸速度10mm/分，在25℃60％rh下进行测定的值。并且，填料1的弹性模量是指使用微小压缩试验机(mct-211，shimadzu corporation制造)进行测定的值。
[0259]
[断裂伸长率]
[0260]
关于添加剂及基质材料的断裂伸长率，遵循jis k5600，将添加剂及基质材料整形为宽度10mm、厚度0.04mm、夹头间距100mm，在25℃60％rh的环境下放置2小时后，立即用tensilon(a&d company,limited制造)在25℃60％rh气氛中使其以拉伸速度10％/分拉伸，作为试样断裂时的断裂伸长率(％)求出。
[0261]
[断裂强度]
[0262]
关于添加剂及基质材料的断裂强度，在与上述断裂伸长率相同的测定中，作为试样断裂时的断裂强度(mpa)求出。
[0263]
＜具有光学膜a1的剥离性层叠薄膜的制作＞
[0264]
通过下述所示的方法在基材膜上形成光学膜a1，制作了剥离性层叠薄膜。
[0265]
1)涂布液的制备
[0266]
以下述所示的组成制备出光学膜a1形成用涂布液1。
[0267]
2)涂布液1的组成
[0268][0269]
利用绝对过滤精度1μm的过滤器过滤所获得的涂布液。
[0270]
将使用的材料示于以下。
[0271]
·
rx4500：在110℃下加热市售的arton(jsr制造，rx4500)，返回到常温(25℃)后使用。平衡吸湿率为0.6质量％。
[0272]
·
填料1：使用乙酰基取代度2.85的三乙酸纤维素，除此以外，以与日本特开2018-135615号公报的实施例1([0057])相同的方式制作。
[0273]
·
表面活性剂1：使用了下述结构的表面活性剂。
[0274]
[化学式11]
[0275][0276]
3)剥离性层叠薄膜的涂设
[0277]
使用市售的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜、emblet s38(膜厚38μm，unitikaltd.制造)作为基材膜，并使用涂布液1，以膜厚成为5μm的方式制作光学膜a1，获得了剥离性层叠薄膜(膜厚43μm)。具体而言，通过使用了日本特开2006-122889号公报的实施例1中记载的狭缝模具的模涂法，在基材膜上以搬送速度30m/分钟的条件涂布涂布液1，在110℃下干燥了30秒。然后，进行了卷取。
[0278]
＜具有光学膜a2的剥离性层叠薄膜的制作＞
[0279]
使用从上述光学膜a1的涂布液1去除填料1的涂布液2，除此以外，以与光学膜a1相同的方式在与上述相同的基材膜上形成光学膜a2，获得了剥离性层叠薄膜(膜厚43μm)。
[0280]
＜具有光学膜a3的剥离性层叠薄膜的制作＞
[0281]
将上述光学膜a1的涂布液1替换为下述涂布液3，除此以外，以与光学膜a1相同的方式在与上述相同的基材膜上形成光学膜a3，获得了剥离性层叠薄膜(膜厚43μm)。
[0282]
涂布液3的组成
[0283][0284]
利用绝对过滤精度1μm的过滤器过滤所获得的涂布液。
[0285]
将使用的材料示于以下。
[0286]
·
as-70：丙烯腈
·
苯乙烯共聚树脂[nippon steel&sumikin chemicalco.,ltd.制造]。平衡吸湿率为0.7质量％。
[0287]
·
sma2000p(cray valley制造，苯乙烯/马来酸酐共聚物、密合调整剂)
[0288]
·
vylon500(toyobo co.,ltd.制造，密合调整剂)
[0289]
＜光学膜a4＞
[0290]
使用市售的双轴拉伸pet薄膜(toray advanced film co.,ltd.制造，lumirror#5a-f53，膜厚5μm)作为光学膜a4。
[0291]
＜光学膜a5＞
[0292]
将聚萘二甲酸乙二醇酯(teonex tn8050sc，teijin limited.制造，以下还称为pen)的树脂进行聚合、熔融制膜而制作未拉伸pen，接着在110℃下拉伸而制作膜厚5μm的薄膜，获得了光学膜a5。
[0293]
＜具有光学膜a6的剥离性层叠薄膜的制作＞
[0294]
将上述光学膜a3的涂布液3替换为下述涂布液4，除此以外，以与光学膜a3相同的方式在与上述相同的基材膜上形成光学膜a6，获得了剥离性层叠薄膜(膜厚43μm)。
[0295]
涂布液4的组成
[0296][0297]
利用绝对过滤精度1μm的过滤器过滤所获得的涂布液。
[0298]
＜具有光学膜a7的剥离性层叠薄膜的制作＞
[0299]
将上述光学膜a3的涂布液3替换为下述涂布液5，除此以外，以与光学膜a3相同的方式在与上述相同的基材膜上形成光学膜a7，获得了剥离性层叠薄膜(膜厚43μm)。
[0300]
涂布液5的组成
[0301][0302]
利用绝对过滤精度1μm的过滤器过滤所获得的涂布液。
[0303]
将使用的材料示于以下。
[0304]
·
br-88：丙烯酸系树脂[mitsubishi rayon co.,ltd.制造，dianal]。
[0305]
＜具有光学膜a8的剥离性层叠薄膜的制作＞
[0306]
将光学膜的膜厚设为3μm，除此以外，以与光学膜a7相同的方式在与上述相同的基材膜上形成光学膜a8，获得了剥离性层叠薄膜(膜厚41μm)。
[0307]
＜具有光学膜a9的剥离性层叠薄膜的制作＞
[0308]
将光学膜的膜厚设为7μm，除此以外，以与光学膜a7相同的方式在与上述相同的基材膜上形成光学膜a9，获得了剥离性层叠薄膜(膜厚45μm)。
[0309]
＜具有光学膜a10的剥离性层叠薄膜的制作＞
[0310]
将上述光学膜a3的涂布液3替换为下述涂布液6，除此以外，以与光学膜a3相同的方式在与上述相同的基材膜上形成光学膜a10，获得了剥离性层叠薄膜(膜厚43μm)。
[0311]
涂布液6的组成
[0312][0313]
利用绝对过滤精度1μm的过滤器过滤所获得的涂布液。
[0314]
＜具有光学膜a11的剥离性层叠薄膜的制作＞
[0315]
将上述光学膜a7的干燥条件替换为120℃30秒，除此以外，以与光学膜a7相同的方式在与上述相同的基材膜上形成光学膜a11，获得了剥离性层叠薄膜(膜厚43μm)。
[0316]
＜具有光学膜a12的剥离性层叠薄膜的制作＞
[0317]
将上述光学膜a11的涂布液5替换为下述涂布液7，除此以外，以与光学膜a11相同的方式在与上述相同的基材膜上形成光学膜a12，获得了剥离性层叠薄膜(膜厚43μm)。
[0318]
涂布液7的组成
[0319][0320][0321]
利用绝对过滤精度1μm的过滤器过滤所获得的涂布液。
[0322]
＜具有光学膜a13的剥离性层叠薄膜的制作＞
[0323]
将上述光学膜a12的涂布液7替换为下述涂布液8，除此以外，以与光学膜a12相同的方式在与上述相同的基材膜上形成光学膜a13，获得了剥离性层叠薄膜(膜厚43μm)。
[0324]
涂布液8的组成
[0325][0326]
利用绝对过滤精度1μm的过滤器过滤所获得的涂布液。
[0327]
·
lt―35：在110℃下加热市售的乙酸纤维素(daicel corporation制造，lt-35)，返回到常温后使用。平衡吸湿率为3质量％。
[0328]
＜偏振片的制作＞
[0329]
1)粘接剂的制作
[0330]
·
粘接剂1：
[0331]
以下述所示的组成制备出粘接剂1。
[0332][0333]
将使用的材料示于以下。
[0334]
(聚合性化合物)
[0335]
m1：epiol eh-n(2-乙基己基缩水甘油醚)[nof corporation制造]
[0336]
m2：rikaresin dme-100(1,4-环己烷二甲醇二缩水甘油醚)[new japan chemical co.,ltd.制造]
[0337]
m3：celloxide 2021p(3,4-环氧环己基甲基-3,4'-环氧环己烷羧酸)[da icel corporation制造]
[0338]
(引发剂)
[0339]
a：cpi-100p/irgacure290＝1/4的混合物
[0340]
(增感剂)
[0341]
a：darocuritx(最大的极大吸收波长385nm)[basf公司制造]
[0342]
·
粘接剂2：
[0343]
使用聚乙烯醇(kuraray co.,ltd制造，pva-117h)3％水溶液作为粘接剂。
[0344]
2)对置薄膜的制作
[0345]
·
对置薄膜b1
[0346]
按照日本特开2015-227458号公报的实施例1，制作厚度60μm的聚甲基丙烯酸甲酯薄膜，作为对置薄膜b1。
[0347]
·
对置薄膜b2
[0348]
将上述对置薄膜b1的厚度变更为80μm，除此以外，以与对置薄膜b1相同的方式获得了对置薄膜b2。
[0349]
·
对置薄膜b3
[0350]
按照日本特开2017-201417号公报的起偏器保护膜1的方法，制作厚度80μm的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜，作为对置薄膜b3。
[0351]
·
对置薄膜b4
[0352]
将fujitac tj25(fujifilm corporation制造)在调温至37℃的4.5mol/l的氢氧化钠溶液(皂化液)中浸渍1分钟后，水洗薄膜，然后在0.05mol/l的硫酸水溶液中浸渍30秒后，使其进一步通过水洗浴。并且，重复进行3次利用气刀的脱水，去除水之后在70℃的干燥区滞留15秒钟而进行干燥，作为对置薄膜b4。
[0353]
3)薄膜的表面处理
[0354]
对上述制作的剥离性层叠薄膜中的与光学膜a1～a3及a6～a13的基材膜侧的界面相反的一侧的面、光学膜a4、光学膜a5及对置薄膜b1～b4的一个面进行电晕处理。
[0355]
4)起偏器的制作
[0356]
·
起偏器p1
[0357]
按照日本特开2001-141926号公报的实施例1，在2对夹持辊之间形成圆周速度差，并沿长度方向拉伸，从而制作了厚度15μm的起偏器。
[0358]
·
起偏器p2
[0359]
将上述起偏器p1的厚度变更为23μm，除此以外，以与起偏器p1相同的方式获得了起偏器p2。
[0360]
·
起偏器p3
[0361]
将上述起偏器p1的厚度变更为8μm，除此以外，以与起偏器p1相同的方式获得了起偏器p3。
[0362]
5)贴合
[0363]
使用如此获得的起偏器、含有进行上述表面处理的光学膜的剥离性层叠薄膜及进行上述表面处理的对置薄膜，利用进行表面处理的面夹持起偏器之后，使用上述粘接剂，以起偏器的吸收轴、光学膜及对置薄膜的长度方向平行的方式利用卷对卷进行了层叠。接着，使用气冷金属卤化物灯(eye graphics co.,ltd.制造)，照射照射量300mj/cm2的紫外线(uv)而使其固化。
[0364]
接着，使用与分离器的剥离装置相同的装置连续剥离剥离性层叠薄膜的基材膜，制作了偏振片。
[0365]
另外，对于使用光学膜a4、a5的偏振片，使用光学膜a4、a5来代替上述剥离性层叠薄膜，除此以外，以相同的方式制作偏振片。
[0366]
6)评价
[0367]
对于所制作的偏振片，将抗裂性的评价结果示于表1中。
[0368]
(抗裂性)
[0369]
用汤姆逊刀片将偏振片冲切成12英寸大小，在25℃50％rh下调湿24小时后，经由涂布在偏振片的光学膜侧表面上的粘合剂(弹性模量0.2mpa)贴合于玻璃(弹性模量70gpa)。
[0370]
[dry条件]接着，在80℃30％rh500hr下进行加热，返回到25℃55％rh，目视观察破裂的产生情况，按照下述基准进行评价。
[0371]
[hs条件]接着，将样品投入到-70℃～40℃的热冲击试验机(espec corp制造，冷热冲击试验tsa系列)，在-70℃下放置30分钟后，瞬间升温至40℃，作为1个循环。进行150次循环试验后，返回到25℃55％rh，目视观察破裂的产生情况，按照下述基准进行评价。
[0372]
a：未产生破裂。
[0373]
b：在偏振片芯片端面附近产生稍微可视觉辨认的破裂。
[0374]
c：发生1条以上贯通偏振片芯片的破裂。实用上没有问题的是a、b的基准。
[0375]
7)安装到液晶显示装置的评价(安装到ips型液晶显示装置)
[0376]
代替ips模式的液晶电视(超薄55型液晶电视，背光灯与单元的间隙为0.5mm)的前侧偏振片及后侧偏振片，将上述制作的偏振片以上述光学膜侧配置在液晶单元侧的方式经由粘合剂(弹性模量0.2mpa)贴合于液晶单元。目视观察所获得的液晶电视，评价光不均。(倾斜方向，极角60
°
时的漏光级别)
[0377]
a：在照度100lx的环境下未视觉辨认到漏光
[0378]
b：在照度100lx的环境下稍微视觉辨认到漏光
[0379]
c：在照度100lx的环境下视觉辨认到漏光
[0380]
d：在照度100lx的环境下视觉辨认到明确的漏光，也视觉辨认到光量不均。
[0381]
实用上没有问题的是a、b、c的基准。
[0382]
[表1]
[0383][0384]
由上述表1可知，实施例的偏振片的抗裂性良好，具有优异的显示性能。
[0385]
产业上的可利用性
[0386]
根据本发明，能够提供一种薄型偏振片及显示装置，所述薄型偏振片即使在高温或热冲击的环境下，也具有优异的抗裂性，且安装在显示装置时的显示性能优异。
[0387]
详细并且参考特定的实施方式而对本发明进行了说明，但在不脱离本发明的精神及范围的情况下能够追加各种变更或修正，这对本领域技术人员来说是显而易见的。
[0388]
本技术基于2020年1月29日申请的日本专利申请(日本特愿2020-12849)、2020年4月8日申请的日本专利申请(日本特愿2020-69974)、2020年5月22日申请的日本专利申请(日本特愿2020-89716)及2020年6月19日申请的日本专利申请(日本特愿2020-106310)，其内容作为参考编入于此。