掩模版预对准系统和方法、张网设备与流程

1.本发明实施例涉及半导体工艺设备技术领域，尤其涉及一种掩模版预对准系统和方法、张网设备。


背景技术：

2.在半导体工艺设备中，掩模版预对准系统为其中一个重要的系统。
3.掩模版预对准系统中，传输机械手把金属薄膜传送到张网设备的夹爪交接位，夹爪将其传送到工件台。在夹爪对金属薄膜进行搬运前，需要预对准装置对金属薄膜进行补偿，才能保证预对准系统的对准精度。
4.通常，在经过掩模版预对准系统对掩模版的预对准之后，将掩模版传输至张网设备的工作台。然而，现有预对准系统大多难以保证对掩模版的预对准精度，导致张网精度较差。


技术实现要素：

5.本发明提供一种掩模版预对准系统和方法、张网设备，以实现提高预对准系统的预对准精度，进而提高张网精度。
6.第一方面，本发明实施例提供了一种掩模版预对准系统，包括：预对准模块、传送模块、偏移量检测模块；偏移量检测模块分别与预对准模块和传送模块连接；传送模块用于将掩模版从预对准模块传输至工作台；
7.偏移量检测模块用于掩模版在预对准模块展平后，检测掩模版的偏移量，偏移量至少包括掩模版相对于参考平面的旋转偏移量和在设定方向上的距离偏移量，并将旋转偏移量发送至预对准模块以及将距离偏移量发送至传送模块；
8.预对准模块用于根据旋转偏移量调整掩模版的位置，以对旋转偏移量进行补偿；
9.传送模块还用于根据距离偏移量调整掩模版的位置，以对距离偏移量进行补偿。
10.可选的，预对准模块包括支撑板，支撑板的设定表面划分为中心放置区和边缘吸附区，边缘吸附区至少位于中心放置区的相对两侧；
11.边缘吸附区包括吸附结构，吸附结构用于对掩模版进行吸附以使掩模版在设定表面展平。
12.可选的，吸附结构包括吸附接头以及包括多个第一吸附孔的吸附本体，吸附本体设置于支撑板的设定表面；
13.支撑板中包括气道，吸附接头通过支撑板中的气道与第一吸附孔连通。
14.可选的，第一吸附孔的孔径为2-20微米，第一吸附孔在边缘吸附区均匀分布。
15.可选的，在边缘吸附区，支撑板的开设有多个第二吸附孔，吸附结构包括第二吸附孔和吸附接头，吸附接头与第二吸附孔连通；
16.可选的，第二吸附孔的直径大于15微米；
17.可选的，第二吸附孔均匀排布。
18.可选的，预对准模块还包括第一控制单元和驱动单元，第一控制单元分别与偏移量检测模块和驱动单元电连接，驱动单元与支撑板连接；
19.第一控制单元用于根据旋转偏移量向驱动单元发送第一控制信号，以使驱动单元驱动支撑板转动以调整掩模版的位置。
20.可选的，传送模块包括第二控制单元和抓取单元，第二控制单元分别与偏移量检测模块和抓取单元电连接，第二控制单元根据距离偏移量向抓取单元发送第二控制信号，以使抓取单元在抓取掩模版后在设定方向上调整掩模版的位置。
21.可选的，设定方向为与预对准模块指向工作台的方向垂直的方向。
22.第二方面，本发明实施例还提供了一种掩模版预对准方法，包括：
23.在掩模版在预对准模块展平后，偏移量检测模块检测掩模版的偏移量，偏移量至少包括掩模版相对于参考平面的旋转偏移量和在参考平面的设定方向上的距离偏移量，并将旋转偏移量发送至预对准模块以及将距离偏移量发送至传送模块；
24.预对准模块根据旋转偏移量调整掩模版的位置，以对旋转偏移量进行补偿；
25.传送模块根据距离偏移量调整掩模版的位置，以对距离偏移量进行补偿。
26.可选的，在掩模版在预对准模块展平后，偏移量检测模块检测掩模版的偏移量之前，还包括：
27.传送模块夹取掩模版张紧后放置于预对准模块的支撑板的设定表面；
28.吸附结构对掩模版进行吸附以使掩模版在设定表面展平；
29.传送模块释放掩模版。
30.可选的，在传送模块根据距离偏移量调整掩模版的位置，以对距离偏移量进行补偿之前，还包括：
31.传送模块夹取掩模版；
32.吸附结构停止对掩模版的吸附。
33.可选的，预对准模块还包括第一控制单元和驱动单元；预对准模块根据旋转偏移量调整掩模版的位置，以对旋转偏移量进行补偿，包括：
34.第一控制单元根据旋转偏移量向驱动单元发送第一控制信号，以使驱动单元驱动支撑板转动以调整掩模版的位置。
35.可选的，传送模块包括第二控制单元和抓取单元；传送模块根据距离偏移量调整掩模版的位置，以对距离偏移量进行补偿，包括：
36.第二控制单元根据距离偏移量向抓取单元发送第二控制信号，以使抓取单元在抓取掩模版后在设定方向上调整掩模版的位置。
37.可选的，在传送模块根据距离偏移量调整掩模版的位置，以对距离偏移量进行补偿之后，还包括：
38.传送模块将掩模版放置于支撑板的设定表面，吸附结构对掩模版进行吸附，传送模块释放掩模版；
39.偏移量检测模块检测旋转偏移量和距离偏移量是否满足设定要求，在旋转偏移量不满足设定要求时，返回执行预对准模块根据旋转偏移量调整掩模版的位置，以对旋转偏移量进行补偿及其后续步骤；在距离偏移量不满足设定要求时，返回执行传送模块根据距离偏移量调整掩模版的位置，以对距离偏移量进行补偿及其后续步骤。
40.第三方面，本发明实施例还提供了一种张网设备，包括第一方面提供的掩模版预对准系统。
41.本发明实施例提供了掩模版预对准系统和方法、张网设备，其中掩模版预对准系统包括预对准模块、传送模块、偏移量检测模块；偏移量检测模块用于掩模版在预对准模块展平后，检测掩模版的偏移量，偏移量至少包括掩模版相对于参考平面的旋转偏移量和在设定方向上的距离偏移量；预对准模块用于根据旋转偏移量调整掩模版的位置，以对旋转偏移量进行补偿；传送模块还用于根据距离偏移量调整掩模版的位置，以对距离偏移量进行补偿。本实施例中，偏移量检测模块检测掩模版的偏移量在掩模版展平之后进行检测，可以避免因掩模版褶皱等情况对掩模版的偏移量检测的影响，保证对掩模版的偏移量检测的准确性。并且，掩模版预对准系统不但可以实现对旋转偏移量的补偿，还可实现对设定方向上的距离偏移量的补偿，进而提高掩模版预对准的精度，进而提高张网精度。
附图说明
42.图1是本发明实施例提供的一种掩模版预对准系统的结构示意图；
43.图2是本发明实施例提供的预对准模块的结构示意图；
44.图3是图2的仰视图；
45.图4是图2的局部放大图；
46.图5是本发明实施例提供的一种掩模版预对准方法的流程图；
47.图6是本发明实施例提供的另一种掩模版预对准方法的流程图。
具体实施方式
48.本发明实施例提供了一种掩模版预对准系统，本实施例的掩模版预对准系统，可用于将掩模版传输给张网设备之前对掩模版进行偏移量的补偿以改善张网精度。与之相应的，本发明还提供一种采用该掩模版预对准系统对掩模版进行预对准的方法。下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
49.图1是本发明实施例提供的一种掩模版预对准系统的结构示意图，参考图1，该掩模版预对准系统包括：预对准模块110、传送模块120、偏移量检测模块130；偏移量检测模块130分别与预对准模块110和传送模块120连接；传送模块120用于将掩模版200从预对准模块110传输至工作台140；偏移量检测模块130用于掩模版200在预对准模块110展平后，检测掩模版的偏移量，偏移量至少包括掩模版200相对于参考平面的旋转偏移量和在设定方向上的距离偏移量，并将旋转偏移量发送至预对准模块110以及将距离偏移量发送至传送模块120；预对准模块110用于根据旋转偏移量调整掩模版的位置，以对旋转偏移量进行补偿；传送模块120还用于根据距离偏移量调整掩模版的位置，以对距离偏移量进行补偿。
50.参考图1，可选的，掩模版预对准系统还包括版库150和传输机械手160。版库150可用来存放掩模版。版库150可以包括多个掩模版放置位，示例性的，掩模版放置位可以是托盘，掩模版可以放置在掩模版放置位上。传输机械手160可以用于从版库150中取走掩模版并传输至预对准模块110。可选的，传输机械手160位于预对准模块110和版库150之间。
51.掩模版在传输过程中，不可避免地会存在位置的偏移。本实施例中，掩模版预对准系统还包括偏移量检测模块130、预对准模块110和传送模块120，待掩模版在预对准模块110的表面展平后，偏移量检测模块130检测掩模版的偏移量，该掩模版的偏移量至少包括旋转偏移量和在设定方向上距离偏移量。本实施例中偏移量检测模块130检测掩模版的偏移量在掩模版展平之后进行检测，可以避免因掩模版褶皱等情况对掩模版的偏移量检测的影响，保证对掩模版的偏移量检测的准确性。其中偏移量检测模块130可以是光学检测设备，也可以是其他可以实现检测至少包括掩模版相对于参考平面的旋转偏移量和在设定方向上的距离偏移量的偏移量的设备。
52.偏移量检测模块130将检测到的旋转偏移量发送至预对准模块110，预对准模块110接收到旋转偏移量后，根据该旋转偏移量的大小对掩模版的位置进行调节，具体是将掩模版向与旋转偏移量相反的方向旋转，示例性的，旋转偏移量为相对于参考平面顺时针旋转了15度，则根据旋转偏移量对掩模版的位置进行调节时，可以调节掩模版逆时针转动，例如可以逆时针旋转15度，以补偿旋转偏移量。偏移量检测模块130还将检测到的距离偏移量发送至传送模块120，在预对准模块110对旋转偏移量进行补偿后，传送模块120根据设定方向上的距离偏移量对掩模版的位置进行调节，以补偿设定方向上的距离偏移量。示例性的，掩模版在设定方向上的距离偏移量为0.3毫米时，可以调节掩模版向与设定方向相反的方向移动0.3毫米，进而补偿设定方向上的距离偏移量。本实施例的掩模版预对准系统，可以实现对掩模版的旋转偏移量和距离偏移量的补偿。在对掩模版的偏移量进行补偿后，传送模块120可以将掩模版传送至工作台140，工作台140可以属于张网设备，进而也有利于提高张网精度。
53.本实施例提供的掩模版预对准系统，包括预对准模块、传送模块、偏移量检测模块；偏移量检测模块用于掩模版在预对准模块展平后，检测掩模版的偏移量，偏移量至少包括掩模版相对于参考平面的旋转偏移量和在设定方向上的距离偏移量；预对准模块用于根据旋转偏移量调整掩模版的位置，以对旋转偏移量进行补偿；传送模块还用于根据距离偏移量调整掩模版的位置，以对距离偏移量进行补偿。本实施例中，偏移量检测模块检测掩模版的偏移量在掩模版展平之后进行检测，可以避免因掩模版褶皱等情况对掩模版的偏移量检测的影响，保证对掩模版的偏移量检测的准确性。并且，掩模版预对准系统不但可以实现对旋转偏移量的补偿，还可实现对设定方向上的距离偏移量的补偿，进而提高掩模版预对准的精度，进而提高张网精度。
54.继续参考图1，在上述技术方案的基础上，可选的，设定方向x为与预对准模块110指向工作台140的方向垂直的方向。
55.其中工作台140位于预对准模块110远离板库的一侧。具体的，传统预对准系统中，传送模块120只在预对准模块110指向工作台140的方向或者工作台140指向预对准模块110的方向y上进行移动，实现掩模版在预对准模块110和工作台140之间的传输，相应的，当掩模版在预对准模块110指向工作台140的方向或者工作台140指向预对准模块110的方向上有偏移时，可以通过传送模块120进行补偿；而忽略了与预对准模块110指向工作台140的方向垂直的方向的偏移量。本实施例中，设置设定方向x为与预对准模块110指向工作台140的方向垂直的方向，传送模块120可在与预对准模块110指向工作台140的方向垂直的方向进行移动，使得掩模版在与预对准模块110指向工作台140的方向垂直的方向有偏移时，及时
通过传送模块120进行调整，进而提高预对准的精度。
56.图2是本发明实施例提供的预对准模块的结构示意图，参考图2，可选的，预对准模块110包括支撑板111，支撑板111的设定表面划分为中心放置区1111和边缘吸附区1112，边缘吸附区1112至少位于中心放置区1111的相对两侧；
57.边缘吸附区1112包括吸附结构，吸附结构用于对掩模版进行吸附以使掩模版在设定表面展平。
58.参考图2，图2示例性地示出了边缘吸附区1112位于中心放置区1111相对两侧的情况。具体的，支撑板111的设定表面为支撑板111用于放置掩模版的表面。边缘吸附区1112设置于吸附结构，该吸附结构可以用于吸附掩模版，可选的，在偏移量检测模块130检测掩模版的偏移量(包括旋转偏移量rz和距离偏移量)前，通过吸附结构对掩模版进行吸附，使得掩模版放置在支撑板111的设定表面后，掩模版的边缘被边缘吸附区1112的吸附结构吸附，进而使得掩模版的边缘受力而展平，防止掩模版出现褶皱，进而保证偏移量检测模块130检测到掩模版偏移量的准确性。
59.需要说明的是，在本发明其他可选实施例中，边缘吸附区1112还可围绕中心放置区1111，进而使得掩模版放置在支撑板111的设定表面后，掩模版的各个边缘都可受吸附结构的吸附力而更加展平。
60.图3是图2的仰视图，参考图2和图3，可选的，吸附结构包括吸附接头114以及包括多个第一吸附孔的吸附本体113，吸附本体113设置于支撑板111的设定表面；
61.支撑板111中包括气道，吸附接头114通过支撑板111中的气道与第一吸附孔连通。
62.可选的，吸附本体113可以是陶瓷片，陶瓷片可以粘附于支撑板111的设定表面。支撑板111中开设气道，吸附接头114通过气道与吸附本体113的第一吸附孔连通，进而通过吸附接头114抽取空气来实现吸附结构对掩模版的吸附。
63.在上述技术方案的基础上，可选的，第一吸附孔的孔径为2-20微米，第一吸附孔在边缘吸附区1112均匀分布。
64.具体的，第一吸附孔的孔径较小，且分步密集，支撑板111的厚度较厚，因此直接在支撑板111上形成第一吸附孔工艺上不易实现。本实施例中，包括多个第一吸附孔的吸附本体113为外加于支撑板111的结构，相对与在支撑板111上直接进行开孔，工艺上相对更加容易实现。并且，第一吸附孔在边缘吸附区1112均匀分布，进而使得掩模版的边缘均匀受力，进而保证掩模版在吸附结构的吸附下，可以被拉伸至更加平整。可选的，吸附接头114设置于与设定表面的相对表面。
65.在本发明其他可选实施例中，在边缘吸附区，支撑板的开设有多个第二吸附孔，吸附结构包括第二吸附孔和吸附接头，吸附接头与第二吸附孔连通；可选的，第二吸附孔的直径大于15微米。
66.具体的，可以直接在支撑板上开设过孔作为第二吸附孔，相比于外加与支撑板的吸附本体，直接在支撑板上开设第二吸附孔时，第二吸附孔的直径需要大于上述实施例中第一吸附孔的直径，进而使得工艺上较为容易实现。本实施例的预对准模块结构，无需外接吸附结构的吸附本体，有利于节约成本。
67.可选的，第二吸附孔均匀排布，进而使得掩模版的边缘均匀受力，进而保证掩模版在吸附结构的吸附下，可以被拉伸至更加平整。可选的，边缘吸附区中至少包括一列第二吸
附孔，其中第二吸附孔排布的列方向可以是平行于边缘吸附区形成的矩形中，长边的延伸方向。
68.在上述各实施例的基础上，可选的，预对准模块还包括第一控制单元和驱动单元，第一控制单元分别与偏移量检测模块和驱动单元电连接，驱动单元与支撑板连接；
69.第一控制单元用于根据旋转偏移量向驱动单元发送第一控制信号，以使驱动单元驱动支撑板转动以调整掩模版的位置。
70.具体的，驱动单元可以用于驱动支撑板转动，掩模版放置于支撑板上，因此可通过支撑板的转动带动掩模版转动，进而实现对掩模版旋转偏移量的补偿。第一控制单元在接收到偏移量检测模块检测到的旋转偏移量后，可产生与对应与旋转偏移量的补偿量的第一控制信号，驱动单元根据该第一控制信号来驱动支撑板转动，来带动掩模版转动，进而对掩模版的旋转偏移量进行补偿。可选的，第一控制单元可以包括单片机。
71.在上述各实施例的基础上，可选的，传送模块包括第二控制单元和抓取单元，第二控制单元分别与偏移量检测模块和抓取单元电连接，第二控制单元根据距离偏移量向抓取单元发送第二控制信号，以使抓取单元在抓取掩模版后在设定方向上调整掩模版的位置。
72.可选的，抓取单元为夹爪。具体的，抓取单元可以用于夹取掩模版，并调整掩模版在设定方向上的位置。第二控制单元在接收到偏移量检测模块检测到的距离偏移量后，可产生与对应与距离偏移量的补偿量的第二控制信号，驱动单元根据该第二控制信号来夹取掩模版在设定方向上移动，进而对掩模版的旋转偏移量进行补偿。可选的，第二控制单元可以包括单片机。
73.图4是图2的局部放大图。参考图2-图4，可选的，预对准模块还包括支撑框架115，第一隔板04、第二隔板05、电机动子06、动子安装架07、电机定子08、定子安装架09、传感器支架10、限位传感器11、传感器挡片12、第一安装板13、万向滚珠14、摩擦板15、第二安装板16、回转轴承17、加油嘴18、光栅尺安装板19、机械限位安装板20、机械限位缓冲器21、机械限位挡板22、读头安装支架23、读头24、光栅尺25、平衡块26。
74.具体的，支撑框架115作为预对准模块的主体支撑，回转轴承17安装在支撑框架115上，回转轴承17的外圈与支撑框架115固定，回转轴承17的内圈可以绕旋转中心转动。第二安装板16与回转轴承17的内圈连接，支撑板111与第二安装板16连接，支撑板111用来承载掩模版，边缘吸附区1112对掩模版起到位置固定作用，掩模版随支撑板111一起转动。定子安装架09安装在支撑框架115上，电机定子08和传感器支架10安装在定子安装架09上，第二隔板05安装在电机定子08上，限位传感器11安装在传感器支架10上，电机定子08相对于支撑框架115固定不动并给电机动子06提供推力，两个限位传感器11实现电机动子直线运动的正负位置的电气限位开关，第二隔板05对电机定子08起到隔磁作用。第一隔板04和动子安装架07固定在支撑板111上，电机动子06和传感器挡片12固定在动子安装架07上，第一隔板04、电机动子06、动子安装架07和传感器挡片12随支撑板111一起转动；电机动子06通过电机定子08的磁场力驱动运动，电机动子06和电机定子08之间不接触，两者可以在x、y方向任意相对移动，最终电机动子06驱动支撑板111绕回转轴承17中心转动。
75.光栅尺25粘贴在光栅尺安装板19上，光栅尺安装板19固定在支撑板111上，随支撑板111一起转动；读头24安装在读头安装支架23上，读头安装支架23固定在第一安装板13上，第一安装板13固定在支撑框架115上，从而使读头24固定不动；由于19光栅尺相对读头
24发生运动时，读头24可以测量出19光栅尺运动的位移量，并反馈给第一控制单元(图中未示出)，第一控制单元计算出支撑板111带掩模版运动的旋转位移量。
76.机械限位缓冲器21安装在机械安装板20上，机械安装板20固定在支撑框架115上，机械限位挡板22固定在支撑板111上随支撑板111一起转动，机械限位缓冲器21与机械限位挡板22把支撑板111的转动限定在一定的范围内。
77.万向滚珠14安装在第一安装板13上，摩擦板15固定在支撑板111上，万向滚珠14对支撑板111起到辅助支撑作用；平衡块26安装在支撑板111上，使得支撑板111上的质心平衡到旋转中心；加油嘴18安装在支撑框架115上，可以对回转轴承17加注润滑脂。
78.吸附接头114连接到边缘吸附区1112的气路，为边缘吸附区1112提供真空吸附，从而使边缘吸附区1112将掩模版固定在支撑板111上。
79.其中，上述实施例中驱动单元可以包括电机动子06和电机定子08。
80.本发明实施例还提供了一种张网设备，该张网设备包括本发明上述任意实施例提供的掩模版预对准系统。
81.本发明实施例还提供了一种掩模版预对准方法，该掩模版预对准方法可适用于上述任意实施例的掩模版预对准系统。图5是本发明实施例提供的一种掩模版预对准方法的流程图，参考图5，该掩模版预对准方法包括：
82.步骤210、在掩模版在预对准模块展平后，偏移量检测模块检测掩模版的偏移量，偏移量至少包括掩模版相对于参考平面的旋转偏移量和在参考平面的设定方向上的距离偏移量，并将旋转偏移量发送至预对准模块以及将距离偏移量发送至传送模块；
83.步骤220、预对准模块根据旋转偏移量调整掩模版的位置，以对旋转偏移量进行补偿；
84.步骤230、传送模块根据距离偏移量调整掩模版的位置，以对距离偏移量进行补偿。
85.本实施例提供的掩模版预对准方法，在掩模版在预对准模块展平后，偏移量检测模块检测掩模版的偏移量，并将旋转偏移量发送至预对准模块以及将距离偏移量发送至传送模块；预对准模块根据旋转偏移量调整掩模版的位置，以对旋转偏移量进行补偿；传送模块根据距离偏移量调整掩模版的位置，以对距离偏移量进行补偿。本实施例中，检测模块检测掩模版的偏移量在掩模版展平之后进行检测，可以避免因掩模版褶皱等情况对掩模版的偏移量检测的影响，保证对掩模版的偏移量检测的准确性。并且，掩模版预对准系统不但可以实现对旋转偏移量的补偿，还可实现对设定方向上的距离偏移量的补偿，进而提高掩模版预对准的精度，进而提高张网精度。
86.图6是本发明实施例提供的另一种掩模版预对准方法的流程图，参考图6，可选的，该掩模版预对准方法包括：
87.步骤310、传输机械手将掩模版放置在支撑板的设定表面。
88.具体的，传输机械手用于从版库取走掩模版，并放置在支撑板。传输机械手用于在版库与预对准模块之间传输掩模版。
89.步骤320、传送模块夹取掩模版张紧后放置于预对准模块的支撑板的设定表面。
90.传送模块用于在预对准模块和工作台之间传输掩模版。因传输机械手将掩模版放置在支撑板后，掩模版可能会出现褶皱，传送模块夹取掩模版张紧后再次放置于掩模版，保
证再次放置时褶皱情况减轻或消失。
91.步骤330、吸附结构对掩模版进行吸附以使掩模版在设定表面展平。
92.吸附结构真空吸附掩模版，使得掩模版可以展平。
93.步骤340、传送模块释放掩模版。
94.掩模版展平后，传送模块释放掩模版，则由于吸附结构的吸附作用，掩模版可以保持展平状态，进而使得后续步骤中偏移量检测模块对掩模版的偏移量进行检测时，检测的准确性可以提高。
95.步骤350、在掩模版在预对准模块展平后，偏移量检测模块检测掩模版的偏移量，偏移量至少包括掩模版相对于参考平面的旋转偏移量和在参考平面的设定方向上的距离偏移量，并将旋转偏移量发送至预对准模块以及将距离偏移量发送至传送模块。
96.步骤360、预对准模块根据旋转偏移量调整掩模版的位置，以对旋转偏移量进行补偿。
97.可选的，预对准模块还包括第一控制单元和驱动单元；该步骤360包括：
98.第一控制单元根据旋转偏移量向驱动单元发送第一控制信号，以使驱动单元驱动支撑板转动以调整掩模版的位置。
99.步骤370、传送模块夹取掩模版。
100.步骤380、吸附结构停止对掩模版的吸附。
101.步骤390、传送模块根据距离偏移量调整掩模版的位置，以对距离偏移量进行补偿。
102.可选的，传送模块包括第二控制单元和抓取单元；该步骤390包括：
103.第二控制单元根据距离偏移量向抓取单元发送第二控制信号，以使抓取单元在抓取掩模版后在设定方向上调整掩模版的位置。
104.可选的，在步骤390之后，还包括：
105.步骤410、传送模块将掩模版放置于支撑板的设定表面，吸附结构对掩模版进行吸附，传送模块释放掩模版；
106.步骤420、偏移量检测模块检测旋转偏移量和距离偏移量是否满足设定要求；
107.在旋转偏移量不满足设定要求时，返回执行步骤360及其后续步骤；在距离偏移量不满足设定要求时，返回执行步骤390及其后续步骤。
108.在旋转偏移量和距离偏移量均满足设定要求时，可通过传送模块夹取掩模版，吸附结构释放掩模版，传送模块可将预对准后的掩模版传送至工作台，进而提高张网的精度。
109.本实施例的掩模版预对准方法，通过设置吸附结构对掩模版的吸附，保证掩模版在支撑板的设定表面可以展平，进而保证偏移量检测模块对偏移量的检测准确性。同时传送模块可以对掩模版进行设定方向上的距离偏移量的补偿，提高的预对准的精度，进而有利于提高张网精度。
110.注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。