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镜片、镜头及模具的制作方法

2022-07-30 12:54:36 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种镜片,其特征在于,包括:光学区;及承靠区,环绕所述光学区设置,且相对于所述光学区远离所述镜片的光轴,所述承靠区包括多个凹陷结构,多个所述凹陷结构相对于对称面对称设置,所述光轴位于所述对称面内,所述承靠区还包括外周面,所述外周面形成于所述承靠区的物侧面和所述承靠区的像侧面之间,所述凹陷结构的其中一侧贯穿所述外周面。2.如权利要求1所述的镜片,其特征在于,所述凹陷结构包括第一凹陷部,所述第一凹陷部由所述承靠区的物侧面朝所述承靠区的像侧面凹陷形成,所述第一凹陷部包括第一底面,所述第一底面的一侧贯穿所述承靠区的物侧面与所述光学区的物侧面的相接处;所述第一底面的相对的另一侧贯穿所述承靠区的像侧面,或者所述第一底面的相对的另一侧贯穿所述承靠区的外周面。3.如权利要求2所述的镜片,其特征在于,沿着所述镜片的物侧面至所述镜片的像侧面的方向,所述第一底面与所述光轴之间的距离逐渐增加。4.如权利要求2所述的镜片,其特征在于,所述第一凹陷部还包括设于所述第一底面两侧的第一侧面和第二侧面,所述第一侧面与所述第一底面相接形成第一交汇线,所述第二侧面与所述第一底面相接形成第二交汇线,所述第一交汇线和所述第二交汇线在垂直所述光轴的平面的投影线延伸后均穿过所述光轴。5.如权利要求4所述的镜片,其特征在于,所述第一侧面还包括第一轮廓线,所述第一轮廓线位于所述镜片的物侧面,且其两端分别与所述第一交汇线的两端连接,所述第二侧面包括第二轮廓线,所述第二轮廓线位于所述镜片的物侧面,且其两端分别与所述第二交汇线的两端连接;所述第一轮廓线和所述第二轮廓线在垂直所述光轴的平面的投影线分别与所述第一交汇线和所述第二交汇线在垂直所述光轴的平面的投影线重合,或者所述第一交汇线和所述第二交汇线在垂直所述光轴的平面的投影线位于所述第一轮廓线和所述第二轮廓线在垂直所述光轴的平面的投影线之间。6.如权利要求5所述的镜片,其特征在于,所述第一侧面和所述第二侧面均为曲面,或者所述第一侧面和所述第二侧面均相对于所述第一底面倾斜设置。7.如权利要求5所述的镜片,其特征在于,交汇于所述光轴,且分别经过所述第一轮廓线和所述第二轮廓线的两条直线之间存在最大夹角,多个所述第一凹陷部的所述最大夹角之和小于180
°
。8.如权利要求2-7任意一项所述的镜片,其特征在于,所述凹陷结构还包括第二凹陷部,所述第二凹陷部由所述承靠区的像侧面朝所述承靠区的物侧面凹陷形成,所述第二凹陷部包括第二底面,所述第二底面的一侧贯穿所述第一底面,所述第二底面的相对的另一侧贯穿所述承靠区的像侧面。9.如权利要求1所述的镜片,其特征在于,所述凹陷结构包括第三凹陷部,所述第三凹陷部由所述承靠区的外周面朝所述镜片的光轴凹陷形成,所述第三凹陷部包括相对的第三侧面和第四侧面,所述第三侧面靠近所述承靠区的物侧面设置,所述第三侧面与所述承靠区的物侧面在所述光轴方向的最小距离大于零,所述第四侧面靠近所述承靠区的像侧面设置,所述第四侧面与所述承靠区的像侧面在所述光轴方向的最小距离大于零。
10.如权利要求1所述的镜片,其特征在于,所述凹陷结构包括第四凹陷部,所述第四凹陷部由所述承靠区的外周面朝所述镜片的光轴凹陷形成,所述第四凹陷部分别贯穿所述承靠区的物侧面和承靠区的像侧面。11.如权利要求1所述的镜片,其特征在于,所述镜片满足以下关系式:t 1/t2>2.5;其中,t 1为所述光学区的物侧面和所述光学区的像侧面在所述光轴方向的最大厚度,t2为所述光学区的物侧面和所述光学区的像侧面在所述光轴方向的最小厚度。12.一种镜头,其特征在于,包括:镜筒;及如权利要求1-11任意一项所述的镜片。13.一种模具,其特征在于,包括:公模;母模,与所述公模相适配;及模仁,设于所述公模和/或所述母模内,所述模仁具有型腔以成型一种镜片,所述镜片包括光学区和承靠区,所述承靠区环绕所述光学区设置,且相对于所述光学区远离所述镜片的光轴,所述承靠区包括多个凹陷结构,多个所述凹陷结构相对于对称面对称设置,所述光轴位于所述对称面内,所述承靠区还包括外周面,所述外周面形成于所述承靠区的物侧面和所述承靠区的像侧面之间,所述凹陷结构的其中一侧贯穿所述外周面。

技术总结
本申请提供一种镜片、镜头及模具。所述镜片包括:光学区;及承靠区,环绕光学区设置,且相对于光学区远离镜片的光轴,承靠区包括多个凹陷结构,多个凹陷结构相对于对称面对称设置,光轴位于对称面内,承靠区还包括外周面,外周面形成于承靠区的物侧面和承靠区的像侧面之间,凹陷结构的其中一侧贯穿外周面。上述的镜片能够保证注塑成型过程中熔融树脂在光学区和承靠区流速的一致,可避免熔接线的产生;并且可保证从外界特定位置射入的光线可直接到达成像面,避免了光线在承靠区经过多次反射并到达成像面,从而影响成像质量,镜片的性能及品质较高。及品质较高。及品质较高。


技术研发人员:王丽青
受保护的技术使用者:江西晶超光学有限公司
技术研发日:2021.01.18
技术公布日:2022/7/29
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