回旋加速器靶室及回旋加速器的制作方法

技术特征：
1.一种回旋加速器靶室，其特征在于，包括：主体结构，所述主体结构内部构造有凹槽和通道，且所述通道与所述凹槽连通；头部结构，所述头部结构固定于所述主体结构的一端，且所述头部结构构造有通孔，所述通孔通过所述通道与所述凹槽连通；尾部结构，所述尾部结构固定于所述主体结构的另一端；靶片组件，所述靶片组件为圆形结构，且固定于所述凹槽中。2.根据权利要求1所述的回旋加速器靶室，其特征在于，还包括第一压片和第二压片，所述头部结构通过所述第一压片与所述主体结构连接，所述尾部结构通过所述第二压片与所述主体结构连接。3.根据权利要求2所述的回旋加速器靶室，其特征在于，还包括第一密封片和第二密封片，所述第一压片通过所述第一密封片与所述主体结构连接，所述第二压片通过所述第二密封片与所述主体结构连接。4.根据权利要求1所述的回旋加速器靶室，其特征在于，所述靶片组件包括圆形底盘、圆形靶片和卡环，所述卡环固定于所述圆形底盘的周侧，所述圆形靶片固定于所述卡环和所述圆形底盘的围设空间内。5.根据权利要求4所述的回旋加速器靶室，其特征在于，所述圆形靶片的直径取值范围为10mm至50mm，所述圆形靶片的厚度为0.1mm至1.5mm。6.根据权利要求4所述的回旋加速器靶室，其特征在于，所述圆形靶片的制作方法包括：通过电镀法将靶材料在所述圆形底盘表面上形成镀层，或是由靶材料裁剪制成的薄片，或是将粉末密封封装形成的胶囊靶。7.根据权利要求1所述的回旋加速器靶室，其特征在于，还包括冷却头，所述主体结构内部构造有冷却管路，所述冷却头设于所述主体结构的外端面上，并与所述冷却管路的一端连通，所述冷却管路的另一端与所述凹槽连通。8.根据权利要求1所述的回旋加速器靶室，其特征在于，所述主体结构包括底座和盖板，所述凹槽设于所述底座上，所述盖板与所述底座对应扣合设置。9.根据权利要求1-8中任意一项所述的回旋加速器靶室，其特征在于，所述凹槽与水平方向的夹角取值范围在20
°
至40
°
之间。10.一种回旋加速器，其特征在于，包括：权利要求1-9中任意一项所述的回旋加速器靶室。

技术总结
本发明涉及加速器的靶结构技术领域，提供一种回旋加速器靶室及回旋加速器。该回旋加速器靶室，包括：主体结构，主体结构内部构造有凹槽和通道，且通道与凹槽连通；头部结构，头部结构固定于主体结构的一端，且头部结构构造有通孔，通孔通过通道与凹槽连通；尾部结构，尾部结构固定于主体结构的另一端；靶片组件，靶片组件为圆形结构，且固定于凹槽中。该回旋加速器包括上述的回旋加速器靶室。本发明提供的一种回旋加速器靶室及回旋加速器，提高了辐照效率、靶片面积小，制作成本降低，且便于传送和冷却；靶片后处理量变小，可降低辐照后靶片的溶解、分离的处理量，降低后处理的成本，减少放射性废物和化学处理废物产生量。性废物和化学处理废物产生量。性废物和化学处理废物产生量。


技术研发人员：李光 温凯 段菲 马承伟 赵紫宇 张宝琦 褚浩淼 张文辉 李超 王成志
受保护的技术使用者：原子高科股份有限公司
技术研发日：2022.04.02
技术公布日：2022/7/12