用于对准基板的方法和装置与流程

1.本发明涉及根据并列权利要求的用于对准基板的方法和装置。


背景技术：

2.微电子和微是统技术的几乎所有部分中的逐步发展的微型化确保所有技术的稳定继续发展，借助于这些技术可以提高基板上的所有类型的功能单元的密度。例如微控制器、存储器模块、mems、所有类型的传感器或微流体组件属于这些功能单元。
3.近年来，大大改进了用于提高这些功能单元的横向密度的技术。在微电子或微是统技术的一些子领域中，甚至到功能单元的横向密度的进一步提高不再可能的程度。在微芯片生产中，实际上已经达到了要以光刻方式产生的结构的最大可达到的分辨率限制。因此，在几年内，物理或技术限制完全不再允许功能单元的横向密度的任何提高。几年来，业界已通过开发2.5d和3d技术来对付此问题。借助于这些技术，可以将相同或甚至不同类型的功能单元相对于彼此对准，相叠地堆叠，将其永久地彼此连接且通过相应的印制导线彼此互连。
4.用于实现这些结构的关键技术之一是永久接合。永久接合被理解为所有方法，利用这些方法可以将基板彼此连接，使得基板的分离仅通过高的能量耗费和基板的随之出现的破坏而是可能的。存在本领域技术人员已知的不同类型的永久接合。
5.最重要的永久接合方法之一是融合接合，也被称为直接接合或分子接合。融合接合被理解为通过构成共价键而永久连接两个基板的过程。主要在非金属无机材料的表面上形成融合接合。融合接合可以在多个方法步骤中进行：借助于所谓的预接合将经预处理的清洁基板彼此连接。在预接合方法中，两个基板单单通过范德华(van der waals)力而彼此接合。此接合过程主要发生在硅基板和/或氧化硅基板之间。接合过程将第一基板的待接合的第一基板表面与第二基板的待接合的第二基板表面连接。弱键的键能足以以不可移动方式将基板彼此连接。然而，预接合实现相互结合的基板的无破坏的、尤其无损坏的分离。仅利用热处理就将预接合转换为基板的不可分离的连接。
6.相对于彼此对准的基板的夹持可以根据需要首先或在预接合之后完全机械地进行。在一种特别的实施方式中，优选地利用在专利说明书pct/ep2013/056620中描述的方法将基板彼此夹持。在此情况下，起磁性作用的固定构件被用于两个相对于彼此对准并接触的基板的快速且简单固定。夹持也可以以任何其他方式进行。尤其，可以将相对于彼此对准的基板夹持到样本保持器上。
7.现有技术知道用于测量对准标记的无数方法，这些对准标志用于对准标志所位于的基板的正确定位以及用于随后的接合步骤。根据现有技术，借助于(尤其根据us6214692b1、wo2014202106a1或wo2015082020a1的)对准设备将基板相对于彼此对准。公开文献us6214692b1的对准设备可以被视为最接近的现有技术。在该对准设备中，使用两个光学器件组(分别具有两个彼此相对的光学器件)，以便创建具有两个参考点的是统，其中基板相对于是统相互地被定位。参考点是两个彼此相对的光学器件的光轴的交叉点。
8.在一种已知装置中，将光学是统和旋转是统用于根据折叠校准（umschlagsjustierung）原理进行基板定位，为此参见hansen, friedrich: justierung, veb verlag technik, 1964, 第6.2.4段, umschlagmethode, bei welcher mindestens eine messung in einer definierten position und mindestens eine messung in 180 grad gedrehter, entgegengesetzt orientierter, umgeschlagener position durchgef
ü
hrt wird [折叠方法，其中在定义位置中实行至少一个测量且在旋转180度且相反地定向的折叠位置中实行至少一个测量]。这样获得的测量结果尤其清除偏心误差。
[0009]
在至少两个基板的对准期间的一个问题在于：对准的移动流程应越来越快地然而也越来越精确地、即以更低的剩余位置不确定性（positionsrestunsicherheit）进行，使得基板尽可能地在理想位置中彼此连接和接合。这些移动需求彼此相反。
[0010]
此外，应尽最大可能地消除寄生移动和由装置本身结构决定的额外路径。寄生移动尤其作为振动、热影响、移动负载的效应且作为电磁场对装置的干扰效应而产生。结构决定的额外路径是待接合的第一基板与待接合的第二基板的轨迹路径，这些轨迹路径通过在保留装置的对准功能时优化装置且尤其通过提高位置精度而取消。
[0011]
在现有技术中的对准装置的情况下，装载和卸载方向大多与基板的对准的主要移动方向相同。为了检测对准标志，两个基板多次行进通过对应于整个基板直径的长度。
[0012]
在此情况下，对准装置的设计基于分别具有两个双筒显微镜的手动对准装置的历史开发设计，如在公开文献us6214692b1中所公开的。在此设计中，考虑了操作者的人体工学工作位置且将两个观察显微镜以到操作者相同的距离定位在装载和卸载方向的主要移动方向的法线上。
[0013]
在wo2014202106a1中，装载和卸载方向横向于基板的对准的主要移动方向。为了检测对准标志，短行进路径是可能的。然而，两个双筒显微镜的定位与常规对准装置的结构实质上相同。
[0014]
pct/ep2016/070289使用基板保持器的额外对准特征，其与基板特征组合且实现更精确对准。实质上根据常规对准装置来实现机械结构。
[0015]
现有技术的重要问题起因于当前对准装置的设计。待对准的基板和/或装置的部分的任何寄生移动对于对准精度而言都是有害的。
[0016]
尤其，非期望的移动是基板相对于彼此的相对位置的位移、整个装置以及其部分的振动、由移动负载引起的寄生移动(块体在导轨上的移动引起横向位移)、所使用的直线导轨上的非期望的横摆、俯仰或滚动。此外，应最小化图像采集元件的振动，以便避免对重新聚焦的需求。一般地，振动引起寄生移动，所述寄生移动在几微秒至几秒的时间帧内引起干扰。
[0017]
以热机械转换和/或热噪声和/或热膨胀作为原因的机械故障导致寄生移动。产生这些机械故障的时间间隔处于秒至天范围内。因此，所引起的机械故障的检测以及补偿是复杂的。
[0018]
机械工程以及机电一体化领域的技术人员已知所有所列出的寄生移动。尤其，若寄生移动构成对准的系统故障，则寄生移动影响对准成功。
[0019]
这些系统故障客观地由对准装置和测量方法决定。针对现有技术中的装置，基板的引导以及驱动系统以及图像采集元件连同其定位和驱动系统可能是故障来源。
[0020]
现有技术的装置的图像采集元件(尤其可以在相反方向上采集焦平面的双筒显微镜)位于开放式控制台的端部处。因此，进行图像采集装置在所谓的开放式c形设计的机架上的固定。开放式c形设计增强地倾向于振动，这些振动主要在0.1 hz至1 hz之间或0.1 hz至10 hz之间的低频范围内仅能以相当大的结构耗费来衰减且不能被消除。


技术实现要素：

[0021]
因此，本发明的任务是说明一种方法和一种装置，利用该方法和/或利用该装置可以改进基板相对于彼此的对准的精度且同时提高两个基板的对准的速度。由此实现基板的更精确且更高效的对准和接触。
[0022]
该任务利用并列权利要求的特征来解决。在从属权利要求中说明了本发明的有利的改进方案。在说明书、权利要求书和/或附图中所说明的特征中的至少两个特征的全部组合也落入本发明的范围内。在值范围的情况下，处于所提到的极限之内的值也应被公开为极限值且应可以以任意组合要求。
[0023]
根据本发明，提供一种用于对准基板的方法，其中进行对准标志的检测且依据对准标志的检测而将基板相对于彼此对准，其中至少两个对准标志与基板的线性移动件齐平地布置。
[0024]
此外，根据本发明，提供一种用于对准基板且用于实行根据本发明的方法的装置，其中可以实行对准标志的检测且可以依据对准标志的检测而将基板相对于彼此对准，其中至少两个对准标志与基板的线性移动件齐平地布置。
[0025]
优选地规定，至少三个对准标志与基板的线性移动件齐平地布置。
[0026]
优选地规定，至少一个对准标志布置在基板保持器处或上。
[0027]
优选地规定，至少两个对准标志布置在基板处且至少一个对准标志布置在基板保持器处，其中对准标志与基板的线性移动件齐平地布置。
[0028]
优选地规定，用于检测对准标志的检测单元布置在至少一个环形测量入口(portal)中，优选地布置在至少一个全封闭环形测量入口中。
[0029]
优选地规定，用于检测对准标志的检测单元布置在两个环形测量入口中，优选地布置在两个全封闭环形测量入口中。
[0030]
优选地规定，用于检测对准标志的检测单元布置在环形测量入口中，优选地布置在全封闭环形测量入口中并且在c形柱中。
[0031]
优选地规定，对准沿着唯一的对准轴进行，其中对准轴平行于基板的装载和卸载方向延伸。
[0032]
换言之，本发明的核心是，至少两个对准标志与基板的线性移动件齐平地布置。在此情况下，两个对准标志可以例如位于基板上，或例如一个对准标志可以位于基板上且另一对准标志可以位于基板保持器上。但是，例如两个或更多对准标志也可以位于基板上和/或基板保持器上。这些示例性配置不仅适用于第一/上基板或第一/上基板保持器而且适用于第二/下基板或第二/下基板保持器。根据本发明，至少两个对准标志与基板的线性移动件齐平地布置。由此，由于横向移动的减少，可以实现高对准精度。
[0033]
本发明尤其所基于的构思是，通过具有入口设计的装置的提高的刚性和/或通过检测至少三个对准标记(在下文中也被称为对准标志)而提高对准精度，这些对准标记与基
板的线性移动件齐平地布置。
[0034]
优选地，至少一个对准标记安置在基板保持器处或上。基板保持器的位置检测提供用于待对准基板的方位和对准状态的校正值。
[0035]
在一种有利实施方式中，至少一个基板保持器具有用于基板的优选地平坦的安装面。
[0036]
此外，至少一个基板保持器可以尤其包含单片地与安装面连接的棱柱体，这些棱柱体在已知几何形状的情况下可以被用作用于尤其光学位置测量的参考面。这些功能面构成为激光反射器，使得通过关于激光的入射点的认识和几何形状可以确定本体在空间中的精确方位。在此情况下，可以借助干涉仪测量且相应地在闭合控制回路中校正功能面的方位。
[0037]
根据本发明的用于对准至少两个基板的装置具有至少一个光学系统，该至少一个光学系统具有两个尤其彼此相对地对准的光学器件或检测单元，所述光学器件或检测单元的光学路径优选地在共同焦点中相遇。共同焦点构成第一基板和第二基板的理想化接合平面的一点。基板在此平面中彼此接合。在公开文献wo2014202106中详细描述焦点的准确描述和校准。
[0038]
根据一种有利实施方式，光学系统或检测单元包含射束成形和/或偏转元件、如反射镜、透镜、棱镜、辐射源(尤其用于科勒（k
ö
hler）照明)以及图像采集构件、如相机(cmos传感器或ccd、或面或列或点检测构件、如光电晶体管)和用于聚焦的移动构件以及用于调节光学系统的分析构件。
[0039]
装置的根据本发明的改进方案包含具有对准的光学器件的两个以上相同光学系统。
[0040]
此外，根据本发明的装置包含用于安装待对准基板的基板保持器。根据本发明的装置的一种实施方式包含至少两个可移动基板保持器，其可以安装和固定待对准的第一基板和待对准的第二基板。基板保持器的移动和定位系统被归入为可移动基板保持器。
[0041]
基板可以具有任何任意形状，但是优选地是圆形。晶圆总是被理解为基板。尤其在工业上标准化基板的直径。针对晶圆，工业标准直径1英寸、2英寸、3英寸、4英寸、5英寸、6英寸、8英寸、12英寸和18英寸或相应的度量转换适用。但是，根据本发明的装置原则上可以处理任何基板，而与其直径无关。
[0042]
根据本发明，可以设想，代替基板，使用由至少两个相互连接的基板构成的基板堆栈且将基板堆栈与基板或与另一基板堆栈连接。在进一步的公开内容中，基板堆栈可以以被归入基板之下的方式来使用和理解。
[0043]
基板相对于彼此的对准尤其根据位于基板的接触面上的对准标记进行。相对基板的相对侧上的对准标记尤其彼此互补。
[0044]
对准标记可以是可相对于彼此对准的任何对象，如十字形、方形或圆形，以及类似螺旋桨的形状或栅格结构，尤其用于空间频率范围的相位栅格。
[0045]
对准标记优选地借助确定的波长或波长范围的电磁辐射、尤其红外线辐射、可见光或紫外线辐射来检测。然而，使用其他波长范围的辐射同样是可能的。
[0046]
此外，根据本发明的装置可以包含用于产生预接合的系统。
[0047]
此外，根据本发明的装置优选地包含具有驱动系统、引导系统、紧固件以及测量系
统的移动装置，以便能够将光学系统以及基板保持器和/或基板移动、定位和相对于彼此对准。移动装置可以执行基板保持器的被调节的定位，所述基板保持器通过控制和/或调节单元、尤其计算机和/或调节算法来操纵。
[0048]
移动装置可以作为多个单个移动的结果而产生任何移动，使得移动装置可以优选地包含不满足精度要求的快速粗略定位装置以及精确工作的精细定位装置。待行进至的位置的额定值是理想值。移动装置接近理想值。达到理想值周围的所定义环境可以被理解为达到额定值。
[0049]
如果相对于总行进路径或旋转范围(在能够回转的旋转驱动器的情况下360度的完整回转)，定位或重复精度从额定值偏离小于0.1%，优选地小于0.05%，特别优选地小于0.01%，则定位装置被理解为粗略定位装置。例如，在具有超过600 mm (双倍基板直径)的行进路径的粗略定位器(英语：pre-aligner（预对准器）)的情况下，600 mm*0.01% 、即小于60微米的定位精度因此作为剩余不确定性产生。在粗略定位的其他实施方式中，定位或重复精度的剩余不确定性小于200微米，优选地小于150微米，特别优选地小于50微米。在此情况下，应同样一起考虑热干扰变量。
[0050]
只有当实际到达的实际位置与位置的额定值之间的偏差处于所分配的精细定位装置的行进范围内时，粗略定位装置才以足够精度履行定位任务。
[0051]
只有当实际到达的实际位置与位置的额定值之间的偏差处于所分配的精细定位装置的一半行进范围内时，替代的粗略定位装置才以足够精度履行定位任务。
[0052]
如果相对于总行进路径或旋转范围，定位和/或重复精度相对于额定值的剩余不确定性不超过小于500 ppb，优选地小于100 ppb，在理想情况下1 ppb，则定位装置被理解为一精细定位装置。优选地，根据本发明的精细定位装置将具有小于5微米、优选地小于1微米、特别优选地小于100 nm、完全特别优选地小于10 nm、在最优情况下小于5 nm、在理想情况下小于1 nm的绝对定位误差。
[0053]
对准和可能接触(融合接合)借助精密驱动器、如压电驱动器进行。
[0054]
根据本发明的装置以及相关的方法优选地具有至少两个最高精度和可再现性的定位装置。相互误差校正的概念可以被用于基板的对准的质量。因此，一个基板和与其对应的定位装置的已知偏移(扭转和/或位移)可以使用利用校正值或校正向量对另一定位装置和另一基板的位置的调整和校正来补偿。在此情况下，控制或调节如何使用粗略和精细定位或仅使用粗略定位或仅使用精细定位来进行误差校正是扭转和/或位移的大小和类型的问题。在其他正文中，定位装置(粗略或精细或复合定位装置)以及对准构件以被视为同义词的方式使用。
[0055]
根据本发明，基板相对于彼此的对准可以在所有六个移动自由度中进行：根据笛卡尔坐标方向x、y和z的三个平移以及围绕这些坐标方向的三个旋转。x、y和z方向或x、y和z位置被理解为在笛卡尔x-y-z坐标系中延伸的方向或布置的位置。x和y方向尤其对应于基板的横向方向。
[0056]
从基板的对准标记的位置和/或方位值以及从基板保持器上的对准标记导出/计算出位置特征。根据本发明，可以在任何方向和定向上实行移动。优选地根据公开文献ep2612109b1中的公开内容，基板的对准尤其包含被动或主动楔形误差补偿。
[0057]
根据本发明的方法尤其借助额外x-y位置和/或方位信息来提高对准精度，所述额
外x-y位置和/或方位信息利用额外安置的检测单元和/或测量和调节系统来检测且被用于对准的控制/调节。额外安置的检测单元和/或测量和调节系统可以是其他分别具有两个相互相对光学器件的光学器件组。
[0058]
在一种优选实施方式中，将额外(尤其第三)对准标记安置在基板保持器上。利用至少一个具有新颖额外光学路径的额外测量系统检测此额外位置特征。基板保持器上的对准标记同样与基板的线性移动件齐平地布置。基板保持器的位置检测提供用于待对准基板的方位和对准状态的校正值。通过额外测量值和与其他检测单元的测量值中的至少一个测量值的相关性，提高对准精度。通过接触面之间的接合界面中的所测量的对准标记中的至少一个与基板保持器上的在基板的对准期间也可见的对准标记的相关性，在对准期间实现对准标志的直接可观察性和因此实时测量和调节。
[0059]
在一种优选实施方式中，额外测量系统是激光干涉仪。激光干涉仪允许通过测量位置改变(位移的测量)、倾斜角改变(角度测量)、平整度(位移和角度的测量)、正交性(角度测量)和根据需要动力学(速度的测量)来控制基板保持器的线性移动。尤其，倾斜角改变的测量允许检测滑块在线性导轨上的倾斜。直线度的测量允许检测或精确检测线性导轨上的滑轨的水平或垂直偏差。针对高度精确激光干涉测量，根据介质，激光波长的实时校正是必要的。在此情况下，必须检测例如压力、材料温度和/或气体温度(若存在)。
[0060]
一种特别优选实施方式具有每基板保持器和/或基板至少一个激光干涉仪，优选地每基板保持器和/或基板两个激光干涉仪，其检测两个基板保持器和/或基板相对于所定义的参考、尤其相对于框架的x-y位置和/或对准方位和/或角位置。优选地，至少一个干涉仪是固定至框架的。
[0061]
用于基板处理的机器人被归入移动装置之下。紧固件可以组件集成和/或功能集成在移动装置中。此外，根据本发明的装置优选地包含调节系统和/或分析系统、尤其计算机，以便执行所描述步骤、尤其移动流程，实行校正，分析和存储相应的根据本发明的装置的运行状态。方法优选地被创建为配方且以机器可读形式执行。配方是参数的优化值集合，所述参数处于功能或方法技术关联中。使用配方允许确保生产流程的可再现性。
[0062]
此外，根据一种优选实施方式，根据本发明的装置包含供应以及辅助和/或补充系统、诸如压缩空气、真空、电能、液体(如液压、冷却剂、加热介质)、用于温度稳定化的构件和/或装置、电磁屏蔽。
[0063]
此外，根据本发明的装置优选地包含框架、覆盖物、抑制或衰减或清除振动的主动或被动子系统。
[0064]
在装置的一种优选实施方式中，检测单元(优选地连同其移动单元)可以布置于至少一个环形测量入口中，特别优选地布置于至少一个全封闭环形测量入口中，尤其以固定至框架的方式。
[0065]
具有唯一入口的装置的优选实施方式在进一步过程中被称为单入口实施方案。单入口实现行进通过基板连同基板保持器，使得实现检测至少基板的对准标志。继续地，可以同样一起检测基板保持器的位置。
[0066]
本发明的核心思想尤其是实现将对准减少到仅唯一对准轴，同时提高对准至少两个基板的对准精度。封闭设计中的装置的布局提高装置的刚性，降低振动能力且实现检测至少两个、更优选地三个对准标志，所述对准标志与基板的线性移动件齐平地布置。
[0067]
由于对准轴尤其与装载和卸载方向一致，所以取消横向于装载和卸载方向的额外移动。通过与基板保持器上的可直接检测的对准标记的组合和相关性，额外改进对准精度。
[0068]
在装置的一种优选实施方式中，至少两个检测单元可以布置于装置的主纵向轴上。在装置的进一步优选的实施方式中，至少两个检测单元可以布置为具有优选地共同焦点的上检测单元和下检测单元。
[0069]
在装置的一种优选实施方式中，具有独立移动单元的上检测单元和下检测单元可以与框架或与入口连接，使得尤其可以执行聚焦以及校准方法，利用这些聚焦以及校准方法可以尤其重新调整共同焦点。
[0070]
在装置的一种优选实施方式中，检测单元的移动单元可以在全局(尤其固定至框架的)坐标系中在主坐标方向x、y、z上移动。检测单元的移动单元行进路径在基板的平面中、即在x和y方向上小于20 mm，优选地小于10 mm，特别优选地小于5 mm。
[0071]
在一种优选实施方式中，检测单元的移动单元可以尤其在z方向上移动超过5 mm，优选地超过10 mm，特别优选地超过20 mm，以便同样可以实现非标准化基板堆栈的聚焦。
[0072]
在一种替代实施方式中，基板的高度可以通过基板保持器的定位来补偿，使得使用小于1 mm、优选地小于0.5 mm的聚焦路径。
[0073]
在装置的一种优选实施方式中，检测单元的移动单元可以尤其设计为无间隙(spielfrei)固体接头或导轨。
[0074]
在另一实施方式中，所有类型的其他检测构件可以尤其以固定至框架的方式安置在入口中。
[0075]
此外，根据本发明的装置包含至少一个测量系统，优选地具有针对每个移动轴的测量单元，所述测量系统可以尤其实施为距离测量系统和/或角度测量系统。
[0076]
可以使用触觉、即触摸或非触觉测量方法。测量标准(测量单位)可以作为物理对象存在，尤其作为标度，或隐含地存在于测量方法中，如所使用的辐射的波长。
[0077]
为了实现对准精度，可以选择且使用至少一个测量系统。测量系统实施测量方法。尤其可以使用
•ꢀ
电感方法，和/或
•ꢀ
电容方法，和/或
•ꢀ
电阻方法，和/或
•ꢀ
比较方法，尤其光学图像识别方法，和/或
•ꢀ
增量或绝对方法(尤其利用玻璃标准作为标度，或干涉仪，尤其激光干涉仪，或利用磁性标准)，和/或
•ꢀ
渡越时间测量(多普勒方法、飞行时间方法)或其他时间检测方法，和/或
•ꢀ
三角测量方法，尤其激光三角测量，和/或
•ꢀ
自动聚焦方法，和/或
•ꢀ
强度测量方法，如光纤测距仪。
[0078]
此外，优选地根据pct/ep2016/070289，一种优选实施方式包含至少一个额外测量系统，其检测基板中的至少一个和/或基板保持器之一相对于所定义的参考、尤其相对于框架的x-y位置和/或对准方位和/或角位置。
[0079]
一种特别优选的实施方式包含用于所有基板保持器的额外测量系统，其检测两个
基板保持器和/或基板相对于所定义的参考、尤其相对于框架的x-y位置和/或对准方位和/或角度位置。
[0080]
尤其由天然硬石或矿物铸件或球状石墨铸铁或液力粘合混凝土构成的零件可以被理解为框架，该零件尤其以主动或被动振动衰减和/或振动隔离的方式和/或利用振动清除而直立。框架可以包含进一步保持和/或引导功能。尤其，用于压缩空气的管线可以在框架的内部容纳在框架体积中。此外，电线和连接可以容纳在框架体积中。此外，用于上部结构的紧固元件和/或锚固点可以尤其以形状配合（formschl
ü
ssig）和/或材料接合（materialschl
ü
ssig）方式连接在框架中。
[0081]
在特别优选的实施方式中，可以在原型方法中产生框架，尤其填充阴模。在特别优选的实施方式中，在填充期间，框架可以包含芯体。
[0082]
在特别优选的实施方式中，框架可以包含平整度标准。在框架的特别优选的实施方式中，可以模制平整度标准，使得平整度标准可以被复制多次。
[0083]
根据本发明，测量值可以尤其彼此组合和/或彼此参考和/或相关，使得通过测量对准标记，可以得出关于与该对准标记有关的另一对准标记的位置的结论。
[0084]
根据本发明，测量值可以彼此相关，使得对准标志相对于彼此的相对位置分别作为值存在，这些值允许参考框架。
[0085]
在一种根据本发明的优选实施方式中，在沿着三个坐标轴通过入口期间尤其连续地测量基板保持器的位置，使得检测基板的实际导轨。在计算基板相对于彼此的对准位置时，将实际导轨作为校正因子纳入考虑。
[0086]
在根据本发明的另一优选实施方式中，在相对于参考、尤其第一基板上的第一对准标记和/或第二基板上的第二对准标记的点(或部位或测量点或视野) 处检测基板保持器的位置。
[0087]
在根据本发明的另一优选实施方式中，在相对于参考的恰好两个点处检测基板保持器的位置。
[0088]
在根据本发明的另一实施方式中，在相对于参考的恰好三个点处检测基板保持器的位置且因此确定基板保持器的位置和方位。
[0089]
针对一个点或两个点或三个点或任何多个点处的位置确定，优选地可以使用借助相机系统和安置在基板保持器上的模式的光学模式识别。尤其连续地在对准期间在实时系统中检测模式。
[0090]
在另一优选实施方式中，基板保持器的位置确定可以借助激光干涉仪进行。激光干涉测量借助干涉来实现极其准确的非接触长度测量。激光干涉仪允许通过测量位置改变(位移的测量)、倾斜角改变(角度测量)、平整度(位移和角度的测量)、正交性(角度测量)和动力学(在多光束干涉仪的情况下测量速度)来控制基板保持器的线性移动。
[0091]
尤其，倾斜角改变的测量允许检测滑块在线性导轨上的倾斜。直线度的测量允许检测或精确检测线性导轨上的滑轨的水平或垂直偏差。
[0092]
因此，可以确定子系统的相对移动(各个干涉仪至框架的固定以及测量对象，尤其基板保持器)。针对位移测量，例如可以使用双频激光方法。在此情况下，可以在直至1 m/s的最大行进速度的情况下 (通过多重反射的应用)实现直至5 nm、更优选地直至1 nm的测量分辨率。双频激光同样被用于角度测量。
[0093]
另一可能性通过使用多个平行安装的单频激光干涉仪而产生。此处，在基板保持器的多个部位处确定位移。在此情况下，可以实现直至0.1 nm的测量分辨率。可以从测量光束彼此的间隔和发生的位移的差异来确定角度改变。
[0094]
若使用具有三个测量光束的干涉仪(三光束干涉仪)，则在两个轴上确定基板保持器的角位置和其位移。在根据本发明的装置的一种优选实施方式中，使用三光束干涉仪。
[0095]
根据需要，可以利用自动准直望远镜进行用于基板保持器的位置确定的额外角度测量。
[0096]
若使用组合测量系统，则可以将绝对增量位移传感器的测量值与至少一个干涉仪的测量值相关且以相互补充的方式使用。因此，可以提高绝对定位的精度。
[0097]
所列出的测量方法同样可以被用于位置确定。
[0098]
根据本发明，也可以设想反转，尤其通过将检测单元安置在基板保持器上且将对准标记安置在框架上。
[0099]
为了可以在任意时间点、尤其持久地进行检测、分析和控制(和/或调节)，尤其连续地(和/或以时间离散方式以足够高的时钟频率数字地)为控制单元和/或调节单元供应测量值。
[0100]
例如，可以借助光学图像识别和/或模式识别来检测基板上的对准标志。尤其，同时可以检测相关的基板保持器的方位和/或对准状态以及所有相关的调节参数且存储在矩阵中并进一步处理。
[0101]
在装置的一种优选实施方式中，可以利用至少一个干涉仪光束、优选地利用至少两个干涉仪光束、在最佳情况下利用至少三个干涉仪光束来测量基板保持器的位置。同时，可以由增量编码器测量基板保持器的位置值。参考这些位置值且测量从给定位置开始的路径的增长。通过干涉仪的相对值与增量位移传感器的读数的组合，直至框架的位置值可以被参考为中性平面和/或中性位置。
[0102]
针对至少一个点处的x-y位置确定，在根据本发明的另一实施方式中，至少一个干涉仪可以与相应构成的(尤其单片的)的反射器一起使用，用于检测基板保持器的x-y位置和/或方位确定。为此，可以使用三个干涉仪光束。
[0103]
干涉仪光束的数目可以尤其等于反射器的反射面的数目。然而，根据本发明，也可设想，由多个干涉仪光束将延伸的反射面、尤其单片光学反射镜用作反射器。
[0104]
尤其由单片块形成的基板保持器优选地具有以下功能中的至少两个：
•ꢀ
借助真空(真空轨道、连接)的基板固定，
•ꢀ
用于借助机械和/或液压和/或压电和/或热电和/或电热操作元件使基板变形的形状补偿，优选地根据ep2656378b1、wo2014191033a1和wo2019057286a1的实施方式。
[0105]
•ꢀ
位置和/或方位确定(测量标准、反射面和/或棱镜(尤其用于干涉测量的反射器)、配准标志和/或配准标志场、平面地构成的用于平面的测量标准、体积标准(尤其位准))。
[0106]
•ꢀ
移动(导轨)。
[0107]
根据本发明的不仅仅被用于精细调整的移动装置尤其构成为机器人系统，优选地具有增量位移传感器。用于辅助移动的这些移动装置的精度与用于对准基板堆栈的精度解耦，使得以小于1 mm、优选地小于500微米、特别优选地小于150微米的低重复精度执行辅助
移动。
[0108]
根据本发明的用于(横向)对准(精细调整)的移动装置的控制和/或调节尤其基于利用其他测量构件检测到的x-y位置和/或对准方位来实行。这些移动装置的精度优选地小于200 nm，进一步优选地小于100 nm，特别优选地小于50 nm，完全特别优选地小于20 nm，进一步优选地小于10 nm，在理想情况下小于1 nm。
[0109]
具有两个测量入口的设备在根据本发明的另一实施方式中，检测单元(尤其连同其移动单元)集成在两个尤其以刚性的、抗扭的方式彼此连接的全封闭入口中。
[0110]
此处，该实施方式也尤其使用从光源至对准标志的自由光学路径来检测对准标志，类似于wo2014202106a1。
[0111]
装置具有两个入口，这两个入口彼此以大于基板直径的间隔刚性地彼此连接。类似于us6214692b1的实施方式(其在下文中被称为smartview aligner （对准器）(sva))，至少两个彼此相对放置的、具有共同焦平面的光学检测构件以可调整的方式布置在入口中。
[0112]
具有检测构件的第一封闭入口定位在行进路径的端部处，其在基板的边缘处一个接一个地检测对准标志。为此，将基板以相较于sva旋转90度的方式装载于基板保持器上，使得对准标志与线性移动件齐平地一个接一个布置。
[0113]
上基板保持器以及下基板保持器分别从基板的覆盖位置继续进行直至到达检测构件且暴露具有对准标志的边缘。
[0114]
第二封闭入口实现横越相应的基板保持器、如装载或卸载移动。
[0115]
此处，基板同样在唯一的对准轴上移动，以便将对准标志带至第二入口的光学路径中。
[0116]
基板相对于彼此的对准尤其间接地根据位于基板的接触面上的对准标记进行。相对基板的相对侧上的对准标记尤其彼此互补。
[0117]
在此实施方式中，也可提高对准精度，其方式是额外进行或者安置在待对准基板之一上或者安置在基板保持器上的额外(尤其第三)对准标记的检测。
[0118]
额外对准标记优选地安置在基板保持器上。基板保持器的位置检测提供用于待对准基板的方位和对准状态的校正值。通过额外测量值和与其他检测单元的测量值中的至少一个测量值的相关性，对准精度被提高。通过接触面之间的接合界面中的所测量的对准标记中的至少一个与基板保持器上的在基板的对准期间也可见的对准标记的相关性，在对准期间实现对准标志的直接可观察性和因此实时测量和调节。在一种优选实施方式中，额外测量系统是激光干涉仪，优选地三光束干涉仪。
[0119]
在一种优选实施方式中，将其他检测构件尤其以固定至框架的方式安置在入口中。上面针对装置所阐述的内容适用于该实施方式。
[0120]
具有单入口和柱的设备根据本发明的另一装置具有单入口(如先前描述的)和柱(c形设计)，其尤其以大于基板直径的间隔刚性地彼此连接。
[0121]
此处，检测单元集成在入口中和柱中。此处，该实施方式也尤其使用从光源至对准标志的自由光学路径来检测对准标志，类似于wo2014202106a1。
[0122]
具有检测构件的柱优选地定位于行进路径的端部处，其在基板的边缘处一个接一
个地检测对准标志。为此，将基板以相较于sva旋转90度的方式装载于基板保持器上，使得对准标志与线性移动件齐平地一个接一个布置。
[0123]
上基板保持器以及下基板保持器分别从基板的覆盖位置继续行进直至到达检测构件且暴露具有对准标志的边缘。
[0124]
如先前描述的，单入口实现横越相应的基板保持器，如装载或卸载移动。
[0125]
此处，基板同样在唯一的对准轴上移动，以便将对准标志带至单入口和柱的光学路径中。
[0126]
基板相对于彼此的对准尤其间接地根据位于基板的接触面上的对准标记进行。相对基板的相对侧上的对准标记尤其彼此互补。
[0127]
在此实施方式中，也可以提高对准精度，其方式是额外进行或者安置在待对准基板之一上或者安置在基板保持器上的额外(尤其第三)对准标记的检测。
[0128]
额外对准标记优选地安置在基板保持器上。基板保持器的位置检测提供用于待对准基板的方位和对准状态的校正值。通过额外测量值和与其他检测单元的测量值中的至少一个测量值的相关性，对准精度被提高。通过接触面之间的接合界面中的所测量的对准标记中的至少一个与基板保持器上的在基板的对准期间也可见的对准标记的相关性，在对准期间实现对准标志的直接可观察性和因此实时测量和调节。在一种优选实施方式中，额外测量系统是激光干涉仪，优选地三光束干涉仪。
[0129]
在一种优选实施方式中，将其他检测构件以尤其固定至框架的方式安置在单入口中和柱中。上面针对装置所阐述的内容适用于该实施方式。
[0130]
方法借助装置的单入口实施方式来解释根据本发明的方法的示例性实施方式。在此情况下，一个接一个地装载基板且与基板保持器一起以扫描移动被推动通过入口，使得以相关方式检测基板保持器上的各个对准标志和参考的位置。
[0131]
根据基板的对准标志实行图像至图像对准。额外检查对准精度，其方式是基板保持器的位置通过额外对准标志而给出关于基板的位置的说明且通过校正因子将基板保持器的实际位置纳入考虑。
[0132]
根据本发明的方法的一种重复的实施方式包括以下尤其至少部分地顺序的和/或同时的步骤，尤其以下流程：1)将第一/下基板以支承面装载到第一/下基板保持器上，其中对准标志平行于直线导轨、即与基板的线性移动件齐平地布置在相对侧(接触侧)上。
[0133]
2)尤其在使用用于粗略调整的移动装置的情况下将第一/下基板与基板保持器一起移动到单入口处的光学系统的第一/上检测单元的检测位置的视野中。
[0134]
3)尤其，尤其借助三光束干涉仪在整个行进路径期间测量第一/下基板保持器。位移和角度尤其给出关于基板保持器在线性导轨上的位置和倾斜的信息。
[0135]
4)尤其借助模式识别来检测第一对准标记。
[0136]
5)同时，尤其通过与第一检测单元的同步，通过根据本发明的额外测量系统(具有第三检测单元)来检测第一基板保持器的x-y位置和/或对准位置。位移和角度尤其给出关于基板保持器在线性导轨上的方位(位置)和角度(倾斜，即俯仰和横摆角)的信息。
[0137]
6)尤其借助模式识别来检测第二对准标记。
[0138]
7)同时，尤其通过与第一检测单元的同步，通过根据本发明的额外测量系统、尤其三光束干涉仪(具有第三检测单元)来检测第一基板保持器的x-y位置以及俯仰和横摆角和/或对准位置。
[0139]
8)将第一/下基板保持器移出光学系统的视野(用于检测的光路)。
[0140]
9)将第二/上基板装载到第二/上基板保持器上。此方法步骤可以已经在先前方法步骤之一之前实行。
[0141]
10)第二/上基板保持器与第二/上基板一起行进至单入口进入光学系统的视野中。
[0142]
11)尤其，借助三光束干涉仪在整个行进路径期间测量第二/上基板保持器。位移和角度尤其给出关于基板保持器在线性导轨上的位置和倾斜的信息。
[0143]
12)光学系统的第二/下检测单元寻找和检测第二/上基板上的对准标记。在此情况下，光学系统不机械地移动，然而可以设想聚焦的校正。然而，优选地，不实行聚焦移动。
[0144]
13)同时，尤其通过与第二检测单元的同步，通过根据本发明的额外测量系统、尤其三光束干涉仪(具有第三检测单元)来检测第二基板保持器的x-y位置以及俯仰和横摆角和/或对准位置。
[0145]
14)尤其借助模式识别来检测第二对准标记。
[0146]
15)同时，尤其通过与第二检测单元的同步，通过根据本发明的额外测量系统、尤其三光束干涉仪(具有第三检测单元)来检测第二基板保持器的x-y位置以及俯仰和横摆角和/或对准位置。
[0147]
16)调节和分析计算机确定对准误差，其中参考公开文献us6214692b1 (smart view)和us9418882b2 (enhanced smart view)中的公开内容。尤其从对准误差创建对准误差向量。随后，尤其计算至少一个校正向量。校正向量可以是与对准误差向量平行且相反的向量，使得对准误差向量与校正向量的总和是零。在特殊情况下，在计算校正向量时可以将其他参数纳入考虑，使得结果不同于零。
[0148]
17)借助精细定位的对准18)对位移/扭转进行校正19)可选的方法步骤：接合基板。接合也可以是预接合或临时接合。利用预接合表示接合连接，其在进行了预接合步骤之后还允许分离基板(尤其晶圆)，而没有对表面的不可修复的损害。
[0149]
20)从装置卸载基板堆栈。
[0150]
基板的装载顺序可以是任意的。一些方法步骤、如基板的装载可以同时实行。额外测量系统可以检测上基板保持器和下基板保持器和/或上基板和下基板的位置和/或方位。
[0151]
也可以在真空中运行根据本发明的装置。因此，可以在真空集群或高真空集群中使用该装置。
[0152]
该装置的功能和/或材料部分的所有技术上可能的组合和/或置换以及倍增和方法步骤或方法中的至少一个的随之出现的改变被视为公开的。
[0153]
只要当前和/或在紧接着的附图说明中公开了装置特征，这些装置特征也应被视为被公开为方法特征，且反之亦然。
附图说明
[0154]
本发明的其他的优点、特征和细节由优选实施例的以下描述以及根据附图得出。所述附图：在图1中展示根据本发明的装置的第一实施方式的示意性横截面图，在图2中展示根据本发明的装置的第二实施方式的示意性横截面图，在图3a中展示在第一方法步骤中根据图1的第一实施方式的示意性放大横截面图，在图3b中展示在第二方法步骤中根据图1的第一实施方式的示意性放大横截面图，以及在图4中展示根据本发明的装置的示例性实施方式的示意性透视图。
[0155]
在所述图中，利用相同附图标记来标记相同组件或具有相同功能的组件。
具体实施方式
[0156]
在图1至图4中，各个组件的比率是不成比例的。在图1至图4中根据本发明的特征未按正确比例示出，以便能够更好地示出各个特征的功能。
[0157]
图1和图2展示根据本发明的装置1、1’的两种实施方式的示意性横截面。这些装置具有：
‑ꢀ
第一/上检测单元2、2’，其呈第一/上光学器件的形式，
‑ꢀ
第二/下检测单元3、3’，其呈第二/下光学器件的形式，
‑ꢀ
第三检测单元4，其呈三光束干涉仪的形式，
‑ꢀ
第一/下支座，其呈基板保持器6的形式或具有下基板保持器6，
‑ꢀ
第二/上支座，其呈基板保持器5的形式或具有上基板保持器5，
‑ꢀ
第一/下移动装置8，其用于第一/下基板保持器6，
‑ꢀ
第二/上移动装置7，其用于第二/上基板保持器5，以及
‑ꢀ
第三移动装置9，其用于第三检测单元4。
[0158]
根据图1和图2的装置1、1’能够将在图1和图2中未示出的基板14 (第一/下基板)和20 (第二/上基板) 和/或基板堆栈相对于彼此对准且彼此连接。该连接也可以是临时连接(所谓的预接合)。
[0159]
图1至图4中的以下所描述的功能组件的可能的移动/自由度部分地也象征性地示出为箭头。针对根据图1和图2的第一/下支座6以及第二/上支座5，至少一个y平移单元、一个x平移单元、一个z平移单元以及一个φ旋转单元是可能的。
[0160]
φ旋转单元允许所装载的基板14、20围绕其表面法线旋转。所有所使用的旋转单元的可再现定位能力的分辨率尤其好于1
°
，优选地好于0.1
°
，更优选地好于0.01
°
，最优选地好于0.001
°
，最优选地好于0.0001
°
。
[0161]
所有所使用的平移单元的可再现定位能力的分辨率尤其好于100
ꢀµ
m，优选地好于10
ꢀµ
m，更优选地好于1 μm，最优选地好于100 nm，最优选地好于1 nm。
[0162]
在根据图1的实施方式中，第一和第二检测单元2、3不能在所有三个空间方向x、y和z上移动。检测单元2、3静态地安装于测量入口21中。
[0163]
在根据图2的实施方式中，第一和第二检测单元2’、3’能够在所有三个空间方向上
移动。在另一实施方式中，也可安装旋转单元，这允许光轴围绕三个相互正交的轴旋转。
[0164]
根据图1和图2的第一和第二检测单元2、2’、3、3’可以在相反方向上检测焦平面10。根据图4的共同焦点10p构成第一基板和第二基板的理想化接合平面的一点。
[0165]
根据图1和图2的装置1、1’提供构件，该构件用于尤其通过借助额外的第三测量装置4的长度测量、俯仰角测量和横摆角测量以及直线度测量来额外检测基板的移动，所述测量相对于至少一个固定的、尤其静止的参考点或参考且因此实现校正因子的确定。
[0166]
在一种优选实施方式中，利用三光束干涉仪或校准激光干涉仪4实行基板14、20的移动的额外检测。测量系统4使用新颖的额外光学路径。为此，在一种优选实施方式中，优选地将额外(尤其第三)对准标记12安置在基板保持器5、6上。利用干涉仪4，根据图3a和图3b实行同时的长度测量以及俯仰和横摆角检测17。
[0167]
在另一优选实施方式中，额外第三测量装置4 、尤其激光干涉仪是静止的或固定至框架的（gestellfest）。
[0168]
在装置的另一优选实施方式中，可以利用固定至框架的至少一个激光干涉仪，优选地利用固定至框架的两个激光干涉仪测量基板保持器和/或基板的位置。
[0169]
基板保持器5、6的位置检测提供用于待对准基板14、20的方位和对准状态的校正值。通过额外测量值和与其他检测单元2、2’、3、3’的测量值中的至少一个测量值的相关性，对准精度被提高。通过接触面之间的接合界面中的根据图3a和图3b的所测量的对准标记15、16中的至少一个与基板保持器5、6上的在基板的对准期间也可见的对准标记12的相关性，在对准期间实现对准标志12的直接可观察性和因此实时测量和调节。在根据图3a的根据本发明的第一过程步骤中，第一/下基板保持器6或第一/下移动装置8沿着用于第一/下移动装置的直线导轨18b (根据图4)行进，直至第一/下基板的左或第一对准标记15位于上测量装置2或光学器件的观察区域中。
[0170]
平移单元和旋转单元的移动是可检测的且将检测数据传输给中央控制单元以用于进一步处理和控制。
[0171]
在根据图3b的根据本发明的第二过程步骤中，第一/下基板保持器6或第一/下移动装置8进一步沿着用于第一/下移动装置8的直线导轨18b (参见图4)行进，直至第一/下基板14的右或第二对准标记16位于上测量装置2、即上光学器件的观察区域中。
[0172]
在根据本发明的未示出的第三过程步骤中，第二/上基板保持器5或第二/上移动装置7沿着用于第二/上移动装置7的直线导轨18a (根据图4)行进，直至第二/上基板20的左或第一对准标记位于下测量装置3、即下光学器件的观察区域中。
[0173]
在根据本发明的未示出的第四过程步骤中，第二/上基板保持器5或第二/上移动装置7进一步沿着用于第二/上移动装置7的直线导轨18a (参见图4)行进，直至第二/上基板20的右或第二对准标记位于下测量装置3 、即下光学器件的观察区域中。
[0174]
根据本发明，光学器件尤其被控制，使得可以通过光学器件识别、检测和存储对准标记相对于光轴的位置。
[0175]
封闭设计中的装置的布局提高装置1、1’的刚性且降低振动能力。尽可能精确地将基板保持器5、6的引导方向相对于彼此对准是足够的。在此情况下，三光束干涉仪4允许通过测量位置改变(位移的测量)、倾斜角改变(角度测量)、平整度(位移和角度的测量)、正交性(角度测量)和动力学(速度的测量)来控制基板保持器5、6的线性移动。
[0176]
尤其，倾斜角改变的测量允许检测滑块在线性导轨上的倾斜。直线度的测量允许检测或精确检测滑轨在线性导轨上的水平或垂直偏差。从基板14、20的对准标记15、16的位置和/或方位值以及基板保持器5、6上的对准标记12导出或计算出位置特征。
[0177]
接触面之间的接合界面中的根据图3a和图3b的所测量的对准标记15、16中的至少一个与基板保持器5、6上的在基板14、20的对准期间也可见的对准标记12的相关性实现在对准期间位置数据的连续的直接相关性和因此实时测量和调节。相较于常规设备，位置校正提高精度。
[0178]
用于(横向)对准(精密调整)的移动装置的控制和/或调节尤其基于利用其他测量构件所检测到的x-y位置和/或对准方位来实行。这些移动装置的精度优选地小于200 nm，优选地小于100 nm，尤其优选地小于50 nm，完全特别优选地小于20 nm，进一步优选地小于10 nm，在理想情况下小于1 nm。
[0179]
在确定所有必要参数之后，在最后一个步骤中进行两个基板14、20的对准。
[0180]
基板14、20相对于彼此的对准尤其间接地根据位于基板14、20的接触面上的对准标记15、16进行。
[0181]
借助移动装置7、8使基板保持器5、6以位置且尤其方位被调节的形式移动，直至从检测单元(光学器件)的位置值和基板保持器5、6 (三光束干涉仪)的当前位置和/或方位所计算出的对准误差被最小化或在理想情况下被消除。替代地，定义中止准则。
[0182]
此后，最终，两个基板14、20的接触优选地仅通过基板支座5、6的(多个) z平移单元的移动进行。
[0183]
在一个特别的实施方式中，装置1、1’可以位于真空腔或外壳中。装置1、1’也可是集群的部分。
[0184]
图4展示实施方式4的示意性透视图。第一/上检测单元2以及根据需要其他上检测单元和/或传感器和/或测量单元2w集成在单入口21中。类似地，第二/下检测单元3以及根据需要其他下检测单元和/或传感器和/或测量单元3w也集成在单入口21或框架11中。
[0185]
此外，根据图4的实施方式具有：
‑ꢀ
分别用于下和上基板保持器5、6的多个(固定至框架的)检测单元4 ，其呈三光束干涉仪的形式，
‑ꢀ
第一/下支座，其呈基板保持器6的形式或具有下基板保持器6，用于将第一/下基板14(尤其静态固定地)安装在背离待接合侧的安装侧上，
‑ꢀ
第二/上支座，其呈基板保持器5的形式或具有上基板保持器5，用于将第二/上基板20(尤其静态固定地)安装在背离待接合侧的安装侧上，
‑ꢀ
第一/下移动装置8，其用于第一/下基板保持器6，
‑ꢀ
第二/上移动装置7，其用于第二/上基板保持器5。
[0186]
图4展示具有固定轴承22和引导元件23的用于第二/上移动装置的直线导轨18a以及用于第一/下移动装置的直线导轨18b。
[0187]
第一/下基板14的第一对准标记15以及第二对准标记16基本上平行于基板14、20的主装载方向对准。此方向由直线导轨18a和18b给定。用于围绕所有三个空间轴的校正移动的精密驱动器19可用于基板14、20。
[0188]
附图标记列表
1、1
’ꢀ
装置2、2
’ꢀ
第一/上检测单元2w
ꢀꢀꢀꢀꢀ
其他上检测单元和/或传感器和/或测量单元3、3
’ꢀ
第二/下检测单元3w
ꢀꢀꢀꢀꢀ
其他下检测单元和/或传感器和/或测量单元4
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
第三检测单元5
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
第二/上基板保持器6
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
第一/下基板保持器7
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
用于基板保持器的第二/上移动装置8
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
用于基板保持器的第一/下移动装置9
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
用于第三检测单元的第三移动装置10
ꢀꢀꢀꢀꢀ
理论焦平面10p
ꢀꢀꢀꢀ
理论焦点11
ꢀꢀꢀꢀꢀ
框架12
ꢀꢀꢀꢀꢀ
第三对准标记14
ꢀꢀꢀꢀꢀ
第一/下基板15
ꢀꢀꢀꢀꢀ
第一/下基板的第一对准标记16
ꢀꢀꢀꢀꢀ
第一/下基板的第二对准标记17
ꢀꢀꢀꢀꢀ
通过三光束干涉仪4的同时的长度测量以及俯仰和横摆角检测18a
ꢀꢀꢀꢀ
用于第二/上移动装置的直线导轨18b
ꢀꢀꢀꢀ
用于第一/下移动装置的直线导轨19
ꢀꢀꢀꢀꢀ
精密驱动器20
ꢀꢀꢀꢀꢀ
第二/上基板21
ꢀꢀꢀꢀꢀ
单入口22
ꢀꢀꢀꢀꢀ
固定轴承23
ꢀꢀꢀꢀꢀ
引导元件