1.本发明涉及辐射定标技术领域，尤其涉及一种面源黑体装置及其制造方法。
背景技术：
2.随着国际环境的变化，航天技术的迅猛发展，基于红外成像技术的星载和机载红外遥感、遥测系统等设备的使用越来越广泛，精度要求越来越高，对口径要求越来越高。面源黑体是指能够产生一定温度下标准辐射亮度的平面辐射源。为保证红外成像系统的温度测量准确性并对其本身的均匀性进行修正，需要使用面源黑体对设备进行标校。为了解决红外成像系统的地面辐射标定，使用的面源黑体口径也随之越来越大。当口径大于2m后用于辐射的原材料坯料价格急剧上涨，且加工风险急剧增大。
技术实现要素：
3.本发明提供了一种面源黑体装置及其制造方法，已解决大口径面源黑体造价成本高，加工风险大的问题。
4.一种面源黑体装置，包括面源黑体，所述面源黑体包括呈矩阵排列的多个黑体单元，相邻的黑体单元之间通过凹凸结构进行拼接。
5.在一些实施例中，所述面源黑体装置还包括支撑框架和隔热层，所述隔热层设置于所述面源黑体与所述支撑框架之间。
6.在一些实施例中，所述黑体单元边缘面对相邻黑体单元的一面呈凸起或者凹槽结构。
7.在一些实施例中，所述凸起或者凹槽沿所述黑体单元的长度方向的截面为梯形、三角形或者半圆形。
8.在一些实施例中，所述凸起的高度为2.0mm至3.0mm；
9.所述凹槽的深度为2.0mm至3.0mm。
10.一种面源黑体装置的制造方法，包括：
11.提供多个带有凹凸结构的黑体单元；
12.将所述多个黑体单元呈矩阵排列并通过凹凸结构进行拼接，形成所述面源黑体。
13.在一些实施例中，所述方法还包括：
14.提供支撑框架；
15.在所述支撑框架上设置隔热层；
16.将所述面源黑体设置于所述隔热层上。
17.本发明提供的面源黑体装置及其制造方法，至少包括如下有益效果：
18.(1)解决现有技术中面源黑体口径较大导致原材料获取难、加工、安装难度大的问题；
19.(2)黑体单元采用凹凸结构进行拼接，解决了拼缝辐亮度不一致的问题。
附图说明
20.图1为本发明提供的面源黑体装置中面源黑体一种实施例的结构示意图。
21.图2为本发明提供的面源黑体装置中面源黑体一种实施例的拼接示意图。
22.图3为本发明提供的面源黑体装置一种实施例的拼接示意图。
23.图4为本发明提供的面源黑体装置制造方法一种实施例的结构示意图。
具体实施方式
24.为了更好的理解上述技术方案，下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案做详细的说明。
25.参考图1和图2，在一些实施例中，提供一种面源黑体装置，包括面源黑体1，面源黑体1包括呈矩阵排列的多个黑体单元11，相邻的黑体单元11之间通过凹凸结构进行拼接。
26.具体地，参考图2，黑体单元11面向相邻黑体单元的一面设置有凸起12或者凹槽13，拼接时，将黑体单元11的凸起与相邻黑体单元的凹槽进行对位之后再进行拼接。
27.在一些实施例中，参考图3，所述面源黑体装置还包括支撑框架2和隔热层3，隔热层3设置于面源黑体1与支撑框架2之间。
28.在一些实施例中，黑体单元11的凸起12或者凹槽13沿黑体单元11的长度方向的截面为梯形、三角形或者半圆形。
29.在一些实施例中，所述凸起的高度为2.0mm至3.0mm；
30.所述凹槽的深度为2.0mm至3.0mm。
31.参考图4，在一些实施例中，还提供一种面源黑体装置的制造方法，包括：
32.s1、提供多个带有凹凸结构的黑体单元；
33.s2、将所述多个黑体单元呈矩阵排列并通过凹凸结构进行拼接，形成所述面源黑体。
34.在一些实施例中，所述方法还包括：
35.s3、提供支撑框架；
36.s4、在所述支撑框架上设置隔热层；
37.s5、将所述面源黑体设置于所述隔热层上。
38.上述实施例提供的面源黑体装置及其制造方法，至少包括如下有益效果：
39.(1)解决现有技术中面源黑体口径较大导致原材料获取难、加工、安装难度大的问题；
40.(2)黑体单元采用凹凸结构进行拼接，解决了拼缝辐亮度不一致的问题。
41.尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
技术特征：
1.一种面源黑体装置，其特征在于，包括面源黑体，所述面源黑体包括呈矩阵排列的多个黑体单元，相邻的黑体单元之间通过凹凸结构进行拼接。2.根据权利要求1所述的面源黑体装置，其特征在于，所述面源黑体装置还包括支撑框架和隔热层，所述隔热层设置于所述面源黑体与所述支撑框架之间。3.根据权利要求1所述的面源黑体装置，其特征在于，所述黑体单元边缘面对相邻黑体单元的一面呈凸起或者凹槽结构。4.根据权利要求3所述的面源黑体装置，其特征在于，所述凸起或者凹槽沿所述黑体单元的长度方向的截面为梯形、三角形或者半圆形。5.根据权利要求4所述的面源黑体装置，其特征在于，所述凸起的高度为2.0mm至3.0mm；所述凹槽的深度为2.0mm至3.0mm。6.一种面源黑体装置的制造方法，其特征在于，包括：提供多个带有凹凸结构的黑体单元；将所述多个黑体单元呈矩阵排列并通过凹凸结构进行拼接，形成所述面源黑体。7.根据权利要求6所述的面源黑体装置的制造方法，其特征在于，所述方法还包括：提供支撑框架；在所述支撑框架上设置隔热层；将所述面源黑体设置于所述隔热层上。
技术总结
本发明公开了一种面源黑体装置及其制造方法，装置包括面源黑体，所述面源黑体包括呈矩阵排列的多个黑体单元，相邻的黑体单元之间通过凹凸结构进行拼接；解决现有技术中面源黑体口径较大导致原材料获取难、加工、安装难度大的问题；黑体单元采用凹凸结构进行拼接，解决了拼缝辐亮度不一致的问题。决了拼缝辐亮度不一致的问题。决了拼缝辐亮度不一致的问题。
技术研发人员：曹清政 宋春晖 杨旺林 王莹莹 李建亮 王志 魏树弟
受保护的技术使用者：北京振兴计量测试研究所
技术研发日：2020.12.10
技术公布日：2022/6/28
再多了解一些
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