反射镜组件和包括其的光学组装件的制作方法

技术特征：
1.一种反射镜布置(30)，包括：基板(31)，其包括正面(31a)和背面(31b)，所述正面(31a)具有用于反射辐射(5、108)的反射镜面(32a)并且所述背面(31b)背对所述正面(31a)；以及在所述背面(31b)上设置用于生成所述反射镜面(32a)的变形的至少一个致动器(27)，其中吸附水蒸汽(36)的材料、特别是有机材料(33、42)形成在所述基板(31)的背面(31b)上，所述吸附水蒸汽(36)的材料优选形成用于将所述至少一个致动器(27)固定在所述基板(31)的背面(31b)上的粘合层(33)，所述粘合层(33)特别延伸到所述致动器(27)之间的空隙(35)中，其特征在于，所述吸附水蒸汽(36)的材料(33、42)的表面(33a、42a)、特别是所述粘合层(33)的表面(33a)至少部分地、特别是完全地由形成水蒸汽扩散阻挡件的涂层(37)覆盖。2.根据权利要求1所述的反射镜布置，其中，所述涂层(37)包括具有水蒸汽透过率(tw1)的至少一个扩散阻挡层(38)，所述水蒸汽透过率(tw1)低于由所述吸附水蒸汽(36)的材料(33、42)构成的、具有相同厚度的层的水蒸汽透过率(tw2)。3.根据权利要求1或2所述的反射镜布置，其中，所述扩散阻挡层(38)包括选自含有以下的组的至少一种材料：al2o3、sio2、ta2o5、tio2、hfo2、zro2、nb2o5、la2o3、al、ta、ti、ru、si
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、聚对二甲苯、特别是卤代聚对二甲苯、含氟聚合物、特别是聚四氟乙烯以及它们的混合物。4.根据前述权利要求中任一项所述的反射镜布置，其中，所述涂层(37)的表面(38a)和/或所述扩散阻挡层(38)的材料是疏水的。5.根据权利要求1所述的光学布置，特别是如前述权利要求中任一项所述的光学布置，其特征在于，所述粘合层(33)的表面(33a)，特别是在所述致动器(27)之间的空隙(35)中的表面，至少部分地、特别是完全地被填充材料(39)覆盖，所述填充材料(39)的弹性模量(e1)小于所述粘合层(33)的弹性模量(e2)。6.根据权利要求5所述的反射镜布置，其中，所述填充材料(39)的弹性模量(e1)小于1500mpa。7.根据权利要求5或6所述的反射镜布置，其中，所述填充材料(39)是疏水的。8.根据权利要求4至6中任一项所述的反射镜布置，其中，所述填充材料(39)选自包括以下的组：橡胶、液态橡胶、蜡、油脂或液体，特别是油。9.根据权利要求1所述的，特别地根据前述权利要求中任一项所述的反射镜布置，其中，所述吸附水蒸汽(36)的材料(33、42)的表面(33a、42a)，特别是在致动器(27)之间的空隙(35)中，至少部分地、特别完全地由柔性材料覆盖，特别地由膜(40)覆盖。10.根据权利要求9所述的反射镜布置，其中，所述膜(40)突出到相应空隙(35)中并且覆盖所述粘合层(33)的优选的穴形或凹槽形凹陷部(41)。11.根据权利要求1所述的，特别地根据前述权利要求中任一项所述的反射镜布置，其中，所述致动器(27)之间的所述空隙(41)中的粘合层(33)没有完全地覆盖所述基板(31)的背面(31a)。12.根据权利要求1的所述的，特别地根据前述权利要求中任一项所述的反射镜布置，
其中，所述空隙(35)中的所述粘合层(33)在所述致动器(27)之上突出。13.根据前述权利要求中任一项所述的反射镜布置，其中，所述致动器(27)被配置为压电致动器或电致伸缩致动器。14.一种光学布置，特别是euv光刻设备(1)或duv光刻设备(100)，包括：根据前述权利要求中任一项所述的至少一个反射镜布置(30)。

技术总结
本发明涉及反射镜组件(30)，包括基板(31)，该基板包括正面(31a)和背面(31b)，正面(31a)具有用于反射辐射(5)的反射面(32a)并且背面(31b)背对正面(31a)，以及在背面(31b)上存在用于产生反射面(32a)的变形的至少一个致动器(27)，其中吸收水蒸汽(36)的材料，特别是有机材料(33、42)形成在基板(31)的背面(31b)上，并且其中吸收水蒸汽(36)的材料优选形成用于将至少一个致动器(27)固定在基板(31)的背面(31b)的粘合层(33)，所述粘合层(33)特别延伸到致动器(27)之间的空隙(35)中。吸收水蒸汽(36)的材料(33、42)的表面(33a、42a)，特别是粘合层(33)的表面(33a)，至少部分地、特别是完全地由形成水蒸汽扩散阻挡件的涂层(37)来覆盖。本发明还涉及光学组装件，特别是EUV光刻装置或DUV光刻装置，其包括至少一个这样的反射镜组件(30)。组件(30)。组件(30)。


技术研发人员：A.帕齐迪斯 K.希尔德 T.波拉克
受保护的技术使用者：卡尔蔡司SMT有限责任公司
技术研发日：2020.07.14
技术公布日：2022/6/10