显示装置的制作方法

显示装置
1.相关申请的交叉引用
2.本技术要求享有于2020年12月8日提交的韩国专利申请no.10-2020-0170133的优先权和利益，其为了所有目的由此通过引用并入，相当于在本文中完整阐述。
技术领域
3.本发明的实施方案一般地涉及一种显示装置，并且更具体地，涉及一种包括抗反射构件的显示装置。


背景技术：

4.正在使用各种类型的显示装置，以便提供图像信息。该显示装置的外部需要配备有高表面硬度和抗冲击性，以保护显示装置免受外部环境影响并确保重复使用后的可靠性。
5.此外，将显示装置暴露于诸如各种类型的照明和自然光的外部光可能由于反射光导致显示装置不能清楚地传送图像给用户，或者导致用户感到疲劳。为此，显示装置需要抗反射功能。
6.在该背景部分公开的上述信息仅仅是用于理解发明构思的背景，并因此其可以含有不构成现有技术的信息。


技术实现要素：

7.根据本发明的例举性实施方式构造的显示装置能够提供表现出令人满意的反射率的显示装置。
8.本发明构思的附加特征将在以下描述中阐述，并且部分将从描述中变得明显，或者可以通过实践本发明构思而获知。
9.根据本发明的一个方面，显示装置包括：发光元件层；颜色控制层，其设置于发光元件层上并包括至少一个量子点；设置于颜色控制层上的滤色器层；和设置于滤色器层上的抗反射构件，抗反射构件包括：设置于滤色器层上的第一涂层；设置于第一涂层上的第二涂层；以及设置于第一涂层和第二涂层之间的无机膜，其中第二涂层的厚度是无机膜的约0.6倍至约2.0倍，并且第一涂层的厚度大于第二涂层和无机膜的厚度。
10.根据本发明的另一个方面，显示装置包括至少一个显示面板，其中至少一个显示面板包括:发光元件层；设置于发光元件层上的封装层；颜色控制层，其直接设置在封装层上并包括至少一个量子点；设置于颜色控制层上的滤色器层；和设置于滤色器层上的抗反射构件，抗反射构件包括：设置于滤色器层上的第一涂层；设置于第一涂层上的第二涂层；以及设置于第一涂层和第二涂层之间的无机膜，其中第二涂层的厚度是无机膜的约0.6倍至约2.0倍，并且第一涂层的厚度大于第二涂层和无机膜的厚度。
11.根据本发明的另一个方面，显示装置包括：发光元件层；颜色控制层，其设置于发光元件层上并包括至少一个量子点；设置于颜色控制层上的滤色器层；和设置于滤色器层
上的抗反射构件，其中抗反射构件包括：设置于滤色器层上的第一涂层；设置于第一涂层上的第二涂层；以及设置于第一涂层和第二涂层之间的无机膜，其中第一涂层和第二涂层各自彼此独立地包含如本文定义的第一至第四重复单元中的至少一个重复单元。
12.应当理解，以上一般描述和以下详细描述两者都是例举性的和解释性的，并且意欲提供权利要求中要求保护的本发明的进一步解释。
附图说明
13.包括附图以提供本发明的进一步理解并且结合到本说明书中和构成本说明书的一部分，附图阐述了本发明的例举性实施方案，并且与说明书一起用于解释发明构思。
14.图1是显示装置的实施方案的透视图。
15.图2是显示装置的另一个实施方案的透视图。
16.图3是示出沿着图1的线i-i'截取的部分的截面图。
17.图4是示出显示装置的一部分的实施方案的截面图。
18.图5是示出显示装置的一部分的另一个实施方案的截面图。
19.图6是示出沿着图1的线i-i'截取的显示装置的一部分的另一个实施方案的截面图。
20.图7是示出实施方案的反射率百分比相对于无机膜厚度的图示。
21.图8是示出实施方案的反射率百分比相对于无机膜折射率的图示。
22.图9是示出实施方案的反射率百分比相对于第二涂层厚度的图示。
23.图10是示出堆叠的子-无机膜和涂层的实施方案的反射率相对于波长的图示。
具体实施方式
24.在以下描述中，为了解释的目的，阐述了许多具体细节以便提供本发明各种例举性实施方案或实施方式的透彻理解。如本文所用，“实施方案”和“实施方式”是可互换的词汇，其是利用一个或多个本文公开的发明构思的装置或方法的非限制性实例。然而，显而易见的是，可以在没有这些具体细节的情况下或在一个或多个等同设置的情况下实施各种例举性的实施方案。在其他情形中，以方框图形式显示公知的结构和装置，以便避免不必要地模糊各种例举性实施方案。此外，各种例举性实施方案可以是不同的，但是不一定必须是排他性的。例如，一个例举性实施方案的具体形状、配置和特性可以在不背离发明构思的情况下在另一个例举性实施方案中使用或实施。
25.除非另外指出，否则阐述的例举性实施方案应当理解为提供了可以在实践中实施发明构思的一些方式的变化细节的例举性特征。因此，除非另外指出，否则各种实施方案的特征、组件、模块、层、膜、部分、面板、区域和/或方面等(以下单独或统称为“元件”)可以在不背离发明构思的情况下以其他方式组合、分开、互换和/或重排。
26.附图中的交叉影线和/或阴影的使用通常是提供来明确相邻元件之间的边界。因此，交叉影线或阴影的存在或不存在都没有传递或表示对于特定材料、材料性质、尺寸、比例、所示元件之间的共性和/或元件的任何其他特性、属性、性质等的任何偏好或要求，除非另有说明。此外，在附图中，元件的尺寸和相对尺寸可以为了清楚和/或描述的目的而被夸大。当例举性实施方案可以不同地实施时，可以与所述顺序不同来执行特定的处理顺序。例
如，两个连续描述的过程可以基本上同时执行或者以与所述顺序相反的顺序执行。此外，类似的附图标记表示相似的元件。
27.当诸如层的元件被称为在另一个元件或层“之上”、与另一个元件或层“连接”、或与另一个元件或层“偶联”时，其可以直接地在另一个元件或层“之上”、与其“连接”、或与其“偶联”，或者可以存在插入元件或插入层。然而，当元件或层称为“直接在另一个元件或层之上”、“直接与另一个元件或层连接”、或“直接与另一个元件或层偶联”时，不存在插入元件或插入层。为此，术语“连接”可以是指在存在或不存在插入元件的情况下的物理、电和/或流体连接。此外，dr1-轴、dr2-轴和dr3-轴不限于直角坐标系的三个轴，诸如x、y和z-轴，并且可以以更广泛的意义上进行解释。例如，dr1-轴、dr2-轴和dr3-轴可以彼此垂直，或者可以代表彼此不垂直的不同方向。为了本发明的目的，“x、y和z中的至少一个”和“选择x、y和z中的至少一个”可以解释为仅x、仅y、仅z、或x、y和z中两个或更多个的任何组合，诸如例如xyz、xyy、yz和zz。如本文所用，术语“和/或”包括一个或多个相关的列出项目的任何和所有组合。
28.尽管术语“第一”、“第二”等可以在本文中用于描述各种类型的元件，但是这些元件不应当被这些术语限制。这些术语用于将一个元件与另一个元件区别。因此，在不背离本发明的教导的情况下，以下讨论的第一元件可以被称为第二元件。
29.空间相对术语，诸如“下方”、“以下”、“下面”、“低于”、“以上”、“上方”、“上面”、“高于”、“侧面”(例如，如在“侧壁”中)等可以在本文中用于描述目的，并且因此描述如附图中所示的一个元件与另一个元件的关系。除了附图中描述的取向以外，空间相对术语意欲涵盖装置在使用、操作和/或制造中的不同取向。例如，如果附图中的装置被翻转，则被描述为在其他元件或特征“之下”或“下方”的元件于是定位在其他元件或特征“之上”。因此，例举性术语“下方”可以涵盖上方和下方取向两者。此外，装置可以以其他方式取向(例如，旋转90度或以其他取向)，并且因此本文使用的空间相对术语进行相应地解释。
30.本文所用的术语是为了描述具体实施方案的目的，而不意欲是限制性的。如本文所用，单数形式“一个”、“一种”和“所述”意欲也包括复数形式，除非上下文另有明确指示。此外，术语“包括”、“包含”、“含有”和/或“构成”当在本说明书中使用时，指明所述特征、整数、步骤、操作、元件、组件、组合和/或其组的存在，但是不排除存在或增加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件、组合和/或其组。还应当注意，如本文所用，术语“基本上”、“大约”和其他类似术语是用作近似术语，并且不是作为程度术语，并且因此用于说明测量、计算和/或提供的值的固有偏差，这是本领域普通技术人员将认识到的。
31.在本文中参考截面图和/或分解图来描述各种例举性实施方案，所述截面图和/或分解图是理想的例举性实施方案和/或中间结构的示意图。因此，作为例如制造技术和/或公差的结果，图示的形状的变化是可预期的。因此，本文公开的例举性实施方案不一定必须解释为限制为区域的特定的所示形状，而是包括由于例如制造导致的形状偏差。以这种方式，附图中所示的区域可以在本质上是示意性的，并且这些区域的形状可以不反映设备区域的实际形状，并因此不一定旨在是限制性的。
32.除非另外指出，否则本文所用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员通常理解的相同的含义。术语，诸如常用字典中定义的那些，应当理解为具有与它们在相关领域的背景中的含义相一致的含义，并且不应当以理想化或过于正
式的意义来解释，除非在本文中明确如此定义。
33.以下，将参考附图描述根据实施方案的显示装置。
34.图1是显示装置的实施方案的透视图。图2是显示装置的另一个实施方案的透视图。图3是示出沿着图1的线i-i'截取的一部分的截面图。图4是示出显示装置的一部分的实施方案的截面图。特别地，图4是更详细地显示图3的抗反射构件lpm的截面图。图5是示出显示装置的一部分的另一个实施方案的截面图。
35.显示装置dd可以是诸如电视机、监视器或户外广告牌的大尺寸电子设备。然而，这些仅作为实例呈现，并因此可以在不背离发明构思的情况下将显示装置dd用于其他电子设备。实施方案的显示装置dd可以包括发光元件层led(图3)、颜色控制层cl(图3)、滤色器层cf(图3)和抗反射构件lpm(图3)，其是顺序堆叠的。抗反射构件lpm(图4)可以包括顺序堆叠的第一涂层ca1、无机膜hr和第二涂层ca2。
36.显示装置dd的显示表面is可以对应于显示区域da和非显示区域nda。显示装置dd可以包括显示其中显示图像im的显示区域da和围绕显示区域da的非显示区域nda。其中显示图像im的显示区域da可以基本上平行于由第一方向轴dr1和与第一方向轴dr1交叉的第二方向轴dr2限定的平面。非显示区域nda可以是其中不显示图像im的区域。非显示区域nda可以在根据实施方案的显示装置dd中省略。
37.图2示出了根据发明构思的另一个实施方案的显示装置dd-a，并且与图1不同，图2示出了显示装置dd-a包括多个显示面板dp1和dp2。图1中的显示装置dd的描述可以等同地适用于图2中的显示装置dd-a。根据实施方案的显示装置dd-a可以是包括多个显示面板dp1和dp2的平铺显示器。
38.在显示装置dd-a中，多个显示面板dp1和dp2可以彼此相邻地设置于平面上。多个显示面板dp1和dp2的显示表面可以构成显示装置dd-a的显示表面is。在包括多个显示面板dp1和dp2的显示装置dd-a中，显示面板dp1和dp2各自可以显示单独的图像。在显示面板dp1和dp2中的每一个上显示的单独图像可以构成一个连接的图像im-a。一个连接的图像im-a可以通过显示装置dd-a显示给用户。
39.在根据实施方案的显示装置dd-a中，显示面板dp1和dp2之间的最小距离d0可以是约30μm或更小。根据以下将描述的实施方案的包括抗反射构件lpm(图2和3)的显示面板dp1和dp2之间的最小距离d0可以是约30μm或更小。最小距离d0是相邻的显示面板dp1和dp2之间的最小距离，并且可以是平面上的直线距离。作为实例，最小距离d0可以是一个显示面板dp1的一侧到另一个显示面板dp2的另一侧的最小直线距离。作为另一个实例，最小距离d0可以对应于显示面板dp1和dp2之间的容差。
40.图2示出了显示面板dp1和dp2之间的最小距离d0，但是最小距离d0可以接近零。使用显示装置dd-a的用户可能无法看到最小距离d0，并且在显示面板dp1和dp2上显示的图像im-a可以被视为是一体的。因此，根据实施方案的显示装置dd可以显示改善的显示质量。
41.在显示装置dd和dd-a中，显示面板dp1和dp2可以容纳在外壳hau中。外壳hau可以设置成覆盖显示面板dp1和dp2，使得上表面(其是显示面板dp1和dp2的显示表面)被暴露。外壳hau可以覆盖显示面板dp1和dp2的侧表面和底表面，并且暴露整个上表面。
42.另外，显示装置dd和dd-a可以具有在第三方向轴dr3的方向上具有预定厚度的三维形状，该方向是基本上垂直于第一方向轴dr1和与第一方向轴dr1交叉的第二方向轴dr2
限定的平面。各构件的上表面(或前表面)和下表面(或后表面)是相对于其中在显示区域da中显示图像的方向定义的。上表面和下表面可以关于第三方向轴dr3彼此相对，并且上表面和下表面各自的法线方向可以基本上平行于第三方向轴dr3。由第一至第三方向轴dr1、dr2和dr3指示的方向是相对概念，并且因此可以被改变为其他方向。以下，第一至第三方向对应于分别由第一至第三方向轴dr1、dr2和dr3指示的方向，并且被赋予相同的附图标记。
43.图3是对应于实施方案的显示面板dp的截面图。图4和图5是显示根据实施方案的显示装置dd的一部分的截面图。更具体地，图4和图5示出了根据实施方案的抗反射构件lpm和lpm-1。图5的抗反射构件lpm-1显示了另一个实施方案。
44.根据实施方案的显示装置dd可以包括至少一个显示面板dp。在实施方案中，可以提供两个或更多个显示面板dp。两个或更多个显示面板dp1和dp2可以彼此相邻地设置于平面上。显示面板dp1和dp2各自可以与图3的显示面板dp相同。图3中的显示面板dp的描述可以等同地适用于图2中所示的多个显示面板dp1和dp2。
45.在实施方案中，显示面板dp可以包括发光元件层led、设置于发光元件层led上的颜色控制层cl、设置于颜色控制层cl上的滤色器层cf、和设置于滤色器层cf上的抗反射构件lpm和lpm-1。抗反射构件lpm可以包括设置于滤色器层cf上的第一涂层ca1、设置于第一涂层ca1上的第二涂层ca2和设置于第一涂层ca1和第二涂层ca2之间的无机膜hr。第二涂层ca2的厚度t2可以是无机膜hr的厚度t3的约0.6倍至约2.0倍。另外，第一涂层ca1的厚度t1可以大于第二涂层ca2的厚度t2和无机膜hr的厚度t3。
46.发光元件层led可以设置于电路层dp-cl上。封装层tfe可以设置于发光元件层led上，并且颜色控制层cl可以设置于封装层tfe上。缓冲层可以另外设置于封装层tfe和颜色控制层cl之间。颜色控制层cl可以包括一个或多个量子点qd-g和/或qd-r。
47.参考附图3，显示面板dp可以包括基层bs1。基层bs1可以是聚合物基底、塑料基底、玻璃基底、石英基底等。基层bs1可以是透明绝缘基底。基层bs1可以是刚性的或柔性的。
48.电路层dp-cl可以设置于基层bs1上。电路层dp-cl可以包括多个晶体管。晶体管各自可以包括控制电极、输入电极和输出电极。例如，电路层dp-cl可以包括开关晶体管和用于驱动多个发光元件led-1、led-2和led-3的驱动晶体管。
49.发光元件层led可以设置于电路层dp-cl上。发光元件层led可以包括第一至第三发光元件led-1、led-2和led-3。第一至第三发光元件led-1、led-2和led-3各自可以包括顺序堆叠的第一电极el1-1、el1-2和el1-3，空穴传输区htr，发射层eml，电子传输区etr和第二电极el2。发光元件led-1、led-2和led-3各自可以包括多个发射层。发光元件led-1、led-2和led-3各自可以包括多个发射层。发光元件led-1、led-2和led-3中每一个可以是具有串联结构的发光元件，所述串联结构包括彼此面对的、设置于第一电极el1-1、el1-2和el1-3以及第二电极el2之间的多个发射层。
50.发射层eml可以产生蓝光。发光元件层led可以发射蓝光。发射层eml可以产生波长为约410纳米(nm)至约480nm的光。发射层eml可以包括有机材料或无机材料。例如，发射层eml可以包括量子点材料。另外，发射层eml可以包括主体和用于荧光的掺杂剂。备选地，发射层eml可以包括主体和用于磷光的掺杂剂。然而，该实例中的发射层eml中包括的材料不限于此。
51.像素限定膜pdl可以在发光元件层led中限定。例如，可以形成包括聚丙烯酸类树
脂或聚酰亚胺类树脂的像素限定膜pdl。备选地，像素限定膜pdl可以由无机材料形成。例如，可以形成包括氮化硅、氧化硅、氧氮化硅等的像素限定膜pdl。在发光元件层led中，发光元件led-1、led-2和led-3可以通过像素限定膜pdl分隔。
52.封装层tfe可以设置于发光元件层led上以密封发光元件层led。封装层tfe可以用于保护发光元件层led免受湿气和/或氧的影响，和保护发光元件层led免受外来物质诸如灰尘颗粒的影响。图2示出了封装层tfe包括一个有机层ol和一个无机层il，但是实施方案不限于此，并且封装层tfe可以具有其中有机层和无机层交替堆叠的结构。例如，封装层tfe可以具有其中无机层、有机层和无机层顺序堆叠的结构。
53.包括一个或多个量子点qd-g和/或qd-r的颜色控制层cl可以设置于封装层tfe上。颜色控制层cl可以包括第一至第三颜色控制单元cl-1、cl-2和cl-3。第一至第三颜色控制单元cl-1、cl-2和cl-3可以在第一方向轴dr1延伸的方向上间隔开。第一遮光单元bm1可以分别设置于第一至第三颜色控制单元cl-1、cl-2和cl-3之间。
54.第一至第三颜色控制单元cl-1、cl-2和cl-3中的至少一个可以包括量子点qd-g和qd-r。量子点qd-g和qd-r可以转换从发光元件层led发出的光的波长。第一颜色控制单元cl-1可以包括红色量子点qd-r并将蓝光转换为红光。第二颜色控制单元cl-2可以包括绿色量子点qd-g并将蓝光转换为绿光。第三颜色控制单元cl-3可以透射蓝光。第三颜色控制单元cl-3可以由透明树脂形成，或者还可以包括蓝色颜料或蓝色染料。
55.量子点qd-g和qd-r的核可以选自ii-vi族化合物，iii-vi族化合物，i-iii-vi族化合物，iii-v族化合物，iv-vi族化合物，iv族元素，iv族化合物及其组合。
56.ii-vi族化合物可以选自由以下组成的组中的二元化合物：cdse、cdte、cds、zns、znse、znte、zno、hgs、hgse、hgte、mgse、mgs和它们的混合物；选自选自由以下组成的组中的三元化合物：cdses、cdsete、cdste、znses、znsete、znste、hgses、hgsete、hgste、cdzns、cdznse、cdznte、cdhgs、cdhgse、cdhgse、hgzn、hgses、hgses、mgznse、mgzns和它们的混合物；和选自选自由以下组成的组中的四元化合物：hgzntes、cdznses、cdznsete、cdznste、cdhgses、cdhgsete、cdhgste、hgznses、hgznsete、hgznste和它们的混合物。
57.iii-vi族化合物可以包括二元化合物如in2s3和in2se3，三元化合物如ingas3和ingase3，或其任意组合。i、iii、和vi族的化合物可包括选自由agins、agins2、cuins、cuins2、aggas2、cugas2、cugao2、aggao2、agalo2、或其任何混合物组成的组的三元化合物，或四元化合物例如agingas2和cuingas2。
58.iii-v族化合物可以选自：二元化合物，其选自gan、gap、gaas、gasb、aln、alp、alas、alsb、inn、inp、inas、insb和它们的混合物；三元化合物，其选自ganp、ganas、gansb、gapas、gapsb、alnp、alnas、alnsb、alpas、alpsb、ingap、inalp、innp、innas、innsb、inpas、inpsb和它们的混合物；和四元化合物，其选自gaalnp、gaalnas、gaalnsb、gaalpas、gaalpsb、gainnp、gainnas、gainnsb、gainpas、gainpsb、inalnp、inalnas、inalnsb、inalpas、inalpsb和它们的混合物。iii-v族的化合物可以进一步包括ii族金属。例如，inznp等可以选择作为iii、ii和v族的化合物。
59.iv-vi族的化合物可以选自：二元化合物，其选自sns、snse、snte、pbs、pbse、pbte和它们的混合物；三元化合物，其选自snses、snsete、snste、pbses、pbsete、pbste、snpbs、snpbse、snpbte和它们的混合物；和四元化合物，其选自snpbsse、snpbsete、snpbste和它们
的混合物。iv族元素可以选自si、ge和它们的混合物。iv族化合物可以是选自sic、sige和它们的混合物的二元化合物。
60.在这种情况下，二元化合物、三元化合物或四元化合物可以以均匀的浓度分布存在于颗粒中，或者可以以部分不同的浓度分布存在于相同的颗粒中。此外，可能存在一个量子点围绕另一个量子点的核/壳结构。核和壳之间的界面可具有浓度梯度，其中壳中存在的元素的浓度朝向中心变低。
61.在一些实施方案中，量子点可具有核/壳结构，该核/壳结构包括具有纳米晶体的核和围绕核的壳，如上所述。量子点的壳可用作保护层以防止核的化学变性以保持半导体特性，和/或可用作充电层以赋予量子点以电泳特性。壳可以是单层或多层。核和壳之间的界面可具有浓度梯度，其中壳中存在的元素的浓度朝向中心变低。量子点的壳的例子可以是金属、非金属氧化物、半导体化合物或它们的组合。
62.例如，金属或非金属氧化物可以是二元化合物，诸如sio2、al2o3、tio2、zno、mno、mn2o3、mn3o4、cuo、feo、fe2o3、fe3o4、coo、co3o4和nio；或三元化合物，诸如mgal2o4、cofe2o4、nife2o4和comn2o4，但是实施方案不限于此。
63.此外，半导体化合物可以是例如cds、cdse、cdte、zns、znse、znte、znses、zntes、gaas、gap、gasb、hgs、hgse、hgte、inas、inp、ingap、insb、alas、alp、alsb等，但实施方案不限于此。
64.量子点qd-g和qd-r可以具有约45nm或更小、优选约40nm或更小、更优选约30nm或更小的发光波长光谱的半极大处全宽度(fwhm)，并且在上述范围内可以提高颜色纯度或颜色再现性。此外，通过量子点qd-g和qd-r发射的光向所有方向发射，因此可以改善宽视角。
65.另外，虽然量子点qd-g和qd-r的形式没有特别限制，只要它是本领域中常用的形式，更具体地，可以使用大体球形、大体金字塔形、大体多臂或大体立方体纳米颗粒，或大体纳米管形、大体纳米线形或大体纳米纤维形纳米颗粒等形式的量子点。
66.量子点qd-g和qd-r可以根据其粒径控制发射光的颜色，因此量子点qd-g和qd-r可以具有各种发光颜色，例如蓝色、红色、绿色等。当上述发射层eml包括量子点材料时，量子点qd-g和qd-r的描述可以同样适用于包括在发射层eml中的量子点材料。
67.光控层cl还可以包括散射体。散射体可以是无机颗粒。例如，散射体可以包括tio2、zno、al2o3、sio2和中空二氧化硅中的至少一种。散射体可以包括tio2、zno、al2o3、sio2和中空二氧化硅中的任意一种，或者可以是选自tio2、zno、al2o3、sio2和中空二氧化硅中的两种或更多种材料的混合物。
68.滤色器层cf可以设置于颜色控制层cl上。滤色器层cf可以包括第一至第三滤色器cf-1、cf-2和cf-3以及第二遮光单元bm2。第一至第三滤色器cf-1、cf-2和cf-3可以设置成在第一方向轴dr1延伸的方向上间隔开。第二遮光单元bm2可以设置于滤色器cf-1、cf-2和cf-3之间。
69.第一至第三滤色器cf-1、cf-2和cf-3可以对应于包括在颜色控制层cl中的第一至第三颜色控制单元cl-1、cl-2和cl-3设置。第一滤色器cf-1对应于第一颜色控制单元cl-1设置，并且可以透射第一个光。第二滤色器cf-2对应于第二颜色控制单元cl-2设置，并且可以透射与第一个光不同的第二个光。第三滤色器cf-3对应于第三颜色控制单元cl-3设置，并且可以透射不同于第一个光和第二个光的第三个光。第一滤色器cf-1可以透射大约
625nm至大约675nm波长的光。第二滤色器cf-2可以透射大约500nm至大约570nm波长的光。第三滤色器cf-3可以透射大约410nm至大约480nm波长的光。例如，第一个光可以是红光，第二个光可以是绿光，并且第三个光可以是蓝光。第一滤色器cf-1可以透射红光，并阻挡蓝光和绿光。第二滤色器cf-2可以透射绿光，并阻挡红光和蓝光。第三滤色器cf-3可以透射蓝光，并阻挡绿光和红光。
70.滤色器cf-1、cf-2和cf-3各自可以包括聚合物光敏树脂、颜料或染料。第一滤色器cf-1可以包括红色颜料或红色染料，第二滤色器cf-2可以包括绿色颜料或绿色染料，并且第三滤色器cf-3可以包括蓝色颜料或蓝色染料。实施方案不限于此，并且第三滤色器cf-3可以不包括颜料或染料。第三滤色器cf-3可以包括聚合物光敏树脂，但不包括颜料或染料。第三滤色器cf-3可以是透明的。第三滤色器cf-3可以由透明光敏树脂形成。
71.在平面上(即，在平面图中)，第一遮光单元bm1的边缘和第二遮光单元bm2的边缘可以重叠。第一遮光单元bm1的边缘和第二遮光单元bm2的边缘可以在第三方向轴dr3延伸的方向上重叠。可以形成包括含有黑色颜料或黑色染料的有机遮光材料或无机遮光材料的第一遮光单元bm1和第二遮光单元bm2。此外，备选地，可以形成包括含有蓝色颜料或蓝色染料的有机遮光材料或无机遮光材料的第一遮光单元bm1和第二遮光单元bm2。例如，第一遮光单元bm1可由包括黑色颜料或黑色染料的遮光材料形成，而第二遮光单元bm2可由包括蓝色颜料或蓝色染料的遮光材料形成。然而，实施方案不限于此，并且可以省略第二遮光单元bm2。
72.低折射层lr可以设置于颜色控制层cl和滤色器层cf之间。低折射层lr可具有约1.1至约1.3的折射率。低折射层lr可以将从颜色控制层cl发射的一些蓝光全反射到滤色器层cf以重新入射到颜色控制层cl。蓝光可以是从发光元件层led发出的光。一些蓝光可以重新入射到包括在颜色控制层cl中的第一颜色控制单元cl-1或第二颜色控制单元cl-2。如上所述，第一颜色控制单元cl-1可以将再入射的蓝光变成红光，而第二颜色控制单元cl-2可以将再入射的蓝光变成绿光。通过这种光回收可以提高显示装置dd的发光效率。
73.绝缘层pa1、pa2和pa3可以分别设置于封装层tfe和颜色控制层cl之间、低折射层lr之下和低折射层lr之上。第一绝缘层pa1可以设置于封装层tfe和颜色控制层cl之间。第二绝缘层pa2可以设置于低折射层lr之下，第三绝缘层pa3可以设置于低折射层lr之上。第一至第三绝缘层pa1、pa2和pa3可以是光学透明的。绝缘层pa1、pa2和pa3各自可以由单层或多层形成。然而，实施方案不限于此，并且在显示装置dd中可以省略第一至第三绝缘层pa1、pa2和pa3中的至少一个。
74.外涂层oc可以设置于第三绝缘层pa3和滤色器层cf之间。外涂层oc可以是平坦化层。例如，外涂层oc可以具有约1,000nm至约5,000nm的厚度。与图3所示的不同，在实施方案的显示装置中，可以省略外涂层oc。
75.在一个实施方案中，抗反射构件lpm可以设置于滤色器层cf上。参照图4和图5，抗反射构件lpm和lpm-1可以包括顺序堆叠的第一涂层ca1、无机膜hr和第二涂层ca2。第一涂层ca1可以设置于滤色器层cf上，并且第二涂层ca2可以设置于第一涂层ca1上。无机膜hr可以设置于第一涂层ca1和第二涂层ca2之间。不像图4，图5示出无机膜hr包括第一子-无机膜sr1和第二子-无机膜sr2。
76.抗反射构件lpm和lpm-1可以直接设置于滤色器层cf上。在实施方案中，包括在抗
反射构件lpm和lpm-1中的第一涂层ca1可以直接设置于滤色器层cf上。第一涂层ca1可以是平坦化层。第一涂层ca1可以直接设置于滤色器层cf上以使滤色器层cf的上表面平坦化。第一涂层ca1的厚度t1可以大于第二涂层ca2的厚度t2和无机膜hr的厚度t3。第一涂层ca1的厚度t1可为约3,000nm至约10,000nm。第二涂层ca2的厚度t2可为约80nm至约100nm。无机膜hr的厚度t3可为约50nm至约130nm。第二涂层ca2的厚度t2可以是无机膜hr的厚度t3的大约0.6倍至大约2.0倍大。
77.第二涂层ca2的折射率小于无机膜hr的折射率，并且第二涂层ca2的厚度t2和无机膜hr的厚度t3可以相同，或者第二涂层ca2的厚度t2可以小于无机膜hr的厚度t3。与上述一者不同，第二涂层ca2的厚度t2可以大于无机膜hr的厚度t3。在具有相对大的折射率的无机膜hr和具有相对小的折射率的第二涂层ca2之间可能导致光的相消干涉。实施方案的显示装置dd包括无机膜hr和第二涂层ca2，并且相消干涉可以抵消外部光，例如照明和自然光。因此，可以减少由于显示装置dd中的外部光引起的反射。
78.第二涂层ca2可具有约1.2至约1.5的折射率。例如，第二涂层ca2可具有约1.3至约1.5的折射率。无机膜hr可具有约1.6至约2.2的折射率。例如，无机膜hr可具有约2.1至约2.2的折射率。第二涂层ca2与无机膜hr之间的折射率差可为约0.1至约1.0。例如，第二涂层ca2与无机膜hr之间的折射率差可为约0.6至约0.9。然而，该实施方案是作为示例呈现的并且不限于此。当第二涂层ca2与无机膜hr之间的折射率差异太小时，可能不会引起光的相消干涉。当第二涂层ca2与无机膜hr之间的折射率差小于约0.1时，不会引起光的相消干涉，并且显示装置的反射特性可能没有改善。
79.参照图5，无机膜hr可以包括设置于第一涂层ca1上的第一子-无机膜sr1和设置于第一子-无机膜sr1上的第二子-无机膜sr2。第二子-无机膜sr2可以设置于第一子-无机膜sr1和第二涂层ca2之间。
80.在一个实施方案中，第一子-无机膜sr1可以具有比第二子-无机膜sr2小的折射率。第一子-无机膜sr1可以具有比第二涂层ca2更大的折射率。第一子-无机膜sr1可以具有大约1.6至大约1.8的折射率。第二子-无机膜sr2可以具有约1.8至约2.2的折射率。第一子-无机膜sr1的厚度t4可为约60nm至约120nm。第二子-无机膜sr2的厚度t5可为约50nm至约130nm。
81.在根据实施方案的抗反射构件中，第二涂层ca2可以具有比无机膜hr小的折射率。第二涂层ca2的厚度t2可以是无机膜hr的厚度t3的约0.6倍至2.0倍，并且第二涂层ca2的折射率可以是无机膜hr的约0.1至约1.0倍。
82.实施方案的显示装置dd可以包括设置于滤色器层cf上的抗反射构件lpm和lpm-1，并且抗反射构件lpm和lpm-1可以包括顺序堆叠的第一涂层ca1、无机膜hr和第二涂层ca2。当第二涂层ca2和无机膜hr之间的折射率差、第二涂层ca2的厚度t2和无机膜hr的厚度t3被优化时，可以引起光的相消干涉。第二涂层ca2可以具有比无机膜hr小的折射率。从第二涂层ca2反射的光和从无机膜hr反射的光可以相互抵消，从而最小化显示装置dd中由于外部光引起的反射。
83.从第二涂层ca2反射的光的相位和从无机膜hr反射的光的相位可以相反，并且具有相反相位的光可以相互抵消。可在包括第二涂层ca2和无机膜hr的抗反射构件lpm和lpm-1中引起相消干涉。因此，可以最小化显示设备dd中外部光的反射。
84.第一涂层ca1可以具有比无机膜hr小的折射率。第一涂层ca1可具有约1.2至约1.5的折射率。第一涂层ca1的折射率和第二涂层ca2的折射率可以相同。备选地，第一涂层ca1的折射率和第二涂层ca2的折射率可以不同。
85.第一涂层ca1和第二涂层ca2各自可具有约0.4gpa至约0.9gpa的硬度。第一涂层ca1的硬度和第二涂层ca2的硬度可以相同。然而，实施方案不限于此，并且第一涂层ca1的硬度和第二涂层ca2的硬度可以不同。例如，第一涂层ca1可以具有比第二涂层ca2更大的硬度。备选地，第二涂层ca2可以具有比第一涂层ca1更大的硬度。
86.根据实施方案，第一涂层ca1和第二涂层ca2中的每一个都可以包括聚合物树脂。包括在第一涂层ca1中的聚合物树脂和包括在第二涂层ca2中的聚合物树脂可以相同。备选地，包括在第一涂层ca1中的聚合物树脂和包括在第二涂层ca2中的聚合物树脂可以不同。
87.第一涂层ca1和第二涂层ca2中的每一个可以包括聚合物树脂，该聚合物树脂包括第一至第四重复单元中的至少一个。每种聚合物树脂可以包括聚合物树脂，该聚合物树脂包括以下第一至第四重复单元中的两个或更多个重复单元。
88.第一重复单元
[0089][0090]
第二重复单元
[0091][0092]
第三重复单元
[0093][0094]
第四重复单元
[0095][0096]
在第三重复单元中，y1和y2中至少一个可以是[(sio
3/2r21
)
4 2n
o]，并且另一个是o或nr
22
。y1和y2两者可以是[(sio
3/2r21
)
4 2n
o]。备选地，y1和y2中至少任何一个可以是[(sio
3/2r21
)
4 2n
o]，并且另一个是o或nr
22
。n可以是1至20的整数。在第二重复单元中，x1是[(sio
3/2r23
)
4 2m
o]或r
24
，并且m可以是1至20的整数。在第四重复单元中，x2和x3可以各自独立地是[(sio
3/2r25
)
4 2j
o]或r
26
，并且j可以是1至20的整数。
[0097]
在第一至第四重复单元中，r
21
至r
26
可以各自独立地是取代或未取代的具有1至12个碳原子的烷基。
[0098]
r1至r
13
可以各自独立地为氢原子、氘原子、卤素原子、异氰酸根基、氰基、硝基、取代或未取代的胺基、取代或未取代的环氧基、取代的或未取代的丙烯酸根基团、取代或未取代的氧基、取代或未取代的硫醇基团、取代或未取代的具有1至12个碳原子的烷基、取代或未取代的具有3至12个成环碳原子的杂环烷基、取代的或未取代的具有2至12个碳原子的烯基、取代或未取代的具有6至12个成环碳原子的芳基、或取代或未取代的具有2至12个成环碳原子的杂芳基。
[0099]
在一个实施方案中，第一涂层ca1和第二涂层ca2各自可以包括第一至第四重复单元中的两个或更多个重复单元。例如，第一涂层ca1和第二涂层ca2可以包括第一重复单元和第三重复单元中的至少一个。
[0100]
第一涂层ca1和第二涂层ca2可以包括由以下式1至14表示的聚倍半硅氧烷。式1至14可包括第一至第四重复单元中的两个或更多个重复单元。在式1至14中，第一至第四重复单元的数目可以分别为单数或复数。例如，式1至14可包括两个第一重复单元和一个第三重复单元。第一重复单元可以分别键合到第三重复单元的连接基团的两侧。取代基可以键合到位于边缘的第一重复单元的连接基团。与重复单元键合的取代基不限于任何一种实施方案。这仅作为示例呈现，并且聚倍半硅氧烷中包含的重复单元的数量和类型不限于此。
[0101]
在一个实施方案中，第一涂层ca1和第二涂层ca2各自可以包括由以下式1至9中的任一个表示的聚合物树脂。式1可包括第一重复单元和第三重复单元。式2可以包括一个第一重复单元和两个第三重复单元，并且第三重复单元可以分别连接到第一重复单元的连接基团的两侧。式3可以包括第一重复单元、第三重复单元和第四重复单元，并且第三重复单元和第四重复单元可以连接到第一重复单元的连接基团的两侧。式4可以包括第一重复单元、第二重复单元和第三重复单元，并且第一重复单元和第三重复单元可以连接到第二重复单元的连接基团的两侧。
[0102]
式5至7可以包括四个重复单元。式5可以包括一个第一重复单元、一个第二重复单元和两个第三重复单元，并且第三重复单元、第一重复单元、第二重复单元和第三重复单元可以顺序连接。式6可以包括第一重复单元、第二重复单元、第三重复单元和第四重复单元，
并且第四重复单元、第一重复单元、第二重复单元和第三重复单元可以顺序连接。式7可以包括两个第一重复单元、一个第二重复单元和一个第三重复单元，并且第一重复单元、第二重复单元、第一重复单元和第三重复单元可以顺序连接。
[0103]
式8和9各自可以包括五个重复单元。式8可以包括两个第一重复单元、一个第二重复单元和两个第三重复单元，并且第三重复单元、第一重复单元、第二重复单元、第一重复单元和第三重复单元可以顺序连接。式9可包括两个第一重复单元、一个第二重复单元、一个第三重复单元和一个第四重复单元，并且第四重复单元、第一重复单元、第二重复单元、第一重复单元和第三重复单元可以依次连接。
[0104]
式1
[0105][0106]
式2
[0107][0108]
式3
[0109][0110]
式4
[0111][0112]
式5
[0113][0114]
式6
[0115][0116]
式7
[0117][0118]
式8
[0119][0120]
式9
[0121][0122]
在以上式2、5和8中，y3和y4中至少一个可以是[(sio
3/2r23
)
4 2n
o]，并且另一个是o或nr
24
。例如，y3和y4可以是[(sio
3/2r23
)
4 2n
o]。此外，y3可以是[(sio
3/2r23
)
4 2n
o]，并且y4可以是o或nr
24
。y4可以是[(sio
3/2r23
)
4 2n
o]，并且y4可以是o或nr
24
。
[0123]
在式3至9中，x1至x3中至少一个可以是[(sio
3/2r25
)
4 2m
o]，并且另一个是r
26
。例如，x1至x3可以是[(sio
3/2r25
)
4 2m
o]。此外，x1可以是[(sio
3/2r25
)
4 2m
o]，并且x2和x3可以是r
26
。x2和x3可以相同或不同。此外，x2可以是[(sio
3/2r25
)
4 2m
o]，并且x1和x3可以是r
26
。x1和x3可以相同或不同。x3可以是[(sio
3/2r25
)
4 2m
o]，并且x1和x2可以是r
26
。x1和x2可以相同或不同。m可以是1至20的整数。
[0124]
在式1至9中，y1和y2中至少一个可以是[(sio
3/2r21
)
4 2n
o]，并且另一个是o或nr
22
。n可以是1至20的整数。r
21
至r
26
和r
51
至r
54
可以各自独立地是取代或未取代的具有1至12个碳原子的烷基。变量n1,n2,n5和n6可以各自独立地是1至100,000的整数。n3可以是1或2，并且n4可以是1至500的整数。
[0125]
r1至r
13
可以各自独立地为氢原子、氘原子、卤素原子、异氰酸根基、氰基、硝基、取代或未取代的胺基、取代或未取代的环氧基、取代的或未取代的丙烯酸根基团、取代或未取代的氧基、取代或未取代的硫醇基团、取代或未取代的具有1至12个碳原子的烷基、取代或未取代的具有3至12个成环碳原子的杂环烷基、取代的或未取代的具有2至12个碳原子的烯基、取代或未取代的具有6至12个成环碳原子的芳基、或取代或未取代的具有2至12个成环碳原子的杂芳基。
[0126]
此外，第一涂层ca1和第二涂层ca2各自可以包括由以下式10至14中任何一个表示的聚合物树脂。
[0127]
式10
[0128][0129]
式11
[0130][0131]
式12
[0132][0133]
式13
[0134][0135]
式14
[0136][0137]
在式10至14中，n5可以是1至20的整数，n6至n8可以各自独立地是1至5的整数，n9至n14可以各自独立地是1至12的整数。r
31
至r
38
可以由以下ra或rb表示。
[0138][0139]
在ra和rb中，n15和n16可以各自独立地是1至12的整数，并且r
39
可以是氢原子或甲基。
[0140]
包含由式1至14中任一个表示的聚合物树脂的第一涂层ca1和第二涂层ca2可表现出高硬度特性。包含由式1至14表示的聚倍半硅氧烷的第一涂层ca1和第二涂层ca2可表现出改善的硬度。第一涂层ca1和第二涂层ca2各自可以具有约0.4gpa至约0.9gpa的硬度。因此，可以防止根据实施方案的包括第一涂层ca1和第二涂层ca2的显示装置由于外部摩擦而损坏。
[0141]
根据实施方案的无机膜hr可以包括氮化硅、氧氮化硅和二氧化钛(tio2)中的至少一种。第一子-无机膜sr1和第二子-无机膜sr2各自可以包括氮化硅、氧氮化硅和二氧化钛中的至少一种。第一子-无机膜sr1和第二子-无机膜sr2可以包括不同的材料。备选地，第一子-无机膜sr1和第二子-无机膜sr2可以包括相同的材料。包括在抗反射构件lpm中的无机膜hr可以通过化学气相沉积(cvd)形成。当第一子-无机膜sr1和第二子-无机膜sr2包括相同的材料时，每层的沉积速率可以不同。例如，第一子-无机膜sr1可以具有比第二子-无机膜sr2更高的沉积速率。以相对高的速率沉积的第一子-无机膜sr1的折射率可以小于以相对低的速率沉积的第二子-无机膜sr2的折射率。然而，这作为例子提供，并且形成无机膜hr
的方法不限于此。
[0142]
参考图3，下面进一步详细讨论，功能层af可以设置于抗反射构件lpm上。功能层af可以包括含氟化合物。功能层af可以是耐指纹层。在根据实施方案的显示装置dd中，可以省略功能层af。可以省略功能层af，并且抗反射构件lpm的第二涂层ca2可以暴露于外部。如上所述，具有高硬度的第二涂层ca2可以表现出良好的抵抗外部摩擦的耐久性。
[0143]
在根据实施方案的抗反射构件lpm和lpm-1中，第一涂层ca1和第二涂层ca2可以通过湿法涂覆形成。通过湿法涂覆形成的涂层ca1和ca2可以通过将溶液直接施加到位于下方的部件来形成。例如，可以通过将溶液施加到滤色器层cf上来形成第一涂层ca1。由于第一涂层ca1和第二涂层ca2是通过湿法涂覆形成的，因此可以减小包括多个显示面板dp1和dp2的显示装置dd-a中显示面板dp1和dp2之间的最小距离d0。在平面上相邻设置的显示面板dp1和dp2之间的最小距离d0可以是大约30μm或更小。
[0144]
在包括膜型抗反射构件的显示装置中，平面上相邻的显示面板之间的最小距离可为约500μm或更大。当提供由单独的膜制成的抗反射构件时，平面上相邻显示面板之间的最小距离可为约500μm或更大。由于薄膜型抗反射构件，显示面板之间的最小距离可以是约500μm或更大。根据实施方案的显示装置dd-a可以包括通过湿法涂覆形成的抗反射构件lpm和lpm-1，并且因此可以表现出在显示面板dp1和dp2之间的最小距离d0方面的改进。
[0145]
图6示出了根据实施方案的显示面板dp-x，并且不同于图3，图6示出显示面板dp-x还包括支撑基底bs2。支撑基底bs2可以设置于滤色器层cf和抗反射构件lpm之间。在下文中，在图6的描述中，与参照图3至5描述的内容重叠的内容将不再描述，并且将主要描述差异以避免冗余。
[0146]
根据实施方案的显示面板dp-x可以包括顺序堆叠的发光元件层led、颜色控制层cl、滤色器层cf和抗反射构件lpm。此外，显示面板dp-x还可包括设置于滤色器层cf和抗反射构件lpm之间的支撑基底bs2。
[0147]
支撑基底bs2可以是聚合物基底、塑料基底、玻璃基底、石英基底等。支撑基底bs2可以是透明绝缘基底。支撑基底bs2可以是刚性的或柔性的。
[0148]
覆盖层cpl可以设置于封装层tfe和第一绝缘层pa1之间。覆盖层cpl可以是光学透明的。覆盖层cpl可以是从基层bs1到封装层tfe的配置和从第一绝缘层pa1到支撑基底bs2的配置的组合。与所示出的不同，在根据实施方案的显示装置中可以省略覆盖层cpl。
[0149]
图6示出第一滤色器cf-1、第二滤色器cf-2和第三滤色器cf-3中的每一个的一侧部分地重叠。在与第一遮光单元bm1重叠的区域中，第一滤色器cf-1、第二滤色器cf-2和第三滤色器cf-3中的每一个的一侧可以部分地重叠。然而，实施方案不限于此，并且在与第一遮光单元bm1重叠的区域中，第一滤色器cf-1、第二滤色器cf-2和第三滤色器cf-3中的每一个的边缘可以在一个方向上间隔开。
[0150]
术语定义
[0151]
如本文所用，术语“原子”可表示与一个或多个其他原子键合的元素或其相应的基团。
[0152]
如本文所用，术语“氢”、“氘”和“卤素”是指它们各自的原子和相应的基团。卤素原子的实例可包括氟原子、氯原子、溴原子和碘原子，并且缩写
“‑
f、-cl、-br和-i”分别是氟、氯、溴和碘的基团。
[0153]
如本文所用，缩写“n
‑”
、“s
‑”
、“t
‑”
和“i
‑”
分别指“正”、“仲”、“叔”，并且前缀
“‑
异”定义为与在例如异丁烷中使用的相同。
[0154]
如本文所用，一价基团例如烷基的取代基也可以独立地是相应二价基团例如亚烷基的取代基。
[0155]
如本文所用，术语“取代的或未取代的”可以表示被选自以下的至少一个取代基取代或未取代：氘原子、卤素原子、氰基、硝基、胺基、甲硅烷基、氧基、硫醇基、亚磺酰基、磺酰基、羰基、硼基、氧化膦基、硫化膦基、烷基、烯基、炔基、烷氧基、烃环基、芳基和杂环基。此外，以上作为实例呈现的每个取代基可以是取代的或未取代的。例如，联苯基可被解释为芳基或被苯基取代的苯基。
[0156]
如本文所用，烷基可以是直链、支链或环状类型。烷基中的碳原子数为1至30、1至20、1至10或1至6。烷基的实例可包括甲基、乙基、正丙基、异丙基基团、正丁基、仲丁基、叔丁基、异丁基、2-乙基丁基、3,3-二甲基丁基、正戊基、异戊基基团、新戊基、叔戊基、环戊基、1-甲基戊基、3-甲基戊基、2-乙基戊基、4-甲基-2-戊基、正己基、1-甲基己基、2-乙基己基、2-丁基己基、环己基、4-甲基环己基、4-叔丁基环己基、正庚基、1-甲基庚基、2,2-二甲基庚基、2-乙基庚基、2-丁基庚基、正辛基、叔辛基、2-乙基辛基、2-丁基辛基、2-己基辛基、3,7-二甲基辛基、环辛基、正壬基、正癸基、金刚烷基、2-乙基癸基、2-丁基癸基、2-己基癸基、2-辛基癸基、正十一烷基、正十二烷基、2-乙基十二烷基、2-丁基十二烷基、2-己基十二烷基、2-辛基十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、2-乙基十六烷基、2-丁基十六烷基、2-己基十六烷基、2-辛基十六烷基、正十七烷基、正十八烷基、正十九烷基、正二十烷基、2-乙基二十烷基、2-丁基二十烷基、2-己基二十烷基、2-辛基二十烷基、正二十一烷基、正二十二烷基、正二十三烷基、正二十四烷基、正二十五烷基、正二十六烷基、正二十七烷基、正二十八烷基、正二十九基、正三十烷基等，但不限于此。
[0157]
如本文所用，杂环烷基可包括b、o、n、p、si和s中的至少一种作为杂原子。当杂环烷基包含两个或更多个杂原子时，两个或更多个杂原子可以彼此相同或不同。杂环烷基中的碳原子数为1至20、1至10或1至6。
[0158]
如本文所用，芳基是指衍生自芳烃环的任何官能团或取代基。芳基可以是单环芳基或多环芳基。芳基中的成环碳原子数可为6至30、6至20或6至15个。芳基的实例可包括苯基、萘基、芴基、蒽基、菲基、联苯基、三联苯基、四联苯基、五联苯基、六联苯基、苯并[9,10]菲基、芘基、苯并荧蒽基、基等，但不限于此。
[0159]
如本文所用，杂芳基可包括b、o、n、p、si和s中的至少一种作为杂原子。当杂芳基包含两个或更多个杂原子时，两个或更多个杂原子可以彼此相同或不同。杂芳基可以是单环杂芳基或多环杂芳基。杂芳基中的成环碳原子数可为2至30、2至20或2至10。杂芳基的实例可包括噻吩基、呋喃基、吡咯基、咪唑基、三唑基、吡啶基、联吡啶基、嘧啶、三嗪基、吖啶基、哒嗪基、吡嗪基、喹啉基、喹唑啉基、喹喔啉基、吩噁嗪基、酞嗪基团、吡啶并嘧啶基团、吡啶并吡嗪基团、吡嗪并吡嗪基团、异喹啉基团、吲哚基团、咔唑基团、n-芳基咔唑基团、n-杂芳基咔唑基团、n-烷基咔唑基团，苯并噁唑基团、苯并咪唑基团、苯并噻唑基团、苯并咔唑基团、苯并噻吩基团、二苯并噻吩基团、噻吩并噻吩基团、苯并呋喃基团、菲咯啉基团、噻唑基团、异噁唑基团、噁唑基团、噁二唑基团、噻二唑基团、吩噻嗪基团、二苯并噻咯(dibenzosilole)基团、二苯并呋喃基团等，但不限于此。
[0160]
如本文所用，硫醇基团可包括烷硫基基团和芳硫基基团。硫醇基团可以是指硫原子与上述定义的烷基或芳基键合的基团。硫醇基的实例可包括甲硫基、乙硫基、丙硫基、戊硫基、己硫基、辛硫基、十二硫基、环戊硫基、环己硫基、苯硫基、萘硫基等，但不限于此。
[0161]
如本文所用，氧基可指氧原子与上述定义的烷基或芳基键合的基团。氧基可包括烷氧基和芳氧基。烷氧基可以是直链、支链或环状的。烷氧基中的碳原子数没有特别限制，但可以是例如1至20或1至10个。氧基的实例包括甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、辛氧基、壬氧基、癸氧基、苄氧基等，但不限于此。
[0162]
如本文所用，烯基可以是直链的或支链的。尽管碳原子数没有特别限制，但可以是2至30、2至20或2至10个。烯基的实例包括乙烯基、1-丁烯基、1-戊烯基、1,3-丁二烯基、苯乙烯基、苯乙烯基乙烯基等，但不限于此。
[0163]
如本文所用，胺基中的碳原子数没有特别限制，但可为1至30。胺基可包括烷基胺基和芳基胺基。胺基的实例包括甲胺基、二甲胺基、苯胺基、二苯胺基、萘胺基、9-甲基-蒽基胺基等，但不限于此。
[0164]
实施例
[0165]
图7是说明实施方案的反射率百分比相对于无机膜的厚度的图示。图8是说明实施方案的反射率百分比相对于无机膜的折射率的图示。图9是说明实施方案的反射率百分比相对于第二涂层的厚度的图示。图10是说明堆叠的子-无机膜和涂层的实施方案的反射率相对于波长的图示。图7-10的反射率是通过以下方法测量的。在裸玻璃样品的一侧进行低反射处理，在裸玻璃样品的另一侧贴上黑色胶带，并使用cm3700d(konica minolta，inc.)测量反射率。
[0166]
图7是示出根据无机膜的厚度的反射率百分比的图。在包括第一涂层ca1、无机膜hr和第二涂层ca2的抗反射构件lpm中，测量并示出根据无机膜hr的厚度t3的变化的反射率百分比。当测量反射率百分比时，使用的抗反射构件包括折射率为1.5的第一涂层ca1、折射率为1.84的无机膜hr、折射率为1.5的第二涂层ca2、厚度t1为5,000nm的第一涂层ca1和厚度t2为100nm的第二涂层ca2。
[0167]
参照图7，可以看出具有约60nm至约80nm厚度的无机膜表现出约0.8％或更小的改善的反射率。此外，可以看出，当无机膜hr的厚度为约60nm时，反射率为约0.6％或更小。如上所述，在实施方案中，无机膜hr的厚度t3可为约50nm至约130nm。包括厚度为约50nm至约130nm的无机膜hr的抗反射构件lpm可表现出低反射率百分比并可有助于改善显示装置的反射性质。因此，据信根据实施方案的包括无机膜hr的显示装置dd和dd-a可以表现出改善的反射性质。
[0168]
图8是显示根据无机膜的折射率的反射率百分比的图。在包括第一涂层ca1、无机膜hr和第二涂层ca2的抗反射构件lpm中，测量并示出根据无机膜hr的折射率变化的反射率百分比。当测量反射率百分比时，使用的抗反射构件lpm包括各自折射率为1.5的第一涂层ca1和第二涂层ca2以及厚度t3为50nm的无机膜hr，第一涂层ca1的厚度t1为5,000nm，第二涂层ca2的厚度t2为100nm。
[0169]
参照图8，可以看出反射率百分比随着无机膜hr的折射率的增加而降低。可以看出，当无机膜hr的折射率为约1.8至约2.0时，反射率为约1.0％或更小。如上所述，在实施方案中，无机膜hr的折射率可为约1.6至约2.2。包括折射率为约1.6至约2.2的无机膜的抗反
射构件可有助于改善显示装置的反射性质。因此，据信根据实施方案的显示装置dd和dd-a包括具有比第二涂层ca2更高的折射率的无机膜hr，并且因此可以表现出改善的反射性质。
[0170]
图9是示出根据厚度的反射率百分比的图。在包括第一涂层ca1、无机膜hr和第二涂层ca2的抗反射构件lpm中，测量并示出了根据第二涂层ca2的厚度变化的反射率百分比。当测量反射率百分比时，使用的抗反射构件lpm包括各自的折射率为1.5的第一涂层ca1和第二涂层ca2，折射率为1.96的无机膜hr，第一涂层ca1具有的厚度t1为5,000nm，无机膜hr具有的厚度t3为50nm。
[0171]
参照图9，可以看出，当第二涂层ca2的厚度t2为约80nm至约100nm时，反射率百分比随着厚度的减小而减小。另外，可知当第二涂层ca2的厚度t2为约90nm至约100nm时，反射率为1％以下。如上所述，在实施方案中，第二涂层ca2的厚度可为约80nm至约100nm，并且第二涂层ca2可表现出低反射率百分比。包括具有约80nm至约100nm厚度的第二涂层ca2的抗反射构件lpm和lpm-1可有助于改善显示装置的反射性质。因此，据信根据实施方案的包括第二涂层ca2的显示装置dd和dd-a可以表现出改善的反射性质。
[0172]
图10是示出根据波长的反射率的图，并且更具体地，测量并示出根据可见光范围内的波长的反射率。在实验例1至3的每一个中，测量了在包括顺序堆叠的第一子-无机膜sr1、第二子-无机膜sr2和第二涂层ca2的抗反射构件中的根据波长的反射率。在对应于可见光范围的约380nm至约780nm的波长中测量反射率。
[0173]
下面的表1示出了实验例1至3中的第一子-无机膜srl、第二子-无机膜sr2和第二涂层ca2中的每一个的厚度和折射率。反射率作为通过在图10的曲线图中将反射率值积分并乘以发光因子而获得的值给出。在实验例1至3中省略了第一涂层ca1。
[0174]
在实验例1至3的抗反射构件中，使用具有1.70的折射率和65nm的厚度的第一子-无机膜。在实验例1至3的抗反射构件中，使用了折射率为2.17的第二子-无机膜。在实验例1和2的抗反射构件中，使用了厚度为100nm的第二子-无机膜，而在实验例3的抗反射构件中，使用了厚度为130nm的第二子-无机膜。在实验例1和3的抗反射构件中，使用了具有1.36的折射率和100nm的厚度的第二涂层。在实验例2的抗反射构件中，使用了折射率为1.50且厚度为80nm的第二涂层。
[0175]
表1
[0176]
[0177][0178]
sci意思是“包括镜面反射分量”并且用于测量表1中的反射率。
[0179]
参照图10，可以看出实验例1至3的抗反射构件在约380nm至约780nm的波长中表现出0.045或更小的低反射率。另外，可知实验例1～3的抗反射构件在约430nm至约730nm的波长中呈现0.020以下的低反射率。参照表1中的反射率，可以看出实验例1至3的抗反射构件表现出1.5％或更小的低反射率。在实验例1至3的抗反射构件中，据信由于在具有较低折射率的第二涂层和具有较高折射率的第二子-无机膜之间的光的相消干涉而降低了反射率。如上所述，根据实施方案的抗反射构件可包括顺序堆叠的第一子-无机膜、第二子-无机膜和第二涂层。因此，根据实施方案的包括抗反射构件的显示装置可以表现出改善的反射性质。
[0180]
根据实施方案的显示装置可以包括设置于滤色器层上的抗反射构件。抗反射构件包括顺序堆叠的第一涂层、无机膜和第二涂层，并且第二涂层的厚度可以是无机膜的约0.6倍至约2.0倍。第二涂层可具有比无机膜小的折射率。因此，通过优化每层的折射率和厚度的差异，可以在具有不同折射率的两个层中引起光的相消干涉。因此，包括具有不同折射率的两个层的显示装置可以表现出改善的反射性质。
[0181]
此外，根据实施方案的显示装置包括至少一个显示面板，并且可以提供两个或更多个显示面板。每个显示面板可以包括设置于滤色器层上的抗反射构件。抗反射构件可以包括通过湿法涂覆形成的第一涂层和第二涂层，从而最小化显示面板之间的距离。因此，包括多个显示面板的显示装置可以表现出改善的显示质量。
[0182]
在实施方案中，包括在显示装置中的抗反射构件包括第一涂层和第二涂层，并且第一涂层和第二涂层可以包括如上所述的第一至第四重复单元中的至少一个。第一涂层和第二涂层可包括由第一至第四重复单元形成的聚合物树脂。由第一至第四重复单元形成的聚合物树脂可以是聚倍半硅氧烷。当第一涂层和第二涂层包含聚倍半硅氧烷时，第一涂层和第二涂层中的每一个都可以表现出改进的硬度。因此，在包括第一涂层和第二涂层的显示装置中，由于外部摩擦造成的损坏可以被最小化。
[0183]
可以通过本发明的实施方式和/或本发明的方法实现的一些优点包括根据实施方案的显示装置具有设置于滤色器层上的抗反射构件，并且因此可以表现出令人满意的反射率。
[0184]
尽管本文已经描述了某些实施方案和实施方式，但是根据该描述，其他实施例和修改将是显而易见的。因此，本发明构思不限于这些实施方案，而是限于所附权利要求书的更宽范围以及本领域普通技术人员显而易见的各种明显改进和等同设置。