一种用于硅片清洗的清洗烘干一体的全自动清洗线的制作方法

1.本发明属于硅片加工技术领域，具体为一种用于硅片清洗的清洗烘干一体的全自动清洗线。


背景技术：

2.单晶硅棒是通过区熔或直拉工艺在炉膛中整形或提拉形成的硅单晶体棒，硅片使指将单晶硅棒进行研磨、抛光和切片后形成的薄片，硅片可用于制作硅半导体电路，微量的污染会导致生产的器件失效，因此硅片在进行生产时需要使用清洗烘干一体机进行严格的清洗后进行烘干处理，由于硅片在硅片清洗烘干一体机内使用清洗液进行初步冲洗时，清洗液直接冲淋到硅片的表面时仍会有清洗液残留在硅片上，导致会有微量的杂质会残留在硅片表面的清洗液内，从而导致硅片清洗不彻底，使硅片表面容易被污染。
3.公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本发明的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。


技术实现要素：

4.本发明的目的在于提供一种用于硅片清洗的清洗烘干一体的全自动清洗线，以解决现有技术的上述问题。
5.为实现上述目的，本发明提供了一种用于硅片清洗的清洗烘干一体的全自动清洗线，包括硅片清洗烘干一体机主体，所述硅片清洗烘干一体机主体内安装有安装座，所述安装座上安装有若干清洗结构，所述清洗结构包括通过螺栓固定在所述安装座上的座板和设置在所述座板前侧的一对旋转机构，两个所述旋转机构呈对称状分布在所述座板的前侧，所述安装座上设置有进水管和进气管，所述旋转机构包括清洗头、固定在所述清洗头顶端的盖板以及固定在所述盖板顶端的轴杆，硅片从一对所述旋转机构之间经过。
6.在本发明的一实施方式中，所述座板的前端面通过螺栓固定有一对固定杆，所述固定杆的末端一体成型有呈环形结构的端套，所述轴杆从所述端套中穿过并与所述端套转动连接。
7.在本发明的一实施方式中，所述端套内侧的底部内壁上开设有进气腔，所述端套内侧的顶部内壁上开设有进水腔，所述端套的左右两端均连接有通管，所述进气腔通过位于左侧的所述通管与所述进水管相连通，所述进水腔通过位于右侧的所述通管与所述进气管相连通，所述端套的内壁中嵌设有三个密封圈，所述进气腔和进水腔被夹设在相邻的两个所述密封圈之间。
8.在本发明的一实施方式中，所述座板前端面的顶底两侧边缘处均通过螺栓固定有凸板，所述凸板末端的外侧边缘处通过螺栓固定有转动电机，所述转动电机的输出轴末端与所述轴杆同轴连接。
9.在本发明的一实施方式中，所述清洗头顶端的中部位置处开设有第一凹腔，所述第一凹腔左右两侧的所述清洗头上均开设有第二凹腔，与所述第一凹腔位置相对应的所述
清洗头的底端面位置处开设有第一凹槽，与外围第二凹腔位置相对应的所述清洗头的底端面位置处开设有第二凹槽，所述第一凹槽的槽底处安装有若干喷淋头，所述第二凹槽的槽底处安装有若干喷气头。
10.在本发明的一实施方式中，所述盖板将所述清洗头的顶端遮盖，所述盖板的顶面上连接有一对连接管，所述连接管的末端与第二凹腔的位置相对应并与所述第二凹腔相连通。
11.在本发明的一实施方式中，所述轴杆呈空心的管状结构，所述轴杆紧密焊接在所述盖板的顶端，所述轴杆的内部与第一凹腔相连通，所述轴杆的底部内壁中开设有隔腔，底端紧密焊接有端环，端环将所述隔腔的底端封闭，连接管的首端与所述隔腔相连通。
12.在本发明的一实施方式中，所述轴杆的顶端紧密焊接有端板，所述端板的顶端紧密焊接有轴套，转动电机的输出轴末端伸入到所述轴套内并通过螺栓固定连接。
13.在本发明的一实施方式中，所述轴杆顶部的外围表面上开设有若干通水槽，所述通水槽与所述轴杆的内部相连通，所述通水槽的位置和进水腔的位置相对应，所述通水槽下方的所述轴杆的外围表面上开设有若干通气槽，所述通气槽与隔腔相连通，所述通气槽的位置和进气腔的位置相对应。
14.综上所述，由于采用了上述技术方案，本发明的有益效果是：
15.1、本发明中，通过设置在硅片清洗烘干一体机主体内的清洗结构并使硅片从清洗结构中经过，使得在将清洗用的液体与气体通入到清洗结构内后即可使清洗液体和气体能够一同通过清洗头喷向硅片的正反两面，使得清洗硅片表面的清洗液能够在清洗后被气体吹走，从而增加了硅片的清洗效果，防止杂质粘附在硅片表面的清洗液内。
16.2、本发明中，通过设置在清洗结构上的转动电机，使得清洗头朝向硅片喷淋清洗液和清洗气体的同时，转动电机能够带动旋转机构进行转动，从而使清洗用的液体和气体能够对硅片的表面进行旋转清洗，已进一步增加硅片表面清洗效果的目的。
附图说明
17.图1为本发明的整体结构示意简图；
18.图2为本发明中清洗结构的安装示意图；
19.图3为本发明中清洗结构的结构图；
20.图4为本发明中清洗结构的爆炸图；
21.图5为本发明中座板的结构图；
22.图6为本发明中端套的剖视图；
23.图7为本发明中旋转机构的爆炸图；
24.图8为本发明中清洗头的底面结构图；
25.图9为本发明中轴杆的剖视图。
26.附图标记说明：
27.1-硅片清洗烘干一体机主体；2-安装座；21-进水管；22-进气管；3-清洗结构；31-座板；311-固定杆；3111-端套；3112-进气腔；3113-进水腔；3114-密封圈；312-凸板；3121-转动电机；313-通管；32-旋转机构；321-清洗头；3211-第一凹腔；3212-第二凹腔；3213-第一凹槽；3214-第二凹槽；3215-喷淋头；3216-喷气头；322-盖板；3221-连接管；323-轴杆；
3231-端环；3232-端板；3233-轴套；3234-隔腔；3235-通水槽；3236-通气槽。
具体实施方式
28.下面结合附图，对本发明的具体实施方式进行详细描述，但应当理解本发明的保护范围并不受具体实施方式的限制。
29.除非另有其它明确表示，否则在整个说明书和权利要求书中，术语“包括”或其变换如“包含”或“包括有”等等将被理解为包括所陈述的元件或组成部分，而并未排除其它元件或其它组成部分。
30.参照图1-图9，本发明的用于硅片清洗的清洗烘干一体的全自动清洗线，包括硅片清洗烘干一体机主体1，硅片清洗烘干一体机主体1内安装有安装座2，安装座2上安装有若干清洗结构3。
31.本发明中，清洗结构3包括通过螺栓固定在安装座2上的座板31和设置在座板31前侧的一对旋转机构32，两个旋转机构32呈对称状分布在座板31的前侧，安装座2上设置有进水管21和进气管22，旋转机构32包括清洗头321、固定在清洗头321顶端的盖板322以及固定在盖板322顶端的轴杆323，硅片从一对旋转机构32之间经过，当硅片运动至一对旋转机构32之间时，硅片的正反两面分别与两个旋转机构32上的清洗头321相对齐。
32.具体的，座板31的前端面通过螺栓固定有一对固定杆311，固定杆311的末端一体成型有呈环形结构的端套3111，轴杆323从端套3111中穿过并与端套3111转动连接，使轴杆323被限制在端套3111内。
33.进一步的，端套3111内侧的底部内壁上开设有进气腔3112，端套3111内侧的顶部内壁上开设有进水腔3113，端套3111的左右两端均连接有通管313，进气腔3112通过位于左侧的通管313与进水管21相连通，进水腔3113通过位于右侧的通管313与进气管22相连通，当向进水管21内通入清洗液时，清洗液能够通过通管313进入到进水腔3113内，当向进气管22内通入清洗用的气体时，可使气体能够沿通管313进入到进水腔3113内。端套3111的内壁中嵌设有三个密封圈3114，进气腔3112和进水腔3113被夹设在相邻的两个密封圈3114之间，使轴杆323从端套3111内穿过时，密封圈3114在端套3111的内壁与轴杆323的外表面之间起到密封的作用，防止端套3111与轴杆323之间出现漏水和漏气的情况发生。
34.此外，座板31前端面的顶底两侧边缘处均通过螺栓固定有凸板312，凸板312末端的外侧边缘处通过螺栓固定有转动电机3121，轴杆323的顶端紧密焊接有端板3232，端板3232的顶端紧密焊接有轴套3233，转动电机3121的输出轴末端伸入到轴套3233内并通过螺栓固定连接。使转动电机3121的输出轴末端与轴杆323同轴连接，当将转动电机3121与外界电源相接通时，转动电机3121开始工作并带动轴杆323转动，从而使旋转机构32整体能够被转动电机3121带动转动。
35.值得注意的是，清洗头321顶端的中部位置处开设有第一凹腔3211，第一凹腔3211左右两侧的清洗头321上均开设有第二凹腔3212，与第一凹腔3211位置相对应的清洗头321的底端面位置处开设有第一凹槽3213，与外围第二凹腔3212位置相对应的清洗头321的底端面位置处开设有第二凹槽3214，第一凹槽3213的槽底处安装有若干喷淋头3215，第二凹槽3214的槽底处安装有若干喷气头3216，盖板322将清洗头321的顶端遮盖，使第一凹腔3211和第二凹腔3212被盖板322遮挡。
36.值得说明的是，轴杆323呈空心的管状结构，轴杆323紧密焊接在盖板322的顶端，轴杆323的内部与第一凹腔3211相连通，轴杆323的底部内壁中开设有隔腔3234，底端紧密焊接有端环3231，端环3231将隔腔3234的底端封闭，盖板322的顶面上连接有一对连接管3221，连接管3221的末端与第二凹腔3212的位置相对应并与第二凹腔3212相连通，连接管3221的首端与隔腔3234相连通，使隔腔3234与第二凹腔3212之间通过连接管3221相连通。
37.上述方案中，轴杆323顶部的外围表面上开设有若干通水槽3235，通水槽3235与轴杆323的内部相连通，通水槽3235的位置和进水腔3113的位置相对应，使得进入到进水腔3113内的清洗液能够通过通水槽3235进入到轴杆323的内侧，从而使清洗液能够直接进入到第一凹腔3211中，使清洗液从喷淋头3215向外喷出，达到为硅片表面喷淋清洗液的目的。通水槽3235下方的轴杆323的外围表面上开设有若干通气槽3236，通气槽3236与隔腔3234相连通，通气槽3236的位置和进气腔3112的位置相对应，使得清洗气体进入到进气腔3112后能够通过通气槽3236直接进入到隔腔3234内，并使清洗气体能够沿连接管3221进入到第二凹腔3212中，最终可使清洗气体从喷气头3216朝向硅片喷出，达到清理残留在硅片表面清洗液的目的，此时随着旋转机构32被转动电机3121带动转动，使得从旋转机构32喷出的清洗液体和清洗气体能够对硅片的表面反复冲洗，增加硅片的清洗效果，防止微小的杂物因残留在硅片表面的清洗液中而污染硅片的情况的发生。
38.本发明的用于硅片清洗的清洗烘干一体的全自动清洗线的工作原理具体为：
39.首先分别向进水管21和进气管22中分别通入清洗液体和清洗用气体，使得清洗液体能够沿通管313进入到进水腔3113内，而进气管22内的清洗气体能够沿通管313进入到进水腔3113内，然后随着清洗液体和清洗洗气体的通入，进入到进水腔3113内的清洗液能够通过通水槽3235进入到轴杆323的内侧，从而使清洗液能够直接进入到第一凹腔3211中，使清洗液从喷淋头3215向外喷出，达到为硅片表面喷淋清洗液的目的，同时清洗气体进入到进气腔3112后能够通过通气槽3236直接进入到隔腔3234内，并使清洗气体能够沿连接管3221进入到第二凹腔3212中，最终可使清洗气体从喷气头3216朝向硅片喷出，达到清理残留在硅片表面清洗液的目的，最后将转动电机3121与外界电源相接通，使转动电机3121开始工作并带动轴杆323转动，从而使旋转机构32整体能够被转动电机3121带动转动，使得从旋转机构32喷出的清洗液体和清洗气体能够对硅片的表面反复冲洗，增加硅片的清洗效果。
40.前述对本发明的具体示例性实施方案的描述是为了说明和例证的目的。这些描述并非想将本发明限定为所公开的精确形式，并且很显然，根据上述教导，可以进行很多改变和变化。对示例性实施例进行选择和描述的目的在于解释本发明的特定原理及其实际应用，从而使得本领域的技术人员能够实现并利用本发明的各种不同的示例性实施方案以及各种不同的选择和改变。本发明的范围意在由权利要求书及其等同形式所限定。