显示基板及显示装置的制作方法

1.本公开实施例涉及但不限于显示技术，尤指一种显示基板及显示装置。


背景技术：

2.有机发光二极管(organic light emitting diode， oled)显示模式具有响应时间短，色域高，对比度高，轻薄等显著特点，特别适合高端商务和专业创作。在巨大的笔记本(notebook，nb)市场下，olednb的市场份额较小，保持oled高色域，高对比度的优势，增加一些附加功能，是扩大oled nb市场的有效途径之一。


技术实现要素：

3.以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。
4.本公开实施例提供了一种显示基板及显示装置，实现二维和三维显示。
5.本公开实施例提供了一种显示基板，包括：依次设置在基底上的显示结构层和出光结构层，所述显示结构层包括至少一个第一像素岛和至少一个第二像素岛，所述第一像素岛和所述第二像素岛沿第一方向间隔设置，所述第一像素岛包括至少一个像素，所述第二像素岛包括至少一个像素，所述出光结构层包括设置在所述显示结构层远离基底一侧的至少一个第一驱动电极，设置在所述第一驱动电极远离所述基底一侧的第一介质层，设置在所述第一介质层远离所述基底一侧的第二介质层，设置在所述第二介质层远离所述基底一侧的至少一个第二驱动电极，所述第二介质层包括第二介质和可在第二介质中移动的多个第一极性的遮光电荷粒子，所述第一驱动电极与所述第一像素岛一一对应，所述第一驱动电极在所述基底的正投影与对应的所述第一像素岛在所述基底的正投影存在交叠，且所述第一驱动电极在所述基底的正投影位于所述第二像素岛在所述基底的正投影外。
6.在一示例性实施例中，所述遮光电荷粒子为黑色或者深色的电荷粒子。
7.在一示例性实施例中，所述遮光电荷粒子为钛离子。
8.在一示例性实施例中，所述第一像素岛和所述第二像素岛包括相同数量的像素，且所述第一像素岛和所述第二像素岛的像素布局相同。
9.在一示例性实施例中，所述第一像素岛包括一列像素，所述第二像素岛包括一列像素，所述第一方向为像素行方向。
10.在一示例性实施例中，所述第一极性为负。
11.在一示例性实施例中，所述像素包括多个子像素，所述第一介质层包括多个微透镜，一个所述微透镜对应至少一个子像素，所述微透镜用于透射对应的子像素发出的光线。
12.在一示例性实施例中，所述微透镜与第一像素岛和第二像素岛构成的像素岛集合中的像素岛一一对应，且所述微透镜在所述基底的正投影与对应的像素岛在所述基底的正投影存在交叠。
13.在一示例性实施例中，在平行于所述基底的平面上，所述微透镜沿垂直于所述微
透镜的轴线方向的最大宽度所述i为像素间距，所述z 为沿垂直于所述基底方向，视点与所述出光结构层靠近所述基底一侧的距离，所述f所述出光结构层沿垂直于所述基底方向的高度。
14.本公开实施例提供一种显示装置，包括上述任一实施例所述的显示基板。
15.在一示例性实施例中，所述显示装置还包括控制器，所述控制器被配置为，检测到第一显示指令，在所述第一驱动电极和第二驱动电极加载第一极性的电压；检测到第二显示指令，在所述第一驱动电极加载第二极性的电压，在所述第二驱动电极加载第一极性的电压。
16.本公开实施例包括一种显示基板及显示装置，所述显示基板包括：依次设置在基底上的显示结构层和出光结构层，所述显示结构层包括至少一个第一像素岛和至少一个第二像素岛，所述第一像素岛和所述第二像素岛沿第一方向间隔设置，所述第一像素岛包括至少一个像素，所述第二像素岛包括至少一个像素，所述出光结构层包括设置在所述显示结构层远离基底一侧的至少一个第一驱动电极，设置在所述第一驱动电极远离所述基底一侧的第一介质层，设置在所述第一介质层远离所述基底一侧的第二介质层，设置在所述第二介质层远离所述基底一侧的至少一个第二驱动电极，所述第二介质层包括第二介质和可在第二介质中移动的多个第一极性的遮光电荷粒子，所述第一驱动电极与所述第一像素岛一一对应，所述第一驱动电极在所述基底的正投影与对应的所述第一像素岛在所述基底的正投影存在交叠，且所述第一驱动电极在所述基底的正投影位于所述第二像素岛在所述基底的正投影外。本实施例提供的方案，通过设置包含遮光电荷粒子的出光结构层，在显示基板的第一驱动电极和第二驱动电极施加不同的电压时，可以分别实现二维显示和三维显示。
17.本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
18.在阅读并理解了附图和详细描述后，可以明白其他方面。
附图说明
19.附图用来提供对本公开技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本公开实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对技术方案的限制。
20.图1为一示例性实施例提供的显示基板截面示意图；
21.图2为一示例性实施例提供的显示基板平面示意图；
22.图3为一示例性实施例提供的第一驱动电极和像素的位置示意图；
23.图4为一示例性实施例提供的遮光电荷粒子吸附示意图；
24.图5为另一示例性实施例提供的遮光电荷粒子吸附示意图；
25.图6为一示例性实施例提供的光路示意图。
具体实施方式
26.下文中将结合附图对本公开实施例进行详细说明。在不冲突的情况下，本公开实
施例及实施例中的特征可以相互任意组合。
27.在附图的流程图示出的步骤可以在诸如一组计算机可执行指令的计算机系统中执行。并且，虽然在流程图中示出了逻辑顺序，但是在某些情况下，可以以不同于此处的顺序执行所示出或描述的步骤。
28.除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。
29.在附图中，有时为了明确起见，夸大表示了各构成要素的大小、层的厚度或区域。因此，本公开的实施方式并不一定限定于该尺寸，附图中各部件的形状和大小不反映真实比例。此外，附图示意性地示出了理想的例子，本公开的实施方式不局限于附图所示的形状或数值。
30.本公开中的“第一”、“第二”、“第三”等序数词是为了避免构成要素的混同而设置，并不表示任何顺序、数量或者重要性。
31.在本公开中，为了方便起见，使用“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示方位或位置关系的词句以参照附图说明构成要素的位置关系，仅是为了便于描述本说明书和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。构成要素的位置关系根据描述各构成要素的方向适当地改变。因此，不局限于在公开中说明的词句，根据情况可以适当地更换。
32.在本公开中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解。例如，可以是固定连接，或可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，或电连接；可以是直接相连，或通过中间件间接相连，或两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。
33.在本公开中，“电连接”包括构成要素通过具有某种电作用的元件连接在一起的情况。“具有某种电作用的元件”只要可以进行连接的构成要素间的电信号的授受，就对其没有特别的限制。“具有某种电作用的元件”的例子不仅包括电极和布线，而且还包括晶体管等开关元件、电阻器、电感器、电容器、其它具有各种功能的元件等。
34.在本公开中，“平行”是指两条直线形成的角度为-10
°
以上且10
°
以下的状态，因此，也包括该角度为-5
°
以上且5
°
以下的状态。另外，“垂直”是指两条直线形成的角度为80
°
以上且100
°
以下的状态，因此，也包括85
°
以上且95
°
以下的角度的状态。
35.在本公开中，“膜”和“层”可以相互调换。例如，有时可以将“导电层”换成为“导电膜”。与此同样，有时可以将“绝缘膜”换成为“绝缘层”。
36.图1为一示例性实施例提供的显示基板的截面示意图。图2为一示例性实施例提供的显示基板的平面示意图。图3为一示例性实施例提供的第一驱动电极和像素的位置关系示意图。如图1和图2所示，本实施例提供的显示基板包括在基底1上依次设置的显示结构层100、出光结构层200、偏光片30 和盖板40。所述显示结构层100可以包括至少一个第一像素岛101和至少一个第二像素岛102，且所述第一像素岛101和所述第二像素岛102沿第一方向间隔设置，所述第一像素岛101包括至少一个像素，所述第二像素岛102包括至少一个像素。
37.如图1所示，在垂直于所述基底1的平面上，所述显示结构层100可以包括依次设置的驱动结构层10、第一电极层、像素定义层12、发光层13、第二电极层14和封装层15，所述第
一电极层可以包括多个第一电极11。所述第二电极层15可以包括第二电极。
38.所述出光结构层200可以包括：设置在所述显示结构层100远离所述基底1一侧的第一驱动电极层，设置在所述第一驱动电极层远离所述基底1一侧的第一介质层22，设置在所述第一介质层22远离所述基底1一侧的第二介质层23，以及，设在所述第二介质层23远离所述基底1一侧的第二驱动电极层24；其中，所述第一驱动电极层可以包括多个第一驱动电极21，所述第一驱动电极21可以与所述第一像素岛101一一对应，所述第一驱动电极21在所述基底1的正投影与对应的所述第一像素岛101在所述基底1的正投影存在交叠，且所述第一驱动电极21在所述基底1的正投影位于所述第二像素岛 102在所述基底1的正投影外。所述第二介质层23可以包括第二介质232和可在第二介质232中移动的多个第一极性的遮光电荷粒子231。
39.所述第二驱动电极层24可以包括多个第二驱动电极，所述第二驱动电极与第一驱动电极21一一对应，所述第二驱动电极在基底1的正投影与该第二驱动电极对应的第一驱动电极21在所述基底1的正投影存在交叠。第二驱动电极层24的多个第二驱动电极可以彼此连接构成为整面电极。
40.本实施例提供的方案，在第一驱动电极21和第二驱动电极上施加第一极性的电压时，所述遮光电荷粒子231均匀分散在第二介质232中，由于遮光电荷粒子231不多，对透过率影响较小，可以实现二维显示，如图1所示。在第一驱动电极21上施加第二极性的电压，第二驱动电极上施加第一极性的电压时，所述遮光电荷粒子231被第一驱动电极21吸引，吸附在第一驱动电极21对应的第一介质层22的第一区域的表面，第一区域在所述基底1的正投影与所述第一驱动电极21在所述基底1的正投影一致，从而第一像素岛101 至少部分像素被遮光电荷粒子231遮挡，第二像素岛102的像素正常出光，出射至左右眼的光线不一致，从而可以实现三维显示。其中，第一极性和第二极性不同。
41.本实施例提供的显示基板，通过设置包含遮光电荷粒子的出光结构层，在显示基板的第一驱动电极和第二驱动电极施加不同的电压时，可以分别实现二维显示和三维显示。
42.在一示例性实施例中，所述第一驱动电极21和所述第二驱动电极可以为透明电极。所述第一驱动电极21和所述第二驱动电极可以使用氧化铟锡 (indium tin oxide，ito)或氧化铟锌(indium zinc oxide，izo)等制备。
43.在一示例性实施例中，所述第一极性比如为正或者负，即遮光电荷粒子 231为正电荷粒子或者负电荷粒子。遮光电荷粒子231负电荷粒子时，在第一驱动电极21和第二驱动电极上加载负电压时，遮光电荷粒子231均匀分布在第二介质232中，像素正常出光，实现二维显示；在第一驱动电极21上加载正电压，在第二驱动电极上加载负电压时，遮光电荷粒子231吸附在第一介质层22靠近第二介质层23且与第一驱动电极21对应的表面，像素正常出光，实现三维显示。遮光电荷粒子231正电荷粒子时，在第一驱动电极21和第二驱动电极上加载正电压时，遮光电荷粒子231均匀分布在第二介质232中，像素正常出光，实现二维显示；在第一驱动电极21上加载负电压，在第二驱动电极上加载正电压时，遮光电荷粒子231吸附在第一介质层22靠近第二介质层23与第一驱动电极21对应的表面，像素正常出光，实现三维显示。
44.在一示例性实施例中，所述第一方向比如为像素行方向，或者，像素列方向。
45.在一示例性实施例中，所述遮光电荷粒子231比如为黑色或者深色的电荷粒子，从而实现遮光。
46.在一示例性实施例中，所述遮光电荷粒子231比如为钛离子。
47.在一示例性实施例中，所述像素可以包括多个子像素，比如，包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素。所述第一颜色子像素比如为红色子像素r，第二颜色子像素比如为蓝色子像素b，第三颜色子像素比如为绿色子像素g，如图2所示。所述红色子像素r、蓝色子像素b和绿色子像素g的布局仅为示例，本公开实施例对此不作限定。在另一示例性实施例中，所述像素可以包括四个子像素，比如包括一个红色子像素、一个蓝色子像素和两个绿色子像素，等等。
48.在一示例性实施例中，所述第一像素岛101和所述第二像素岛102可以包括相同数量的像素，且所述第一像素岛101和所述第二像素岛102的像素布局相同，比如，第一像素岛101包括两个像素，沿像素行方向排列，第二像素岛102包括两个像素，沿像素行方向排列。
49.在一示例性实施例中，所述第一像素岛101比如包括一列或一行像素，所述第二像素岛102比如包括一列或一行像素，如图2所示。但本公开实施例不限于此，所述第一像素岛101比如包括一个像素，所述第二像素岛102 比如包括一个像素；或者，第一像素岛101包括两个像素，第二像素岛102 包括两个像素，等等。一行像素比如为与同一扫描信号线连接的一组像素。
50.在一示例性实施例中，如图3所示，所述第一像素岛101在基底1的正投影位于所述第一驱动电极21在所述基底1的正投影内，其中，所述像素定义层12包括多个像素开口，所述第一像素岛101在基底1的正投影位于所述第一驱动电极21在所述基底1的正投影内包括：所述第一像素岛101的像素开口在所述基底1的正投影位于所述第一驱动电极21在所述基底1的正投影内。从而，在第一驱动电极21上加载和遮光电荷粒子231的极性不同的电压时，所述第一驱动电极21吸引遮光电荷粒子231对第一像素岛101的像素发出的光进行遮挡。
51.在一示例性实施例中，多个第一驱动电极21可以通过连接电极25进行电连接，加载相同的电压信号，如图3所示。图3所示的连接方式仅为示例，本公开实施例不限于此。
52.在一示例性实施例中，所述第一介质层22可以包括多个微透镜221，一个所述微透镜221对应至少一个子像素，所述微透镜221用于透射对应的子像素发出的光线。本实施例中，可以使得子像素发出的角度较大的光线从子像素对应的微透镜中射出，提高了光线的利用率，提高出光效率。
53.在一示例性实施例中，所述第二介质层23的第二介质的折射率可以小于形成所述微透镜221的第一介质的折射率。
54.在一示例性实施例中，一个所述微透镜221可以对应一个子像素，或者，可以对应一个像素，或者，可以对应一个像素岛，所述像素岛可以是第一像素岛101或者第二像素岛102。如图1所示，一个微透镜221对应一个像素岛。
55.在一示例性实施例中，所述微透镜221可以与由第一像素岛101和第二像素岛102构成的像素岛集合中的像素岛一一对应，且所述微透镜221在所述基底1的正投影与所述微透镜221对应的像素岛在所述基底1的正投影存在交叠。即每个第一像素岛101对应一个微透镜221，每个第二像素岛102对应一个微透镜221。在一示例性实施例中，第一像素岛101包
括一列像素、第二像素岛102包括一列像素，所述微透镜221可以为柱透镜，该柱透镜的轴线可以和像素列方向平行。
56.图4为一示例性实施例提供的遮光电荷粒子吸附示意图。如图4所示，本实施例中，第一驱动电极21对应一个像素岛，一个像素岛对应一个微透镜 221，遮光电荷粒子为负电荷粒子。在第一驱动电极21加载正电压，第二驱动电极加载负电压时，遮光电荷粒子231吸附在微透镜221靠近第二介质层 23一侧的表面。
57.在另一示例性实施例中，如图5所示，当第一像素岛101对应两个微透镜(每列子像素对应一个微透镜)，第一驱动电极21对应第一像素岛101时，在第一驱动电极21加载正电压，第二驱动电极加载负电压时，遮光电荷粒子 231吸附在第一像素岛101对应的两个微透镜221靠近第二介质层23一侧的表面，以及两个微透镜221之间的区域的表面。
58.在一示例性实施例中，所述第一介质层22可以使用可以聚乙烯对苯二甲酸脂(pet)、聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)或树脂等制备。比如，可以采用聚乙烯对苯二甲酸脂(pet)、聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)或树脂材料作为基材，在所述基材上通过紫外固化、压印等方式获得微透镜221图案。
59.在一示例性实施例中，所述第二介质232可以使用中性分散剂制备，所述分散剂可以是有机或者无机分散剂。
60.在一示例性实施例中，所述驱动结构层10可以包括依次设置在基底上的有源层、栅电极、源电极和漏电极等。
61.在一示例性实施例中，上述显示基板可以是oled显示基板，或者量子点发光二极管(quantum dot light emitting diode，qled)显示基板等。图6 为一示例性实施提供的光路示意图。以显示基板为笔记本的显示基板为例。如图6所示，一个人分为两个视点：视点1和视点2，区域r的光线进入视点1，区域l的光线进入视点2，且区域l和区域r大小相同。在平行于所述基底1的平面上，所述微透镜221沿垂直于所述微透镜221的轴线方向的最大宽度微透镜221的宽度l即为在垂直于所述微透镜的轴线的平面上，所述微透镜的截面中距离最长的两点间的距离，所述i为像素间距，所述z为沿垂直于所述基底1方向，视点与所述出光结构层200靠近所述基底1 一侧的距离，所述f所述出光结构层200沿垂直于所述基底1方向的高度。z 比如为500毫米(mm)至600mm，f≤0.5mm，i可以为21.5微米(um)至 106um，以f为0.5mm为例，则l可以为43um至212um。
62.在一示例性实施例中，当观看距离(即视点1或视点2与所述出光结构层200靠近所述基底1一侧的距离)z可以为500mm至600mm之间，本实施例中取600mm，显示基板的像素密度为240(pixels per inch，ppi，每英寸像素)，则像素间距(pixel pitch)i为106um，人眼间的距离(视点1和视点2 的距离)e比如为65mm。出光结构层200沿垂直于基底1方向的厚度f以0.5mm 为例，根据上述公式进行计算，可得微透镜的宽度l约为211.8um，工艺较易实现。本实施例中211.8um仅为示例，可以根据需要设置为其他值，本实施例中，一个微透镜可以对应两列像素。
63.下面通过本实施例显示基板的制备过程进一步说明本实施例的技术方案。本实施例中所说的“构图工艺”包括沉积膜层、涂覆光刻胶、掩模曝光、显影、刻蚀、剥离光刻胶等处
理，是相关技术中成熟的制备工艺。本实施例中所说的“光刻工艺”包括涂覆膜层、掩模曝光和显影，是相关技术中成熟的制备工艺。沉积可采用溅射、蒸镀、化学气相沉积等已知工艺，涂覆可采用已知的涂覆工艺，刻蚀可采用已知的方法，在此不做具体的限定。在本实施例的描述中，需要理解的是，“薄膜”是指将某一种材料在基底上利用沉积或涂覆工艺制作出的一层薄膜。若在整个制作过程当中该“薄膜”无需构图工艺或光刻工艺，则该“薄膜”还可以称为“层”。若在整个制作过程当中该“薄膜”还需构图工艺或光刻工艺，则在构图工艺前称为“薄膜”，构图工艺后称为“层”。经过构图工艺或光刻工艺后的“层”中包含至少一个“图案”。本公开中所说的“a和b同层设置”是指，a和b通过同一次构图工艺同时形成。
64.所述显示基板的制备包括：
65.形成基底1；
66.在基底1上形成驱动结构层10；
67.在所述驱动结构层10远离所述基底1一侧依次形成第一电极层、像素定义层12、发光层13、第二电极层14和封装层15；
68.在所述封装层15远离所述基底1一侧沉积透明导电薄膜，通过构图工艺对透明导电薄膜进行构图，形成第一驱动电极21图案；
69.在所述第一驱动电极21远离所述基底1一侧涂覆第一介质薄膜，通过纳米压印形成所述第一介质层22图案；
70.在所述第一介质层22远离所述基底一侧涂覆混有所述遮光电荷粒子231 的第二介质薄膜，形成所述第二介质层23图案；
71.在所述第二介质层23远离所述基底1一侧沉积透明导电薄膜，形成第二驱动电极层24。
72.在另一示例性实施例中，可以在一个基板上制备显示结构层100，在另一基板上制备出光结构层200，再将出光结构层200贴合到显示结构层100远离基底1一侧即可。
73.本公开实施例还提供了一种显示装置，包括前述实施例的显示基板。
74.在一示例性实施例中，所述显示装置还可以包括控制器，所述控制器被配置为，检测到第一显示指令，在所述第一驱动电极和第二驱动电极加载第一极性的电压；检测到第二显示指令，在所述第一驱动电极加载第二极性的电压，在所述第二驱动电极加载第一极性的电压。本实施例中，第一显示指令比如为进行二维显示的指令，第二显示指令比如为进行三维显示的指令，所述第一显示指令和第二显示指令可以是用户输入的指令，或者，显示装置设置的显示选择按键的参数等等。
75.显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
76.虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。