检查分析仪系统的质谱仪的质量轴校准的有效性的技术的制作方法

技术特征：
1.一种用于检查分析仪系统的质谱仪(ms)的质量轴校准的有效性的方法，所述方法包括：获得跨越所述质谱仪的预定m/z测量范围的质量轴检查样品；自动处理所述质量轴检查样品，包括：使用所述ms对所述ms的所述预定m/z测量范围内的至少两个质量轴点执行不同类型的多个全扫描模式ms测量以获得测量数据，其中所述不同类型包括至少正模式下的第一全扫描ms测量和负模式下的第二测量或者至少所述质谱仪的第一滤质器的第一全扫描测量和所述质谱仪的第二滤质器的第二全扫描模式；其中选择多个不同的全扫描ms测量，使得所述质谱仪中的最大测量时间少于5分钟；将所述至少两个质量轴点中的每个质量轴点的所述测量数据与相应的参考数据进行比较；基于比较步骤的结果来确定质量轴校准条件是否超出规范。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述质量轴检查样品包括：跨越所述质谱仪的全m/z测量范围的两种或更多种不同物质的混合物，其中所述至少两个质量轴点由所述混合物中的不同物质提供；或能够破碎成不同的m/z值的两个或更多个片段的单一物质，其中所述至少两个质量轴点由不同片段提供；或被选择以在不同的m/z值通过所述质谱仪中的离子或原子或分子的组合形成簇以提供所述至少两个质量轴点的一种或多种物质。3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其进一步包括在所述分析仪系统的自动化排程过程中排程所述质量轴检查样品的处理，优选地其中所述最大测量时间少于2分钟。4.根据前述权利要求1至3中任一项所述的方法，其进一步包括：在执行多个全扫描模式质谱测量的步骤之前，在单次色谱运行中处理所述质量轴检查样品以分离所述质量轴检查样品中包含的两种或更多种物质。5.根据前述权利要求3至4中任一项所述的方法，其中在自动化排程过程中排程所述质量轴检查样品的处理包括将对所述质谱仪或包括所述质谱仪的分析仪的吞吐量的影响降至最低。6.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中将所述至少两个质量轴点中的每个质量轴点的所述测量数据与相应的参考数据进行比较包括：评估所述质量轴点中的每个质量轴点的所述测量数据中的至少一个峰，以获得所述至少两个质量轴点中的每个质量轴点的至少一个测量参数；将所述至少两个质量轴点中的每个质量轴点的所述至少一个测量参数与相应的参考数据进行比较；以及基于比较步骤的结果来确定质量轴校准条件是否超出规范，优选地其中所述至少一个测量参数包括峰位置、峰宽、峰基线分离和峰形中的一者或多者。7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其进一步包括：如果确定步骤得出所述质量轴校准条件超出规范，则排程或触发包括单独测量的质量轴调整程序，或者如果所述质量轴校准条件未超出规范，则恢复所述质谱仪的操作。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中所述最大测量时间被选择为所述质谱仪的生产样品的测量窗口的持续时间，或者被选择为所述质谱仪的生产样品的测量窗口的持续时间的整数倍。9.根据前述权利要求1至8中任一项所述的方法，其中检查质谱仪的质量轴校准的有效性的所述方法包括质量间隔为至少2amu的至少50个测量循环。10.根据前述权利要求1至9中任一项所述的方法，其中执行质谱测量以获得所述至少两个质量轴点中的每个质量轴点的测量数据包括对每个质量轴点使用分离的和预定义的测量范围。11.根据前述权利要求1至10中任一项所述的方法，其中比较所述测量数据包括对多个质谱仪测量循环求平均值。12.根据权利要求11所述的方法，其中将所述不同类型的多个全扫描模式ms测量的结果组合以获得至少两个m/z点中的每个m/z点的所述测量数据，任选地其中对所述不同类型的多个全扫描模式ms测量的结果求平均值以获得至少两个m/z点中的每个m/z点的所述测量数据。13.根据前述权利要求1至12中任一项所述的方法，其中所述不同类型的多个全扫描模式ms测量进一步包括从包括以下各项的列表中选择的一个或多个测量：负模式下的测量；正模式下的测量；对所述质谱仪的特定滤质器的测量；不同扫描速度下的测量；不同扫描分辨率下的测量；使用所述分析仪系统的不同离子源进行的测量；和使用所述分析仪系统的不同检测器进行的测量。14.根据前述权利要求1至13中任一项所述的方法，其中如果确定质量轴校准条件是否超出规范的步骤得出所述质量轴校准条件在规范内但距超出规范的阈值在预定距离内，则排程预防性维护。15.一种计算机系统，其配置为执行根据权利要求1至14所述的方法中任一种方法的步骤。

技术总结
在一个方面，本公开涉及一种用于检查分析仪系统的质谱仪(MS)的质量轴校准的有效性的方法，所述方法包括：获得跨越所述质谱仪的预定m/z测量范围的质量轴检查样品；以及自动处理所述质量轴检查样品，包括：使用所述MS对所述MS的所述预定m/z测量范围内的至少两个质量轴点执行不同类型的多个全扫描模式MS测量以获得测量数据，其中所述不同类型包括至少正模式下的第一全扫描MS测量和负模式下的第二测量或者至少所述质谱仪的第一滤质器的第一全扫描测量和所述质谱仪的第二滤质器的第二全扫描模式；其中选择多个不同的全扫描MS测量，使得所述质谱仪中的最大测量时间少于5分钟；将所述至少两个质量轴点中的每个质量轴点的所述测量数据与相应的参考数据进行比较；以及基于比较步骤的结果来确定质量轴校准条件是否超出规范。否超出规范。否超出规范。


技术研发人员：S
受保护的技术使用者：豪夫迈
技术研发日：2020.09.17
技术公布日：2022/5/25