一种足弓支撑鞋垫

技术特征：
1.一种足弓支撑鞋垫，其特征在于，所述足弓支撑鞋垫包括表层(1)、本体(2)和内嵌支撑部件(3)；所述表层(1)设置在本体(2)上表面，内嵌支撑部件(3)以嵌入的方式设置在本体(2)的底部；在所述本体(2)的上表面的前脚掌部位和足跟部位分别设置足横弓支撑凸起(21)和足跟缓冲凸起(22)；所述内嵌支撑部件(3)从前脚掌部位向后延伸到足跟部位，并在前端和后端向中间位置分别开设弧形的前足槽(31)和足跟槽(32)；前足槽(31)和足跟槽(32)的内边缘轮廓线分别与足横弓支撑凸起(21)和足跟缓冲凸起(22)的外周轮廓相匹配，并沿足横弓支撑凸起(21)和足跟缓冲凸起(22)的外周轮廓将足横弓支撑凸起(21)和足跟缓冲凸起(22)的至少一半围绕其中。2.根据权利要求1所述的足弓支撑鞋垫，其特征在于，所述本体(2)包括脚掌部位(21)、和立体包裹结构的足弓部位(22)以及后跟部位(23)；足弓部位(22)包括自本体(2)底部沿足部内侧和外侧轮廓向上延伸形成的内侧纵弓包裹(221)和外侧足弓包裹(222)；内侧纵弓包裹(221)的上轮廓线为抛物线状，最高处位于足部舟状骨处，当所述足弓支撑鞋垫平置于支撑面时，最高处的高度为16-25mm；外侧足弓包裹(222)的平均高度为10-12mm，并向脚掌部位(21)逐渐降低并齐平；后跟部位(22)包括自本体(2)底部沿足部后跟轮廓向上延伸形成的u型包裹(231)；u型包裹上轮廓线高度为10-12mm。3.根据权利要求2所述的足弓支撑鞋垫，其特征在于，所述内嵌支撑部件(3)为内侧足弓处和外侧足弓处分别向上拱起的曲面结构，且其曲面与本体(2)曲面相匹配；内嵌支撑部件(3)在内侧足弓处向上拱起形成支撑部件内侧圆弧(36)，支撑部件内侧圆弧上边缘的最高处高度为8-10mm，支撑部件(3)在外侧足弓处向上拱起形成支撑部件外侧圆弧(37)，支撑部件外侧圆弧(37)上边缘的最高处高度为3-5mm；所述前足槽(31)将内嵌支撑部件(3)的前端分成两个前足支撑部件(33)，足跟槽(32)将内嵌支撑部件(3)的后端分成两个足跟支撑件(34)；前足支撑件(33)和足跟支撑件(34)的端部的厚度分别为0.2-0.5mm；足跟支撑件(34)外侧边缘形成弧形凸起(35)，所述弧形凸起(35)高度为2.5-3.5mm。4.根据权利要求1～3任意一项所述的足弓支撑鞋垫，其特征在于，所述本体(2)包括脚掌部位(21)、和立体包裹结构的足弓部位(22)以及后跟部位(23)；当所述足弓支撑鞋垫平置于支撑面时，脚掌部位(21)与足弓部位(22)的交界处的底面、以及足跟部位(22)的底面与支撑面接触；所述脚掌部位(21)为平面结构，并与支撑面呈一定角度，脚掌部位(21)的前端下表面高度为10-15mm；足弓部位(22)向上拱起使得足弓部位下表面为弧形，拱起最高处位于足部舟状骨位置，最高处高度为4-8mm。5.根据权利要求1～3任意一项所述的足弓支撑鞋垫，其特征在于，所述足横弓支撑凸起(21)前端与前脚掌跖趾线距离为5-10mm；足跟缓冲凸起(22)的中心位置位于踵心部位。6.根据权利要求1～3任意一项所述的足弓支撑鞋垫，其特征在于，足横弓支撑凸起(21)的长度为45-55mm，最宽度处位于距离前端1/3处，宽度为37-43mm；足跟缓冲凸起(22)为椭圆形，长轴为45-55mm，短轴比长轴小4-6mm；足横弓支撑凸起(21)为从本体(2)上表面拱起的弧形凸起，最高点位于最宽处的中心位置，最高点高度为3-5mm；足跟缓冲凸起(22)为从本体(2)上表面拱起的弧形凸起，最高点位于其中心位置，最高点高度为2.5-3.5mm。7.根据权利要求1～3任意一项所述的足弓支撑鞋垫，其特征在于，所述内嵌支撑部件(3)的材质为刚性材料；所述本体(2)的材质为发泡材料。8.根据权利要求1～3任意一项所述的足弓支撑鞋垫，其特征在于，所述内嵌支撑部件
(3)的厚度为1-1.2mm；所述本体(2)的厚度为3-5mm。9.根据权利要求1～3任意一项所述的足弓支撑鞋垫，其特征在于，所述内嵌支撑部件(3)的两侧轮廓线和本体(2)的轮廓线相匹配，二者间距为5-8mm。10.根据权利要求1～3任意一项所述的足弓支撑鞋垫，其特征在于，本体(2)与内嵌支撑部件(3)是通过定位销(4)和定位孔(5)固定连接的；所述定位孔(5)的直径为2-3mm。

技术总结
本实用新型提供了一种足弓支撑鞋垫，包括表层(1)、本体(2)和内嵌支撑部件(3)；表层(1)设置在本体(2)上表面，内嵌支撑部件(3)设置在本体(2)底部；本体(2)上表面的前脚掌部位和足跟部位设置足横弓支撑凸起(21)和足跟缓冲凸起(22)；内嵌支撑部件(3)从前脚掌部位向后延伸到足跟部位，分别在前端和后端向中间位置开设弧形的前足槽(31)和足跟槽(32)；前足槽(31)和足跟槽(32)的内边缘轮廓线与足横弓支撑凸起(21)和足跟缓冲凸起(22)的外周轮廓相匹配，并沿足横弓支撑凸起(21)和足跟缓冲凸起(22)的外周轮廓将足横弓支撑凸起(21)和足跟缓冲凸起(22)的至少一半围绕其中。凸起(22)的至少一半围绕其中。凸起(22)的至少一半围绕其中。


技术研发人员：赵碎浪 李硕 刘恒艺
受保护的技术使用者：北京服装学院
技术研发日：2021.12.17
技术公布日：2022/5/17