一种耐水洗镭射烫布膜的制作方法

1.本实用新型涉及烫布膜技术领域，尤其是涉及一种耐水洗镭射烫布膜。


背景技术：

2.国内烫布膜技术发展已经十多年了，市面上大多为普通单彩烫布膜和普通镭射烫布膜，耐水洗烫布膜是近几年发展起来的新型烫布膜，因其具有良好的水洗效果，使产品可以承受多次的水洗功能而广受大众喜爱，但因技术限制，水洗效果也仅仅局限于单彩烫布膜上，然而单彩烫布膜没法做镭射。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种耐水洗镭射烫布膜，后期烫印时通过胶水把图案全部或局部转移至布上，保护层和色层可以承受镍板压印，具有良好的耐水洗功能。
4.为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：
5.一种耐水洗镭射烫布膜，包括依次叠置的基膜、离型层、保护层、色层、阻隔层和背胶层，所述离型层的厚度为0.3-0.4μm，所述保护层的厚度为0.5-0.6μm，所述色层的厚度为1.2-1.3μm，所述色层压印有镭射信息，所述镭射信息延伸至保护层内，镭射信息的深度为1.3-1.6μm。
6.所述基膜的厚度为12-15μm。
7.所述基膜可剥离。
8.所述阻隔层为真空镀铝层。
9.所述阻隔层的厚度为0.03-0.04μm。
10.所述背胶层的厚度为0.35-0.45μm。
11.本实用新型的有益效果是：保护层和色层叠加后可直接压印镭射镍板，实现镭射效果图案，在图案多样化上更加多变、美观；pet膜可剥离，较为环保；保护层和背胶层将镭射信息和铝层保护在内，使得产品具有良好的耐水洗功能，延长了使用寿命。
附图说明
12.图1为本实用新型的结构示意图。
13.图中：基膜1、离型层2、保护层3、色层4、阻隔层5、背胶层6。
具体实施方式
14.下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步描述：
15.如图1所示，一种耐水洗镭射烫布膜，包括依次叠置的基膜1、离型层2、保护层3、色层4、阻隔层5和背胶层6。
16.所述基膜1的厚度为12-15μm，基膜1采用pet膜。
17.所述基膜1可剥离，厚度越厚剥离越紧。
18.所述离型层2的厚度为0.3-0.4μm，离型层2的主要成分为20％水性聚氨酯树脂 80％醇类溶剂，离型层2采用目前的常规配方制成。
19.保护层3的主要成分为15％丙烯酸树脂 5％聚丙烯 80％油性溶剂。聚丙烯在80℃以下能耐酸、碱、盐液及多种有机溶剂的腐蚀，能够有效起到保护作用。
20.色层4的主要成分为18％丙烯酸树脂 77％油性溶剂 5％高分子量聚二甲基硅氧烷乳液，加入高分子量聚二甲基硅氧烷乳液可在模压时起到防粘版作用。
21.色层4中加入色粉，起到调色作用，色粉的含量极少。
22.所述保护层3的厚度为0.5-0.6μm，所述色层4的厚度为1.2-1.3μm，所述色层4压印有镭射信息，所述镭射信息延伸至保护层3内，镭射信息的深度为1.3-1.6μm，镭射信息的深度小于保护层3和色层4的厚度之和。
23.离型层2、保护层3和色层4采用普通涂布工艺，涂布时采用不同网纹辊，涂布速度100米/分钟，涂布色层4后压印铂金镍板模压镭射信息，模压温度170～180℃，压力0.3～0.4mpa，车速40～50米/分钟。
24.其中在涂布保护层3后需放入烘房内熟化48小时，烘房温度70～80℃，保护层3的完全熟化是为了使产品有更好的耐水洗性能。
25.离型层2、保护层3和色层4相加厚度达到2.0-2.3μm，足够的厚度才能保证模压镭射信息时不会压断涂层。同时由于色层4的抗粘性能，生产时使其在较厚的状况下不粘至镍板上。
26.所述阻隔层5为真空镀铝层。
27.所述阻隔层5的厚度为0.03-0.04μm。
28.通过将真空镀铝层设置在保护层3和背胶层6之间，有效避免了洗涤时真空镀铝层的破坏，从而有效维持烫金效果，保证了烫金的美观性。
29.所述背胶层6的厚度为0.35-0.45μm。背胶层6的主要成分为15％改性乙烯基树脂 3％二氧化硅 82％油性溶剂，二氧化硅的化学性质比较稳定，不跟水反应。
30.背胶层6采用普通涂布工艺，之后同样需放入烘房内熟化48小时，烘房温度70～80℃，背胶层6的完全熟化也是为了使产品有更好的耐水洗性能。
31.背胶层6主要功能是保护铝层，使产品耐水洗，同时与后续转移到布上的胶水具有良好的结合力。
32.以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.一种耐水洗镭射烫布膜，其特征在于：包括依次叠置的基膜(1)、离型层(2)、保护层(3)、色层(4)、阻隔层(5)和背胶层(6)，所述离型层(2)的厚度为0.3-0.4μm，所述保护层(3)的厚度为0.5-0.6μm，所述色层(4)的厚度为1.2-1.3μm，所述色层(4)压印有镭射信息，所述镭射信息延伸至保护层(3)内，镭射信息的深度为1.3-1.6μm。2.如权利要求1所述一种耐水洗镭射烫布膜，其特征在于：所述基膜(1)的厚度为12-15μm。3.如权利要求1所述一种耐水洗镭射烫布膜，其特征在于：所述基膜(1)可剥离。4.如权利要求1所述一种耐水洗镭射烫布膜，其特征在于：所述阻隔层(5)为真空镀铝层。5.如权利要求1所述一种耐水洗镭射烫布膜，其特征在于：所述阻隔层(5)的厚度为0.03-0.04μm。6.如权利要求1所述一种耐水洗镭射烫布膜，其特征在于：所述背胶层(6)的厚度为0.35-0.45μm。

技术总结
本实用新型公开了一种耐水洗镭射烫布膜，包括依次叠置的基膜、离型层、保护层、色层、阻隔层和背胶层，所述离型层的厚度为0.3-0.4μm，所述保护层的厚度为0.5-0.6μm，所述色层的厚度为1.2-1.3μm，所述色层压印有镭射信息，所述镭射信息延伸至保护层内，镭射信息的深度为1.3-1.6μm。本实用新型后期烫印时通过胶水把图案全部或局部转移至布上，保护层和色层可以承受镍板压印，具有良好的耐水洗功能。具有良好的耐水洗功能。具有良好的耐水洗功能。


技术研发人员：马卫军 孙鹏樑
受保护的技术使用者：绍兴京华激光材料科技有限公司
技术研发日：2021.11.29
技术公布日：2022/4/15