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一种多层共挤结构扩散板及其应用和制备方法与流程

2022-03-26 04:54:13 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种多层共挤结构扩散板,其特征在于,包括上保护层、中间光学层组及下保护层,所述中间光学层组设置于上保护层和下保护层之间,所述上保护层远离中间光学层组一侧设有提高光线扩散的第一光学纹路,所述下保护层远离中间光学层组一侧设有第二光学纹路,所述中间光学层组包括结构层、发泡层及量子点层,且所述发泡层内部设有若干个空腔。2.如权利要求1所述的一种多层共挤结构扩散板,其特征在于,所述结构层的原料质量百分比为:塑料原料90-99%、稳定剂0.01-1%、有机硅0.1-3%、无机扩散剂0.1-3%、扩散油0.1-3%、苯乙烯-丁二烯共聚物0.1-2%、硅酸镁盐类矿物0.1-6%。3.如权利要求1所述的一种多层共挤结构扩散板,其特征在于,所述量子点层的原料质量百分比为:塑料原料90-99%、稳定剂0.01-1%、有机硅0.1-3%、无机扩散剂0.1-3%、扩散油0.1-3%、苯乙烯-丁二烯共聚物0.1-2%、硅酸镁盐类矿物0.1-6%、量子点0.01-1%、钛白粉0.2-5%。4.如权利要求1所述的一种多层共挤结构扩散板,其特征在于,所述发泡层的原料质量百分比为:gpps原料95-99%、抗氧化剂0.3-0.6%、有机硅扩散剂0.6-1%、发泡剂0.5-2%、抗uv0.3-0.6%、增韧剂0.5-2%、稳定剂0.3-0.6%、成核剂1-5%。5.如权利要求1所述的一种多层共挤结构扩散板,其特征在于,所述上保护层和下保护层原料配比相同,所述上保护层的原料质量百分比为:塑料原料90-99%、稳定剂0.01-1%、有机硅0.1-3%、无机扩散剂0.1-3%、扩散油0.1-3%、苯乙烯-丁二烯共聚物0.1-2%、硅酸镁盐类矿物0.1-6%。6.如权利要求1所述的一种多层共挤结构扩散板,其特征在于,所述中间光学层组还包括若干个过渡层,所述过渡层用于上保护层、结构层、发泡层、量子点层及下保护层中任意两层之间的过渡粘合,所述过渡层由ms或者mp、pmma及ps的聚合物制成。7.如权利要求1所述的一种多层共挤结构扩散板,其特征在于,所述第一光学纹路为若干个棱条或磨砂状结构组成,所述第二光学纹路为若干个棱条或磨砂状结构组成,所述棱条成v字型结构,且所述棱条的顶部成圆弧状。8.如权利要求1-7任一项所述的一种多层共挤结构扩散板,其特征在于,所述结构层、量子点层、发泡层、上保护层及下保护层均添加有ps耐热剂,所述ps耐热剂的质量百分比为:0.1-3%。9.如权利要求1-7任一项所述的一种多层共挤结构扩散板的应用,所述多层共挤结构扩散板应用于新型显示,光电照明,车显互联,会议教育显示,平板广告等显示屏幕。10.一种权利要求1的多层共挤结构扩散板制备方法,其特征在于,包括以下步骤:准备上保护层、结构层、量子点层、发泡层及下保护层的原料;将上述准备好的上保护层、结构层、量子点层、发泡层及下保护层的原料分别进行混合均匀;将混合好的原料分别加入螺杆挤出设备进行加热,形成熔融状态;通过螺杆挤出设备的模头以上保护层、结构层、量子点层、发泡层及下保护层的组合挤出,形成多层复合结构;在模头处设有第一网辊和第二网辊,第一网辊和第二网辊成上下排列设置,通过第一网辊对上保护层表面形成第一光学纹路,通过第二网辊对下保护层表面形成第二光学纹
路,且后续还有多根冷却辊进行冷却定型。

技术总结
本发明公开了一种多层共挤结构扩散板,包括上保护层、中间光学层组及下保护层,所述中间光学层组设置于上保护层和下保护层之间,所述上保护层远离中间光学层组一侧设有提高光线扩散的第一光学纹路,所述下保护层远离中间光学层组一侧设有第二光学纹路,所述中间光学层组包括结构层、发泡层及量子点层,且所述发泡层内部设有若干个空腔。本发明提供了一种多层共挤结构扩散板,具有较高的亮度,集增光扩散高色域,高遮蔽性与高光学均一性为一体,能够满足新型显示领域的需求。本发明还提供了一种多层共挤结构扩散板的应用。本发明还提供了一种多层共挤结构扩散板制备方法。一种多层共挤结构扩散板制备方法。一种多层共挤结构扩散板制备方法。


技术研发人员:凌高德
受保护的技术使用者:广东瑞捷光电股份有限公司
技术研发日:2021.10.23
技术公布日:2022/3/25
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