一种残膜回收机防缠绕挑膜装置的制 一种秧草收获机用电力驱动行走机构

一种石材幕墙的错缝节点结构的制作方法

2022-03-16 21:55:05 来源:中国专利 TAG:


1.本技术涉及石材幕墙的技术领域,尤其是涉及一种石材幕墙的错缝节点结构。


背景技术:

2.目前,石材幕墙是指由石材面板和支承结构(横梁立柱、钢结构、连接件等等)组成,不承担主体结构荷载与作用的建筑围护结构。
3.石材面板沿主体结构的高度依次自下而上竖向分布呈若干行,每行又围绕主体结构的周侧壁依次间隔分布,每行中相邻两石材面板之间形成竖缝。
4.幕墙包括开放式幕墙和封闭式幕墙。封闭式幕墙指幕墙面板之间采取注胶、胶条、密封胶等密封措施的幕墙,开放式幕墙的面板之间不需要密封措施。
5.相较而言,开放式幕墙由于减少了注胶、胶条或是密封胶,使得开放式幕墙具有更好的透气防水性以及装饰性能,但是其需在主体结构及支撑结构增设防水处理,这样使得开放式幕墙的施工成本将高于封闭式幕墙。
6.因此,申请人认为:需要一种具有较好装饰性能的石材幕墙的错缝节点结构,用以封闭式石材幕墙外立面上模仿开放式石材幕墙的造型。


技术实现要素:

7.为了模仿开放式幕墙的造型,本技术提供一种石材幕墙的错缝节点结构,其方案如下:
8.一种石材幕墙的错缝节点结构,位于石材幕墙的相邻两水平的石材面板之间,其中一石材面板为板材a,另一石材面板为板材b,其包括遮蔽块,所述遮蔽块一端固定连接于板材a靠近主体结构的一侧,所述遮蔽块相对的另一端连接于板材b靠近主体结构的一侧;所述板材a与板材b之间间隔形成模仿缝,所述遮蔽块遮蔽模仿缝。
9.通过上述技术方案,模仿缝和遮蔽块形成模仿开放式幕墙的缝结构的错缝节点结构,并且遮蔽块还具有保障板件a和板件b之间密封性能的作用,即在采用较为是会的封闭式石材幕墙的同时,使得本技术的石材幕墙对开放式石材幕墙的外立面造型具有一定的模仿效果,从而提高本技术封闭式石材幕墙的造型。
10.优选的,所述遮蔽块背离主体结构的一侧开设有延伸槽,延伸槽平行模仿缝设置,所述延伸槽一端与模仿缝靠近板材a的一侧平齐,所述延伸槽相对的另一端位于板材b靠近主体结构的一侧。
11.通过上述技术方案,延伸槽能够对应加深模仿槽的深度,从而提高模仿槽对开放式石材幕墙缝结构模仿的效果。
12.优选的,所述延伸槽的槽壁与板材b之间连接有主体密封件,所述密封条遮蔽板材b与延伸槽的槽壁之间。
13.通过上述技术方案,主体密封件能够提高延伸板材b之间的密封性能,减少石材幕墙的龙骨出现锈蚀的概率,同时由于主体密封件被板材b遮蔽,从而减少主体密封件对模仿
缝模仿开放式石材幕墙的缝结构的干涉。
14.优选的,所述遮蔽块的两端分别位于板材a高度方向的两侧外,所述遮蔽块的顶端设置有附加密封件,所述附加密封件背离主体结构的一侧与板材a和板材b固定连接,所述附加密封件的一端与主体密封件的端部固定连接,附加密封件相背的另一端与延伸槽背离板材b的一侧槽壁固定连接。
15.通过上述技术方案,减少遮蔽块的顶端或是底端被观赏者看到的概率,同时附加密封件还能对遮蔽块两端进行密封,从而提高石材幕墙的整体密封性能,减少石材幕墙的龙骨出现锈蚀的概率。
16.优选的,所述主体密封件包括密封条以及固定连接于密封条上的密封涂层,所述密封涂层遮蔽延伸槽的槽壁与板材b之间,所述密封涂层位于密封条靠近板材a的一侧。
17.通过上述技术方案,位于密封条靠近板材a一侧的密封涂层,能够遮蔽密封条,雨天时,能够减少密封条直接受到雨水的腐蚀,同时还具有便于密封涂层的涂覆施工。
18.优选的,所述模仿缝的宽度尺寸为15mm-30mm。
19.通过上述技术方案,15mm-30mm的模仿缝相较常规的封闭式石材幕墙的缝结构,具有更好的模仿性。
20.优选的,所述延伸槽靠近板材b的一侧开设有用于容纳密封条的定位槽,所述密封条背离板材b的一侧连接于定位槽内,所述定位槽与密封条背离板材b的一侧相适配。
21.通过上述技术方案,定位槽用于密封条定位,并且在密封条位于定位槽内,且被延伸槽的槽壁与板件a或是与板件b夹持时具有更好的稳定性能。
22.优选的,所述定位槽内涂覆形成有粘接层,所述粘接层与密封条固定连接。
23.通过上述技术方案,现场人员可以于预先通过粘接层将密封条粘接固定,然后通过安装遮蔽块的同时令密封条粘接在定位槽内,从而减少了现场向延伸槽的槽壁与板件b以及板件a中塞密封条的步骤,并且还能够保障主体密封件和附加密封件之间的整体性。
24.综上所述,本技术至少具有以下一种效果:
25.通过模仿缝和遮蔽块,使得本技术的错缝节点结构具有开放式石材幕墙的造型效果;
26.延伸槽能够对应加深模仿槽的深度,从而提高模仿槽对应开放式石材幕墙缝结构模仿的效果;
27.位于密封条靠近板材a一侧的密封涂层,能够遮蔽密封条,雨天时,能够减少密封条直接受到雨水的腐蚀,同时还具有便于密封涂层的涂覆施工。
附图说明
28.图1是本技术实施例一的模仿缝和常规封闭式石材幕墙的缝结构错缝的正视图。
29.图2是图1中a-a处结构的剖面结构示意图。
30.图3是图2中模仿缝的放大结构示意图。
31.图4是本技术实施例一中主体密封结构和附加密封结构连接于延伸槽内时的正视图。
32.图5是本技术实施例二的模仿缝的放大结构示意图。
33.附图标记说明:
34.1、主体结构;2、板材a;3、板材b;4、模仿缝;5、遮蔽块;6、背栓;7、延伸槽;8、主体密封结构;9、附加密封结构;10、密封条;11、密封涂层;12、定位槽。
具体实施方式
35.以下结合附图1-5对本技术作进一步详细说明。
36.实施例一:
37.参照图1、2,一种石材幕墙的错缝节点结构,设置于石材幕墙相邻两石材面板的竖缝上,其中一石材面板为板材a2,另一石材面板为板材b3,板材a2和板材b3之间间隔设置并且形成模仿缝4,模仿缝4的缝宽为15mm-30mm,本技术中模仿缝4缝宽为20mm。模仿缝4竖向相邻的两端均为常规封闭式石材幕墙的缝结构,常规封闭式石材幕墙的缝结构的缝宽为6mm-8mm,即形成错缝结构。
38.错缝节点结构设置于模仿缝4一侧,错缝节点结构包括遮蔽块5和封堵机构。
39.遮蔽块5横截面整体呈矩形体,遮蔽块5的高度方向竖向设置,遮蔽的长度方向水平设置且垂直模仿缝4。遮蔽块5长度方向的一端位于板件a上,遮蔽块5的长度方向的另一端位于板件b上,遮蔽块5遮蔽模仿缝4靠近主体结构1的一侧。遮蔽块5的顶端高于模仿缝4的顶端, 遮蔽块5的底端低于模仿缝4的底端。
40.遮蔽块5与遮蔽块5之间通过背栓6固定连接,背栓6沿遮蔽块5的高度方向间隔分布。遮蔽块5靠近模仿槽的一侧开设有延伸槽7。
41.延伸槽7竖向设置,延伸槽7一端与板件a靠近板件b的一侧壁平齐,相对的另一端与遮蔽块5背离板件a的长度方向的一端平齐,延伸槽7能够扩深模仿槽,增大模仿槽对开放式幕墙的竖缝的模仿效果。
42.参照图3、4,密封机构包括竖向设置的主体密封结构8和水平设置的附加密封结构9。主体密封结构8的顶端高于模仿槽的顶端,主体密封结构8的底端低于模仿槽的底端,主体密封结构8包括密封条10和密封涂层11,密封条10竖向设置,密封条10固定连接于延伸槽7靠近主体结构1的一侧槽壁与板件b靠近主体结构1的一侧壁之间,密封条10为具有弹性的泡沫条。密封条10竖向设置,密封条10平行模仿缝4的长度方向设置。
43.密封涂层11为石材专用硅酮耐候密封胶勾缝形成,密封涂层11固定连接于延伸槽7靠近主体结构1的一侧槽壁与板件b靠近主体结构1的一侧壁之间,密封涂层11与密封条10固定连接,密封涂层11还位于密封条10靠近板件a的一侧,密封涂层11能够减少雨水直接与密封条10接触的概率,从而减缓密封条10的氧化、老化。
44.密封涂层11和密封条10形成主体密封结构8,密封涂层11和密封条10均位于模仿槽的一侧,从而减少密封涂层11和密封条10外露的概率,模仿缝4内的整洁度。
45.在参照图1、4,附加密封结构9位于主体密封结构8的端部,并且还位于主体结构1靠近板件a的一侧,附加密封结构9也包括密封条10和密封涂层11。附加密封结构9的密封条10为主体密封结构8的密封条10经弯折形成,随后在附加密封结构9的密封条10靠近模仿槽的一侧涂覆石材专用硅酮耐候密封胶形成附加密封结构9的密封涂层11。
46.本技术一种石材幕墙的错缝节点结构的实施原理为:在安装石材面板时,根据设计图纸定位出模仿缝4的位置,同时在定位出的模仿缝4位置的两石材面板形成板材a2和板材b3,在板材a2上钻孔并且在钻出的孔内固定背栓6,然后在板材a2上安装遮蔽块5。
47.在定位出模仿缝4的位置后,控制板材a2和板材b3在与龙骨连接、安装时相邻之间的间距尺寸以便形成20mm的模仿缝4,模仿缝4的误差宜控制在2mm。
48.在板材a2和板材b3均与安装完成形成模仿缝4后,在延伸槽7内向塞入密封条10,随后在密封条10靠近模仿缝4的一侧涂覆石材专用硅酮耐候密封胶形成遮蔽密封条10的密封涂层11。
49.实施例二:
50.实施例二与实施一的区别在于,参照图5,延伸槽7靠近主体结构1的一侧开设有定位槽12,定位槽12的槽壁上涂覆胶水形成粘接层。定位槽12对应主体密封结构8和附加密封结构9设置,定位槽12包括竖直段和位于两竖直段之间的水平段,定位槽12为配合密封条10的弧形槽。
51.预先在定位槽12内粘接固定密封条10,然后在密封条10靠近模仿槽的一侧依次连续涂覆石材专用硅酮耐候密封胶形成密封涂层11。
52.相较于先安装遮蔽块5,再在延伸槽7与板材b3之间塞入密封条10更为便捷,同时由于密封条10事先安装完成,能够确保主体密封结构8和附加密封结构9之间密封条10的整体性,保障密封条10的密封效果。
53.以上均为本技术的较佳实施例,并非依此限制本技术的保护范围,故:凡依本技术的结构、形状、原理所做的等效变化,均应涵盖于本技术的保护范围之内。
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

发表评论 共有条评论
用户名: 密码:
验证码: 匿名发表

相关文献