一种BOPP消光转移膜及其制备方法与流程

一种bopp消光转移膜及其制备方法
技术领域
1.本发明涉及bopp薄膜技术领域，尤其涉及一种bopp消光转移膜及其制备方法。


背景技术：

2.bopp薄膜是一种非常重要的软包装材料，以其无色、无嗅、无味、无毒，并具有高拉伸强度、冲击强度、刚性、强韧性和良好的透明性等特性，被广泛应用于面包、衣服、鞋袜等包装，以及香烟、书籍的封面包装。伴随着双向拉伸薄膜技术的不断发展，越来越多的薄膜种类出现在市场上，转移膜就是其中一种。转移膜是一种中间载体，存在于转移纸基或塑基之上，用来承载被印刷或打印的图案，是用于转印到被印制的物品之上的一层化学弹性膜。转移膜被广泛应用于广告、装饰、皮革、纺织品等领域。
3.目前市场上的bopp转移膜大多数为光膜型转移膜，但近年米，越来越多的产品要求呈哑光效果﹐以降低图案的光泽度。目前，大部分的工艺是用光膜型转移膜转印图案后，再对图案表面进行消光处理，例如涂布消光剂等。而消光转移膜则是通过提高薄膜消光层的表面粗糙度，使转印后的图案具有消光效果，无需再进行涂布消光剂等后处理步骤。目前，市面上的消光转移膜主要由不同的聚烯烃树脂，例如聚丙烯和聚乙烯共混形成粗糙表面，从而产生消光效果，这类消光转移膜主要存在消光效果不均匀、消光稳定性不佳的缺陷，影响了消光转移膜的应用。


技术实现要素：

4.基于背景技术存在的技术问题，本发明提出了一种bopp消光转移膜及其制备方法。
5.本发明提出的一种bopp消光转移膜，依次由上表层、芯层和下表层构成；所述上表层由以下质量份的原料制成：蒙脱土改性聚丙烯52-55份、高密度聚乙烯40-48份、抗静电剂2-10份、分散剂1-3份、抗氧剂0.1-1份。
6.优选地，所述蒙脱土改性聚丙烯的制备方法为：将聚丙烯、季铵盐改性蒙脱土和相容剂按质量比为100：(2-3)：(1-2)加热混合，即得；
7.优选地，所述加热混合的温度为170-190℃，时间为20-30min。
8.优选地，所述季铵盐改性蒙脱土为ctab改性蒙脱土；所述相容剂为马来酸酐接枝聚丙烯。
9.其中，季铵盐改性蒙脱土可以采用常规插层改性方法制备。具体可以为：将固含量为1-2％的蒙脱土水分散液与质量分数为0.5-1％的季铵盐水溶液按体积比为(3-5)：1混合均匀，然后在70-90℃加热搅拌1-4h，经过冷却、抽滤、洗涤、干燥，得到季铵盐改性蒙脱土。
10.优选地，所述芯层由以下质量份的原料制成：聚丙烯89-99份、抗静电剂1.1-6.3份，爽滑剂0.2-0.5份；所述下表层由以下质量份的原料制成：聚丙烯48-65份、二氧化硅0.1-0.3份。
11.优选地，所述聚丙烯在230℃、2.16kg下的熔融指数为3-4g/10min。
12.优选地，所述高密度聚乙烯的密度为0.920-0.961g/cm3，其在230℃、2.16kg下的熔融指数为0.03-0.08g/10min。
13.优选地，所述分散剂为硅酮粉；所述抗静电剂为pbt(聚对苯二甲酸丁二醇酯)抗静电剂；所述爽滑剂为芥酸酰胺、油酸酰胺、乙撑双硬脂酰胺中的至少一种；所述抗氧剂为抗氧剂1010、抗氧剂168或其组合。
14.优选地，所述消光转移膜的厚度为18-40μm，所述上表层的厚度为2-4μm，所述下表层的厚度为1-2μm。
15.一种所述的bopp消光转移膜的制备方法，包括：将芯层的原料加入主挤出机中，上表层、下表层的原料分别加入两台辅挤出机中，加热熔融，得到芯层熔体、上表层熔体和下表层熔体，将所述芯层熔体、上表层熔体和下表层熔体在模头中汇合挤出，将得到的铸片依次经过冷却、纵向拉伸、横向拉伸、收卷、时效处理，得到bopp消光转移膜。
16.优选地，所述芯层的原料加热熔融的温度为248-252℃；上表层的原料加热熔融的温度为232-238℃；下表层的原料加热熔融的温度为246-250℃；所述芯层熔体、上表层熔体和下表层熔体在模头中汇合挤出的温度为235-238℃。
17.优选地，所述纵向拉伸包括：先在120-140℃下预热，然后在温度为112-130℃、拉伸倍率为4.7-5.0倍的条件下拉伸，然后在127-140℃下定型。
18.优选地，所述横向拉伸包括：先在169-173℃下预热，然后在温度为152-158℃、拉伸倍率为8.5-9.5倍的条件下拉伸，然后在166-167℃下定型。
19.本发明的有益效果如下：
20.本发明通过对薄膜消光层原料配方的设计，采用适量蒙脱土插层改性得到的蒙脱土改性聚丙烯代替聚丙烯作为原料与高密度聚乙烯、分散剂等共混制备薄膜的消光层，其中蒙脱土的插层改性对聚丙烯的流变性能产生调节作用，改善了聚丙烯与高密度聚乙烯在加工过程中由于粘度和流动性差距过大而导致的共混体系分散不均匀的问题，使共混体系中两相的分散均匀性提高，相区尺寸细化，使共混体系的微观结构更加均匀和细化，有利于在薄膜表面形成更为细化、均匀的凸起峰形貌，改善薄膜的消光均匀性；分散剂硅酮粉的加入可以改善体系的流动性，从而改善薄膜的消光均匀性；另外，蒙脱土具有片层状结构，其在体系中的均匀分布可以丰富薄膜的表面形貌，进一步提升薄膜的消光性能，改善消光均匀性。本发明能有效提高bopp消光转移膜表面粗糙度和雾度的分布均匀性，使消光效果更好、更稳定。
具体实施方式
21.下面，通过具体实施例对本发明的技术方案进行详细说明。
22.实施例1
23.一种bopp消光转移膜，依次由上表层、芯层和下表层构成。
24.上表层由以下质量份的原料制成：蒙脱土改性聚丙烯53份、高密度聚乙烯47份、pbt抗静电剂6份、硅酮粉2份、抗氧剂0.5份；其中，蒙脱土改性聚丙烯的制备方法为：将聚丙烯、ctab改性蒙脱土和马来酸酐接枝聚丙烯按质量比为100：2.5：1.5在180℃下加热混合25min，即得；ctab改性蒙脱土的制备方法为：将固含量为1.5％的蒙脱土水分散液与质量分数为0.6％的ctab水溶液按体积比为4：1混合均匀，然后在80℃加热搅拌2h，经过冷却、抽
滤、洗涤、干燥，得到ctab改性蒙脱土。
25.芯层由以下质量份的原料制成：聚丙烯95份、pbt抗静电剂5份，乙撑双硬脂酰胺0.3份。
26.下表层由以下质量份的原料制成：聚丙烯55份、二氧化硅0.2份。
27.其中，聚丙烯在230℃、2.16kg下的熔融指数为3.15g/10min；高密度聚乙烯的密度为0.920-0.961g/cm3，其在230℃、2.16kg下的熔融指数为0.05g/10min；抗氧剂为抗氧剂1010、抗氧剂168按质量比1:2混合而成。
28.消光转移膜的厚度为22μm，上表层的厚度为2μm，下表层的厚度为1μm。
29.制备bopp消光转移膜：将芯层的原料加入主挤出机中在250℃下加热熔融，得到芯层熔体，将上表层的原料加入一台辅挤出机中，在235℃下加热熔融，得到上表层熔体，将下表层的原料加入另一台辅挤出机中，在248℃下加热熔融，得到下表层熔体，将芯层熔体、上表层熔体和下表层熔体在模头中于236℃下汇合挤出，将得到的铸片冷却后，先在130℃下预热，然后在温度为115℃、拉伸倍率为4.8倍的条件下纵向拉伸，然后在135℃下定型，再在170℃下预热，然后在温度为155℃、拉伸倍率为9倍的条件下横向拉伸，然后在166℃下定型，依次经过收卷、时效处理，得到bopp消光转移膜。
30.实施例2
31.一种bopp消光转移膜，依次由上表层、芯层和下表层构成。
32.上表层由以下质量份的原料制成：蒙脱土改性聚丙烯52份、高密度聚乙烯40份、pbt抗静电剂2份、硅酮粉1份、抗氧剂0.1份；其中，蒙脱土改性聚丙烯的制备方法为：将聚丙烯、ctab改性蒙脱土和马来酸酐接枝聚丙烯按质量比为100：2：1在170℃下加热混合30min，即得；ctab改性蒙脱土的制备方法同实施例1。
33.芯层由以下质量份的原料制成：聚丙烯899份、pbt抗静电剂1.1份，油酸酰胺0.2份。
34.下表层由以下质量份的原料制成：聚丙烯48份、二氧化硅0.1份。
35.其中，聚丙烯在230℃、2.16kg下的熔融指数为3.15g/10min；高密度聚乙烯的密度为0.920-0.961g/cm3，其在230℃、2.16kg下的熔融指数为0.05g/10min；抗氧剂为抗氧剂1010、抗氧剂168按质量比1:2混合而成。
36.消光转移膜的厚度为22μm，所述上表层的厚度为2μm，所述下表层的厚度为1μm。
37.bopp消光转移膜的制备方法同实施例1。
38.实施例3
39.一种bopp消光转移膜，依次由上表层、芯层和下表层构成。
40.上表层由以下质量份的原料制成：蒙脱土改性聚丙烯55份、高密度聚乙烯48份、pbt抗静电剂10份、硅酮粉3份、抗氧剂1份；其中，蒙脱土改性聚丙烯的制备方法为：将聚丙烯、ctab改性蒙脱土和马来酸酐接枝聚丙烯按质量比为100：3：2在190℃下加热混合20min，即得；ctab改性蒙脱土的制备方法同施例1。
41.芯层由以下质量份的原料制成：聚丙烯99份、pbt抗静电剂6.3份，油酸酰胺0.5份。
42.下表层由以下质量份的原料制成：聚丙烯65份、二氧化硅0.3份。
43.其中，聚丙烯在230℃、2.16kg下的熔融指数为3.15g/10min；高密度聚乙烯的密度为0.920-0.961g/cm3，其在230℃、2.16kg下的熔融指数为0.05g/10min；抗氧剂为抗氧剂
1010、抗氧剂168按质量比1:2混合而成。
44.消光转移膜的厚度为22μm，所述上表层的厚度为2μm，所述下表层的厚度为1μm。
45.bopp消光转移膜的制备方法同实施例1。
46.对比例1
47.对比例1与实施例1的区别仅在于上表层的原料不同。
48.对比例1的上表层由以下质量份的原料制成：聚丙烯53份、高密度聚乙烯47份、pbt抗静电剂6份、硅酮粉2份、抗氧剂0.5份。
49.对比例2
50.对比例2与实施例1的区别仅在于上表层的原料不同。
51.对比例2的上表层由以下质量份的原料制成：聚丙烯50份、高密度聚乙烯47份、pbt抗静电剂6份、硅酮粉2份、ctab改性蒙脱土1.25份、马来酸酐接枝聚丙烯0.75份、抗氧剂0.5份；ctab改性蒙脱土的制备方法同实施例1。
52.参照国标gb/t10003-2008，对实施例1-3制得的薄膜进行性能检测，检测结果如表1所示：
53.表1薄膜性能检测结果
[0054][0055]
从表1可以看出，本发明的薄膜具有良好的物理性能。
[0056]
对实施例1和对比例1-2制得的薄膜进行消光均匀性测试，其中每个薄膜样品设置8个检测点，根据每个点的雾度检测结果计算标准偏差。雾度仪采用德国byk-gardner，型号haze-gar，检测标准为gb/t 2410-2008。
[0057]
检测结果如表1所示：
[0058]
表2薄膜消光均匀性检测结果
[0059]
[0060]
将对比例1和对比例2比较可以看出，直接在消光层原料中加入无机消光剂蒙脱土制备消光层对雾度存在一定的影响，但对雾度的标准偏差作用效果不明显，这说明直接加入蒙脱土对消光均匀性的改善不大；而将实施例1与对比例1-2比较可以看出，本发明通过以蒙脱土改性聚丙烯代替聚丙烯与高密度聚乙烯共混作为消光层的原料，可以大幅度降低薄膜雾度的标准偏差，使薄膜的雾度分布更均匀，消光效果更加稳定。
[0061]
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。