一种显示面板结构及AMOLED器件的制作方法

一种显示面板结构及amoled器件
技术领域
1.本实用新型涉显示器件领域，具体地说，涉及一种显示面板结构及amoled器件。


背景技术：

2.amoled(英语：active-matrix organic light-emitting diode，有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体)是一种显示屏技术。其中oled(有机发光二极体)是描述薄膜显示技术的具体类型：有机电激发光显示；am(有源矩阵体或称主动式矩阵体)是指背后的像素寻址技术。目前amoled技术主要用于智能手机，并继续朝低功耗、低成本、大尺寸方向发展。
3.amoled的基础是有机物发光体，成千上万个只能发出红、绿或蓝色这三者颜色之中的一种的光源被以一种特定的形式安放在屏幕的基板上，这些发光体在被施加电压的时候会发出红、绿或者蓝色，电压的变换同样需要依靠tft(thin film transistor，薄膜晶体管)，在调节三原色的比例之后，才能发出各种颜色。
4.现有的硬板amoled器件采用玻璃作为封装盖板，并在tft上设置photo spacer(sp，隔离柱)支撑玻璃盖板。
5.如图1中所示，在封装及后续制程中，由于吸附压力、局部受压等因素影响，导致sp会被压伤，严重的会出现外观可见的黑斑；同时压伤的过程中可能会造成ce(ce合金，即阴极)断裂，导致该区域10电阻值偏大，屏幕点亮时会出现局部成像偏暗。
6.因此，本实用新型提供了一种新型的、可以阻挡或缓解压力对sp及上方ce的损伤，减缓sp及ce的压伤的显示面板结构及amoled器件。


技术实现要素：

7.针对现有技术中的问题，本实用新型的目的在于提供一种显示面板结构及amoled器件，能够有效阻挡或缓解压力对sp及上方ce的损伤、减少压伤对显示效果的影响。
8.根据本实用新型，一方面，提供了一种显示面板结构，适用于有机电致发光器件，所述有机电致发光器件包括盖板和基板，所述盖板和基板相对上下布置，所述盖板设置于所述基板的上方，所述盖板和基板之间设置有隔离柱，还包括保护层，所述保护层设置于所述隔离柱与所述盖板之间。
9.优选的：所述保护层设置于所述隔离柱之上并覆盖住所述隔离柱。
10.优选的：所述保护层由有机材料制成。
11.优选的：所述保护层由无机材料制成。
12.优选的：还包括有机应力释放层，所述有机应力释放层设置于所述保护层与所述盖板之间。
13.优选的：所述有机材料包括环氧树脂、丙烯酸酯、石墨烯中的一种或多种。
14.优选的：所述有机材料通过喷墨打印或涂布方式制备。
15.优选的：所述无机材料包括sinx、siox、alox、lif中的一种或多种。
16.优选的：所述无机材料通过pecvd、ald或蒸镀方式制备。
17.优选的：所述盖板和基板之间还设有第一电极和像素定义层。
18.根据本实用新型，另一方面，提供了一种amoled器件，包括上述的显示面板结构。
19.本实用新型的一种显示面板结构，能够有效阻挡或缓解压力对sp及上方ce的损伤、减少压伤对显示效果的影响。
附图说明
20.通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本实用新型的其它特征、目的和优点将会变得更明显。
21.图1是现有技术的sp压伤、ce断裂的结构示意图；
22.图2是本实用新型实施例的隔离柱的结构示意图；
23.图3是本实用新型实施例的无机保护层结构示意图；
24.图4是本实用新型另一实施例的无机保护层结构示意图；
25.图5是本实用新型实施例的有机应力释放层结构示意图；
26.图6是本实用新型另一实施例的有机应力释放层结构示意图。
具体实施方式
27.现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式。相反，提供这些实施方式使得本实用新型将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。
28.如图2中所示，在本实用新型的实施例中，一种显示面板结构及amoled器件，包括盖板1和基板2。
29.盖板1和基板2相对上下布置，盖板1和基板2之间设置有隔离柱(photo spacer，sp)3。
30.如图3中所示，还包括保护层4。保护层4设置于隔离柱3与盖板1之间。
31.本实用新型实施例的一种显示面板结构，通过在盖板下方对应sp位置增加一层保护层/牺牲层，阻挡/缓解压力对sp及上方ce的损伤，减缓sp及ce的压伤，减少压伤对显示效果的影响。
32.如图3中所示，在本实用新型的实施例中，优选保护层4为一层有机保护层，由有机材料制成。保护层/牺牲层可以采用环氧树脂、丙烯酸酯、石墨烯等材料，光透过率》90％、释气性低、含水性低、杨氏模量0.1gpa-1tpa。并优选可以通过喷墨打印或涂布等方式制备。
33.如图4中所示，在本实用新型的实施例中，优选保护层4为一层无机保护层，由无机材料制成。优选无机保护层由sinx(硅氮化物)、siox(硅氧化物)、alox(铝氧化物)、lif中的一种或多种材料制成。
34.并优选sinx(硅氮化物)为si3n4等；siox(硅氧化物)为sio2等；alox(铝氧化物)为al2o3等。
35.并优选保护层4通过pecvd(plasma enhanced chemical vapor deposition，等离子体增强化学的气相沉积法)、ald(原子沉积)或蒸镀方式制备在隔离柱3之上。
36.如图3和4中所示，在本实用新型的实施例中，优选保护层4设置于隔离柱3之上。
37.如图3中所示，在本实用新型的实施例中，优选保护层4的大小大致能覆盖住隔离柱3。
38.如图4中所示，在本实用新型的实施例中，优选保护层4的大小覆盖住并超出隔离柱3的面积。
39.如图5中所示，在本实用新型的实施例中，优选无机材料制成的保护层4上还包括有机应力释放层5，有机应力释放层5设置于保护层4与盖板1之间。
40.优选有机应力释放层5由环氧树脂、丙烯酸酯、石墨烯中的一种或多种材料制成。
41.并优选有机应力释放层5设置于保护层4之上。通过喷墨打印或涂布方式制备在保护层4之上。
42.有机应力释放层5的大小与无机材料制成的保护层4相当或略大于保护层4。
43.另外，如图6中所示，在本实用新型的实施例中，一种显示面板结构及amoled器件，包括盖板1和基板2。盖板1优选为玻璃盖板，基板2优选为玻璃基板。
44.基板2上设有tft(thin film transistor，薄膜晶体管)层。tft层上依次设有第一电极(ae)、像素定义层(pdl)、sp。
45.本实用新型实施例的一种显示面板结构及器件，通过有机或无机材料制成的保护层4和有机应力释放层5，阻挡/缓解压力对sp及上方ce的损伤，减缓sp及ce的压伤，减少压伤对显示效果的影响。
46.需要指出的是，在本实用新型的实施例中，其中“上下”即如图示的沿纸面的上下的方向。“上下排列”即如图示的沿纸面的上部排列和下部排列的方式。
47.下面以附图并结合具体实施例描述本实用新型：
48.实施例1
49.如图3中所示，一种显示面板结构及amoled器件，包括盖板1和基板2。
50.盖板1和基板2相对上下布置，盖板1和基板2之间设置有隔离柱(photo spacer，sp)3。
51.还包括保护层4。保护层4设置于隔离柱3与盖板1之间。
52.保护层4由石墨烯材料制成。
53.保护层4通过涂布方式设置于隔离柱3之上。
54.保护层4的大小与隔离柱3顶部的面积大致相当。
55.实施例2
56.如图4中所示，一种显示面板结构及amoled器件，包括盖板1和基板2。
57.盖板1和基板2相对上下布置，盖板1和基板2之间设置有隔离柱(photo spacer，sp)3。
58.还包括保护层4。保护层4设置于隔离柱3与盖板1之间。
59.保护层由si3n4材料制成。
60.保护层4通过pecvd(plasma enhanced chemical vapor deposition，等离子体增强化学的气相沉积法)方式设置于隔离柱3之上。
61.保护层4的大小覆盖住并超出隔离柱3的面积。
62.实施例3
63.如图6中所示，一种显示面板结构及amoled器件，包括盖板1、基板2、tft层、第一电极(ae)、像素定义层(pdl)、隔离柱(photo spacer，sp)3、保护层4、有机应力释放层5。
64.盖板1和基板2相对上下布置，盖板1和基板2之间依次从下至上设置有tft层、第一电极(ae)、像素定义层(pdl)、隔离柱(photo spacer，sp)3、保护层4和有机应力释放层5。
65.保护层4由si3n4材料制成。有机应力释放层5由环氧树脂材料制成。
66.保护层4通过pecvd(plasma enhanced chemical vapor deposition，等离子体增强化学的气相沉积法)方式设置于隔离柱3之上。
67.有机应力释放层5通过喷墨打印方式制备在保护层4之上。
68.保护层4的大小覆盖住隔离柱3的面积。有机应力释放层5覆盖住保护层4的面积。
69.实施例4
70.如图6中所示，一种显示面板结构及amoled器件，包括盖板1、基板2、tft层、第一电极(ae)、像素定义层(pdl)、隔离柱(photo spacer，sp)3、保护层4、有机应力释放层5。
71.盖板1和基板2相对上下布置，盖板1和基板2之间依次从下至上设置有tft层、第一电极(ae)、像素定义层(pdl)、隔离柱(photo spacer，sp)3、保护层4和有机应力释放层5。
72.保护层4由sio2材料制成。有机应力释放层5由丙烯酸酯材料制成。
73.保护层4通过ald(原子沉积)方式设置于隔离柱3之上。
74.有机应力释放层5通过涂布方式制备在保护层4之上。
75.保护层4的大小覆盖住隔离柱3的面积。有机应力释放层5覆盖住保护层4的面积。
76.实施例5
77.如图6中所示，一种显示面板结构及amoled器件，包括盖板1、基板2、tft层、第一电极(ae)、像素定义层(pdl)、隔离柱(photo spacer，sp)3、保护层4、有机应力释放层5。
78.盖板1和基板2相对上下布置，盖板1和基板2之间依次从下至上设置有tft层、第一电极(ae)、像素定义层(pdl)、隔离柱(photo spacer，sp)3、保护层4和有机应力释放层5。
79.保护层4由al2o3材料制成。有机应力释放层5由石墨烯材料制成。
80.保护层4通过蒸镀方式设置于隔离柱3之上。
81.有机应力释放层5通过喷墨打印方式制备在保护层4之上。
82.保护层4的大小覆盖住隔离柱3的面积。有机应力释放层5覆盖住保护层4的面积。
83.实施例6
84.如图6中所示，一种显示面板结构及amoled器件，包括盖板1、基板2、tft层、第一电极(ae)、像素定义层(pdl)、隔离柱(photo spacer，sp)3、保护层4、有机应力释放层5。
85.盖板1和基板2相对上下布置，盖板1和基板2之间依次从下至上设置有tft层、第一电极(ae)、像素定义层(pdl)、隔离柱(photo spacer，sp)3、保护层4和有机应力释放层5。
86.保护层4由lif材料制成。有机应力释放层5由石墨烯材料制成。
87.保护层4通过蒸镀方式设置于隔离柱3之上。
88.有机应力释放层5通过喷墨打印方式制备在保护层4之上。
89.保护层4的大小覆盖住隔离柱3的面积。有机应力释放层5覆盖住保护层4的面积。
90.综上，本实用新型的一种显示面板结构及器件，通过有机或无机的保护层和有机应力释放层，阻挡/缓解压力对sp及上方ce的损伤，减缓sp及ce的压伤，减少压伤对显示效果的影响。
91.以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本实用新型的保护范围。