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显示装置的制作方法

2022-02-24 18:25:28 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种显示装置,其特征在于:包括显示面板和配置在所述显示面板上的盖部件,所述盖部件包括:具有第一面和第二面、且至少第一面实施了化学强化的玻璃板;和叠层于所述玻璃板的第二面、且朝向外部的光学层,所述玻璃板的所述第一面的压缩应力层深度(dol)大于所述第二面的压缩应力层深度。2.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于:所述玻璃板通过浮法制造,所述第一面的氧化锡浓度小于所述第二面的氧化锡浓度。3.如权利要求1或2所述的显示装置,其特征在于:所述光学层为有机无机复合膜。4.如权利要求1~3中任一项所述的显示装置,其特征在于:所述光学层至少含有基质和颗粒,所述光学层的与所述第二面相反侧的表面由所述颗粒形成凹凸。5.如权利要求4所述的显示装置,其特征在于:所述光学层存在所述颗粒在该膜的厚度方向堆积的第一区域、和包围所述第一区域或被所述第一区域包围的谷状的第二区域。6.如权利要求5所述的显示装置,其特征在于:所述第一区域为台地状的区域。7.如权利要求5或6所述的显示装置,其特征在于:所述第二区域包括所述颗粒不堆积或不存在所述颗粒的部分。8.如权利要求5~7中任一项所述的显示装置,其特征在于:所述第一区域的宽度为7.7μm以上,所述第二区域的宽度为7μm以上。9.如权利要求5~7中任一项所述的显示装置,其特征在于:所述第一区域的宽度为10μm以上,所述第二区域的宽度为10μm以上。10.如权利要求4所述的显示装置,其特征在于:所述颗粒实质上由平板状颗粒构成,所述平板状颗粒的厚度处于0.3nm~3nm的范围,且所述平板状颗粒的主面的平均直径处于10nm~1000nm的范围,所述平板状颗粒的主面与所述玻璃板的第二面大致平行地配置。11.如权利要求4所述的显示装置,其特征在于:所述光学层存在所述颗粒在该光学层的厚度方向堆积的区域、和所述颗粒不堆积或不存在所述颗粒的区域。12.如权利要求11所述的显示装置,其特征在于:从所述玻璃板的第二面测定的所述光学层的最高部与最低部的差分为所述颗粒的平均粒径的3倍以上。13.如权利要求11或12所述的显示装置,其特征在于:iso25178所规定的smr1为10~30%。14.如权利要求11~13中任一项所述的显示装置,其特征在于:
iso25178所规定的负载面积率20%时的表面高度bh20处于0.04μm~0.5μm的范围。15.如权利要求11~14中任一项所述的显示装置,其特征在于:iso25178所规定的负载面积率80%时的表面高度bh80处于-0.3μm~0μm的范围。16.如权利要求1~15中任一项所述的显示装置,其特征在于:所述光学层的所述表面的rsm超过0μm且为35μm以下,其中,所述rsm为jis b0601:2001所规定的粗糙度曲线要素的平均长度。17.如权利要求1~16中任一项所述的显示装置,其特征在于:所述光学层的所述表面的ra处于20nm~120nm的范围,其中,所述ra为jis b0601:2001所规定的粗糙度曲线的算术平均粗糙度。18.如权利要求1~17中任一项所述的显示装置,其特征在于:所述玻璃板的第二面的ra为10nm以下,其中,所述ra为jis b0601:2001所规定的粗糙度曲线的算术平均粗糙度。19.如权利要求1~18中任一项所述的显示装置,其特征在于:所述基质以氧化硅为主成分。20.如权利要求1~19中任一项所述的显示装置,其特征在于:所述玻璃板的厚度为0.5~3mm。21.一种盖板玻璃,其为设置于具有显示面板的显示装置的盖部件,所述盖板玻璃的特征在于,包括:具有第一面和第二面、且至少第一面实施了化学强化的玻璃板;和叠层于所述玻璃板的第二面、且朝向外部的光学层,所述玻璃板的所述第一面的压缩应力层深度(dol)大于所述第二面的压缩应力层深度。22.一种盖部件的制造方法,其特征在于,包括:准备玻璃板的步骤,该玻璃板由浮法制造,具有第一面、和氧化锡浓度高于所述第一面的第二面;在所述玻璃板的第二面叠层光学层的步骤;和通过实施化学强化,使所述玻璃板的第一面的压缩应力层深度(dol)大于所述第二面的压缩应力层深度的步骤,所述盖部件以所述光学层朝向外部的方式使用。

技术总结
本发明所涉及的显示装置包括显示面板和配置在上述显示面板上的盖部件,上述盖部件包括:玻璃板,其具有第一面和第二面,至少第一面实施了化学强化;和光学层,其叠层于上述玻璃板的第二面,且朝向外部,上述玻璃板的上述第一面的压缩应力层深度(dol)大于上述第二面。一面的压缩应力层深度(dol)大于上述第二面。一面的压缩应力层深度(dol)大于上述第二面。


技术研发人员:帆苅典久
受保护的技术使用者:日本板硝子株式会社
技术研发日:2021.06.28
技术公布日:2022/2/23
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