蒙砂液及其制备方法、蒙砂玻璃及其加工方法与流程

1.本技术涉及玻璃蒙砂技术领域，具体地，涉及蒙砂液及其制备方法、蒙砂玻璃及其加工方法。


背景技术：

2.玻璃蒙砂是利用蒙砂液对玻璃进行蚀刻的一种工艺，玻璃经蒙砂处理后，会呈现一定的雾度。目前，具有雾面效果的玻璃电池后盖通常是采用蒙砂处理形成的。然而，目前的蒙砂液与玻璃反应形成的颗粒通常为类球形颗粒，玻璃呈现的效果也单纯的为雾面效果，难以满足用户对多样化外观的需求。
3.因此，目前的蒙砂液及其制备方法、蒙砂玻璃及其加工方法仍有待改进。


技术实现要素：

4.本技术旨在至少一定程度上缓解或解决上述提及问题中的至少一个。鉴于此，本技术提出了一种能够使玻璃呈现闪光效果的蒙砂液。
5.在本技术的一个方面，本技术提出了一种蒙砂液。所述蒙砂液包括：第一组分和第二组分，所述第一组分包括60-70重量份的氟化氢铵、25-30重量份的氟硅酸铵、2-5重量份的氟硅酸钠、2-5重量份的氟硅酸钙和0.2-0.5重量份的晶型控制剂，所述第二组分包括45-55重量份的水和45-55重量份的硝酸，所述蒙砂液与玻璃反应后，令所述玻璃的表面形成尖状凸起。由此，经该蒙砂液蚀刻后的玻璃表面会形成尖状凸起，当光照射到玻璃表面的尖状凸起时，会呈现出闪闪发光的效果，提升玻璃电池后盖外观的多样化。
6.在本技术的另一方面，本技术提出了一种制备前面所述的蒙砂液的方法。所述方法包括：将60-70重量份的氟化氢铵、25-30重量份的氟硅酸铵、2-5重量份的氟硅酸钠、2-5重量份的氟硅酸钙和0.2-0.5重量份的晶型控制剂，进行混合并搅拌，得到所述第一组分；将45-55重量份的水和45-55重量份的硝酸，进行混合并搅拌，得到所述第二组分；将所述第一组分和所述第二组分进行混合、熟化以及过滤，得到所述蒙砂液。由此，利用简单的方法即可获得能够使玻璃呈现闪光效果的蒙砂液。
7.在本技术的另一方面，本技术提出了一种蒙砂玻璃的加工方法。所述方法包括：利用前面所述的蒙砂液对玻璃基体的预定区域进行摆动蚀刻，形成蒙砂部，令所述蒙砂部具有尖状凸起；对经所述摆动蚀刻后的玻璃基体进行清洗，以获得所述蒙砂玻璃。由此，利用简单的方法即可获得能够呈现闪光效果的蒙砂玻璃。
8.在本技术的另一方面，本技术提出了一种蒙砂玻璃。所述蒙砂玻璃是利用前面所述的方法加工形成的。由此，该蒙砂玻璃可呈现闪光效果。
附图说明
9.图1显示了根据本技术一个示例的制备蒙砂液的方法的流程示意图；
10.图2显示了根据本技术一个示例的蒙砂玻璃加工方法的流程示意图；
11.图3显示了示例1的蒙砂玻璃的电子显微镜照片。
具体实施方式
12.下面详细描述本技术的示例，通过参考附图描述的示例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
13.在本技术的一个方面，本技术提出了一种蒙砂液。根据本技术的示例，该蒙砂液包括第一组分和第二组分，其中，第一组分包括60-70重量份的氟化氢铵、25-30重量份的氟硅酸铵、2-5重量份的氟硅酸钠、2-5重量份的氟硅酸钙和0.2-0.5重量份的晶型控制剂，第二组分包括45-55重量份的水和45-55重量份的硝酸，该蒙砂液与玻璃反应后，可令玻璃的表面形成尖状凸起。由此，经该蒙砂液蚀刻后的玻璃表面会形成尖状凸起，当光照射到玻璃表面的尖状凸起时，会呈现出闪闪发光的效果，提升玻璃电池后盖外观的多样化。
14.在本技术中，由满足上述质量含量的各成分构成的蒙砂液为饱和溶液，在蒙砂液与玻璃反应的过程中，氢氟酸与玻璃中的二氧化硅反应生成四氟化硅，四氟化硅与水反应生成氟硅酸，使得体系中的氟硅酸根离子达到过饱和，以使氟硅酸铵、氟硅酸钠、氟硅酸钙等进行形核，此外，氢氟酸与玻璃中的氧化钠反应会释放出钠离子，使得体系中的钠离子过饱和，也会使氟硅酸钠进行形核。
15.蒙砂液中的晶型控制剂用于吸附正离子(如nh
4
、na

、ga
2
)或者负离子(如sif
62-)，在蒙砂液与玻璃反应的过程中，使得氟硅酸铵、氟硅酸钠、氟硅酸钙在晶型控制剂周围进行形核，并控制氟硅酸铵、氟硅酸钠、氟硅酸钙的晶粒形状，形成棱锥状的颗粒，上述棱锥状颗粒附着在玻璃表面，会阻碍蚀刻的进行，使得蒙砂液沿着棱锥状颗粒的轮廓对玻璃进行蚀刻，以在玻璃表面形成与棱锥状颗粒形状相似的尖状凸起，从而使得经蒙砂处理后的玻璃呈现出闪闪发光的效果。
16.在本技术中，第一组分中的氟化氢铵提供氟离子，第二组分中的硝酸提供氢离子，氢离子与氟离子形成氢氟酸，以对玻璃进行蚀刻。第一组分中的氟硅酸铵用于提供nh
4
和sif
62-，氟硅酸钠用于提供na

和sif
62-，氟硅酸钙用于提供ga
2
和sif
62-，以为后续棱锥状颗粒的形成提供所需的离子。
17.本技术的蒙砂液含有硝酸，发明人发现，若将硝酸替换成硫酸，硫酸盐(如硫酸铵、硫酸钠、硫酸钙)的溶解度相较于硝酸盐的溶解度要低很多，从而蒙砂液提供的nh
4
、na

、ga
2
的量较少，在与玻璃反应的过程中，存在形成的棱锥状颗粒较少以及较小的问题，从而导致玻璃表面的尖状凸起分布不均匀且尖状凸起尺寸较小，玻璃呈现的闪光效果很不明显，基本无法观察到闪光效果。若将硝酸替换成盐酸，氯化铵、氯化钠、氯化钙的溶解度相较于硝酸盐的溶解度也要低很多，因此，其也存在上述问题。
18.根据本技术的具体示例，蒙砂液可以含有60重量份、62重量份、65重量份、68重量份或者70重量份的氟化氢铵，25重量份、26重量份、27重量份、28重量份、29重量份或者30重量份的氟硅酸铵，2重量份、3重量份、4重量份或者5重量份的氟硅酸钠，2重量份、3重量份、4重量份或者5重量份的氟硅酸钙，0.2重量份、0.3重量份、0.4重量份或者0.5重量份的晶型控制剂，45重量份、48重量份、50重量份、52重量份或者55重量份的水，以及45重量份、48重量份、50重量份、52重量份或者55重量份的硝酸。
19.根据本技术的示例，晶型控制剂包括第一控制剂和第二控制剂，其中，第一控制剂
包括聚乙烯吡咯烷酮(pvp)，第二控制剂包括十二烷基苯磺酸钠(sds)或者十六烷基溴化铵。也即是说，晶型控制剂可以由聚乙烯吡咯烷酮和十二烷基苯磺酸钠构成，或者，晶型控制剂由聚乙烯吡咯烷酮和十六烷基溴化铵构成。
20.当晶型控制剂由聚乙烯吡咯烷酮和十二烷基苯磺酸钠构成时，在蒙砂液与玻璃反应的过程中，由于十二烷基苯磺酸钠的极性磺酸基带负电，且正负电荷间具有静电吸引作用，使得蒙砂液中的nh
4
、na

、ga
2
向sds胶束表面富集，由于氢氟酸与玻璃反应使得体系中的氟硅酸根离子达到饱和，从而使得氟硅酸铵、氟硅酸钠、氟硅酸钙在sds胶束表面周围开始形核并生长。
21.在反应初期，氟硅酸铵、氟硅酸钠、氟硅酸钙在sds胶束周围，被sds分子诱导经一次组装形成初始的纳米级晶粒。该纳米级晶粒不稳定，一定空间范围内纳米级晶粒在pvp大分子的诱导下经二次组装得到多重孪晶微米颗粒，该多重孪晶微米颗粒具有很高的生长活性，体系中后续形成的纳米级晶粒继续沉积或吸附在多重孪晶微米颗粒的晶面上，不断进行ostwald熟化生长，形成棱锥状的颗粒。即通过pvp和sds控制形成的颗粒的形状，形成的棱锥状颗粒附着在玻璃上，对玻璃起到一定的保护作用，减轻蒙砂液对玻璃被棱锥状颗粒附着部分的蚀刻，使得蒙砂液沿着棱锥状颗粒的轮廓对玻璃进行蚀刻，以在玻璃表面形成与棱锥状颗粒形状相似的尖状凸起，使得玻璃获得水晶一样的闪光效果。
22.当晶型控制剂由聚乙烯吡咯烷酮和十六烷基溴化铵构成时，该晶型控制剂对氟硅酸铵、氟硅酸钠、氟硅酸钙晶型的控制原理，与由聚乙烯吡咯烷酮和十二烷基苯磺酸钠构成的晶型控制剂的控制原理类似，所不同的是，该晶型控制剂利用十六烷基溴化铵中带正电的基团吸附sif
62-，具体的控制过程此处不再赘述。
23.需要说明的是，“ostwald熟化”是指过饱和固溶体析出沉淀相的后期，沉淀相颗粒大小并不相同，由于较小颗粒消溶、较大颗粒继续长大，因而颗粒平均尺寸增大的一种长大机制。
24.根据本技术的示例，形成的棱锥状颗粒具体可以为六面体颗粒，玻璃表面对应形成的尖状凸起为六面体凸起，使得玻璃获得闪光效果。
25.根据本技术的示例，在该蒙砂液中，晶型控制剂为0.2-0.5重量份。发明人发现，若晶型控制剂的质量含量过小(如小于0.2重量份)，则晶型控制剂的含量过低，无法令晶型控制剂中的sds或者十六烷基溴化铵形成胶束状态，从而对蒙砂液中的正离子或者负离子起不到吸附作用，进而无法诱导氟硅酸铵、氟硅酸钠、氟硅酸钙形成棱锥状的颗粒，进而玻璃也就无法获得闪光的效果。若晶型控制剂的质量含量过大(如大于0.5重量份)，形成的棱锥状颗粒大小不一，进而玻璃表面的尖状凸起尺寸也不均匀，导致闪光效果不均匀，影响外观效果的美观性。本技术通过对蒙砂液中晶型控制剂的含量进行优化，可获得较佳的闪光效果。
26.根据本技术的示例，晶型控制剂中的第一控制剂和第二控制剂的质量比可以为(2:3)～(3:2)，如2:3、4:5、1:1、6:5、3:2，优选1:1。发明人发现，若第一控制剂的含量过少，则较难拉拢晶粒，颗粒长大速度会减慢，颗粒尺寸减小，会降低闪光效果的明显程度。若第一控制剂的含量过多，颗粒的尺寸会不均匀，会降低闪光效果的均匀性以及美观性。本技术通过对第一控制剂和第二控制剂的质量比进行优化，可获得明显且均匀的闪光效果，提升玻璃外观效果的美观性。
27.根据本技术的示例，第一组分和第二组分的质量比可以为(8:9)～(9:8)，如8:9、9:10、1:1、9:8，优选1:1。发明人发现，若第二组分的含量过多，则整个体系中离子的浓度会下降，会影响蚀刻的均匀性。若第一组分的含量过多，则体系中氟离子过多，氢氟酸与玻璃反应过程中，释放出来的钠离子增多，晶粒形核速度会加快，形成的纳米级晶核较多，不利于颗粒的长大，从而会降低闪光效果的明显程度。本技术通过对第一组分和第二组分的质量比进行优化，可进一步提升闪光效果的明显程度以及均匀性，进一步提升玻璃外观效果的美观性。
28.综上，本技术通过在蒙砂液中加入晶型控制剂，在蒙砂液与玻璃反应的过程中，晶型控制剂可吸附正离子或者负离子，并对氟硅酸铵、氟硅酸钠、氟硅酸钙的晶型进行控制，形成棱锥状颗粒，棱锥状颗粒附着在玻璃上，对玻璃起到保护作用，使得蒙砂液沿着棱锥状颗粒的轮廓对玻璃进行蚀刻，在玻璃表面形成形状与棱锥状颗粒相似的尖状凸起，最后需要对玻璃进行清洗，以洗去玻璃表面的棱锥状颗粒，获得蒙砂玻璃，使玻璃获得闪光效果。
29.在本技术的另一方面，本技术提出了一种制备前面描述的蒙砂液的方法。根据本技术的示例，参考图1，该方法包括：
30.s100：制备第一组分和第二组分
31.在该步骤中，制备第一组分和第二组分。根据本技术的示例，分别称取60-70重量份的氟化氢铵、25-30重量份的氟硅酸铵、2-5重量份的氟硅酸钠、2-5重量份的氟硅酸钙和0.2-0.5重量份的晶型控制剂，然后将上述各成分放入药粉搅拌器中进行搅拌，搅拌均匀得到第一组分。由于第一组分为固体，将第一组分中的各成分放入药粉搅拌器中进行搅拌，便于获得混合均匀的第一组分。关于晶型控制剂的具体构成及多种晶型控制剂的质量比，前面已经进行了详细描述，在此不再赘述。
32.根据本技术的示例，分别称取45-55重量份的水和45-55重量份的硝酸，然后将水和硝酸放入普通搅拌器中进行搅拌，搅拌均匀得到第二组分。第一组分和第二组分的制备顺序不受特别限制，可以先制备第一组分，然后再制备第二组分，也可以先制备第二组分，然后再制备第一组分。
33.s200：将第一组分和第二组分进行混合、熟化并过滤，获得蒙砂液
34.在该步骤中，将第一组分和第二组分进行混合、熟化并过滤，获得蒙砂液。根据本技术的示例，将第一组分和第二组分按照预定的质量比加入到反应釜中进行搅拌反应熟化，然后经网纱过滤得到蒙砂液。具体的，熟化的温度可以为25-30℃(即在常温下进行熟化)，熟化的时间可以为36-48h。由此，可使蒙砂液中的各个成分充分溶解混合，获得平衡的体系。过滤时所使用的网纱的目数可以为60-80目。由此，可过滤掉尺寸较大的杂质(如灰尘、原料中的杂质等)，避免上述杂质粘附在玻璃上，对玻璃造成划伤或者蚀刻不均匀等问题。
35.关于第一组分和第二组分的质量比，前面已经进行了详细描述，在此不再赘述。
36.在本技术的另一方面，本技术提出了一种蒙砂玻璃的加工方法。根据本技术的示例，参考图2，该方法包括：
37.s300：利用前面描述的蒙砂液对玻璃基体的预定区域进行摆动蚀刻，形成蒙砂部
38.在该步骤中，利用前面描述的蒙砂液对玻璃基体的预定区域进行摆动蚀刻，形成蒙砂部，令蒙砂部形成尖状凸起。根据本技术的示例，将玻璃基体放入蒙砂液中，并进行摆
动，以实现对玻璃基体的蚀刻。摆动蚀刻的摆动行程可以为25-40cm，如25cm、30cm、35cm、40cm，摆动蚀刻的摆动速度可以为18-21m/min，如18m/min、19m/min、20m/min、21m/min。发明人发现，若摆动行程过短(如小于25cm)，则与玻璃基体接触的蒙砂液较为有限，会影响蚀刻的均匀性。若摆动行程过长(如大于40cm)，则需要的蒙砂液较多，且需要较大的反应槽(用于盛放蒙砂液)，增加成本。若摆动蚀刻的摆动速度过慢(如小于18m/min)，则会减少晶粒与玻璃基体接触的几率，即后续形成的晶粒不断沉积在前面形成的晶粒上，而非与玻璃基体接触，从而影响颗粒分布的均匀性，并且晶粒在相同位置不断沉积，会增大过刻的风险，影响颗粒尺寸的均匀性，进而影响闪光效果。若摆动蚀刻的摆动速度过快(如大于21m/min)，则不利于颗粒的长大，从而会降低闪光效果的明显程度。本技术通过对摆动行程以及摆动速度进行优化，可进一步提升闪光效果的明显程度以及均匀性，进一步提升玻璃外观效果的美观性。
39.需要说明的是，“摆动行程”为摆动的单程。
40.根据本技术的示例，摆动蚀刻的温度可以为8-12℃，如8℃、9℃、10℃、11℃、12℃。发明人发现，若温度过低(如小于8℃)，则晶粒形核及生长会减慢，得到的颗粒尺寸减小，从而会降低闪光效果的明显程度。若温度过高(如大于12℃)，则氟硅酸铵、氟硅酸钠、氟硅酸钙等的溶解度会增大，也会使颗粒的尺寸减小。本技术通过对摆动蚀刻的温度进行优化，可进一步提升闪光效果的明显程度，进一步提升玻璃外观效果的美观性。
41.根据本技术的示例，摆动蚀刻的时间可以为65-90s，如65s、70s、75s、80s、85s、90s。由此，可以使蒙砂液与玻璃充分反应，在玻璃表面形成均匀分布且大小均匀的尖状凸起，使得玻璃获得均匀且美观的闪光效果。
42.根据本技术的示例，在蒙砂液与玻璃反应的过程中，形成的棱锥状颗粒具体可以为六面体颗粒，玻璃表面对应形成的尖状凸起为六面体凸起，使得玻璃获得闪光效果。
43.此外，发明人发现，若采用静置浸泡蚀刻，形成的颗粒会在玻璃基体表面分布不均匀，且颗粒会在玻璃基体的局部区域不断长大，导致颗粒尺寸过大，且颗粒大小不均匀，获得的闪光效果不均一，影响玻璃外观的美观性，且会造成玻璃基体表面粗糙度过大，影响手感。
44.根据本技术的示例，在对玻璃基体进行摆动蚀刻之前，该方法还可以包括：对玻璃基体表面进行预处理，例如，利用5％的氢氟酸进行酸洗25秒后漂洗，以获得清洁的表面，增大玻璃基体表面的达因值，利于后续形成的颗粒在玻璃基体表面附着。
45.根据本技术的示例，玻璃基体除预定区域以外的部分覆盖有抗蚀刻油墨，由此，在蚀刻过程中，可防止蒙砂液与玻璃基体除预定区域以外的部分进行反应，从而可达到选择性蚀刻的目的。关于抗蚀刻油墨的具体成分不受特别限制，只要可以保护玻璃基体被该油墨覆盖的部分不被蒙砂液蚀刻即可，本领域技术人员可以根据具体情况进行选择。
46.s400：对经摆动蚀刻后的玻璃基体进行清洗，获得蒙砂玻璃
47.在该步骤中，对经摆动蚀刻后的玻璃基体进行清洗，获得蒙砂玻璃。根据本技术的示例，通过对玻璃基体进行清洗，洗去附着在玻璃表面的颗粒，从而获得具有闪光效果的蒙砂玻璃。
48.本领域技术人员能够理解的是，该方法还包括去除玻璃基体上的抗蚀刻油墨，以获得蒙砂玻璃。
49.在本技术的另一方面，本技术提出了一种蒙砂玻璃。根据本技术的示例，该蒙砂玻璃是利用前面描述的方法加工形成的。由此，该蒙砂玻璃具有较佳的闪光效果。
50.根据本技术的示例，蒙砂玻璃的蒙砂部的粗糙度为1.4-2.6μm。由此，该蒙砂玻璃具有合适的粗糙度，可进一步提升蒙砂玻璃的闪光效果，同时使蒙砂玻璃具有较佳的手感。关于粗糙度的检测方法不受特别限制，例如，可采用marsurf m400马尔粗糙度仪进行检测。
51.根据本技术的示例，蒙砂玻璃的雾度为70-90％。由此，蒙砂玻璃在具有闪光效果的同时，还具有较佳的雾面效果。关于雾度的检测方法不受特别限制，例如，可采用色彩雾度计ydcs-720进行检测。
52.根据本技术的示例，电池后盖可以是利用前面描述的蒙砂玻璃形成的，由此，电池后盖可呈现出闪闪发光的效果，显著提升外观表现力，满足用户对电子设备多样化的需求。
53.根据本技术的示例，电子设备可以包括前面描述的电池后盖、显示屏和主板，电池后盖限定出容纳空间，显示屏和主板设置在上述容纳空间内，且显示屏和主板电连接。由此，该电子设备具有闪闪发光的外观，可满足用户对电子设备多样化的需求。
54.下面通过具体的示例对本技术的方案进行说明，需要说明的是，下面的示例仅用于说明本技术，而不应视为限定本技术的范围。示例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。
55.示例1
56.蒙砂液：
57.第一组分：65重量份的氟化氢铵、30重量份的氟硅酸铵、2.5重量份的氟硅酸钠、2重量份的氟硅酸钙、0.25重量份的pvp、0.25重量份的sds。
58.第二组分：50重量份的纯水和50重量份的硝酸。
59.蒙砂液的制备方法：
60.(1)按照以上重量份进行原料配制。
61.(2)第一组分配料完成后，用药粉搅拌器搅拌均匀，第二组分配料完成后，用普通搅拌器搅拌均匀。
62.(3)第一组分和第二组分按照质量比1:1加入到反应搅拌釜中进行常温搅拌反应熟化，反应熟化时间40小时，然后用80目网纱过滤得到蒙砂液。
63.蒙砂玻璃的加工方法：
64.(1)先将gg5材质的玻璃利用5％的hf进行酸洗25秒后漂洗。
65.(2)将漂洗后的玻璃放入熟化好的蒙砂液中，进行摆动蚀刻，摆动蚀刻的行程为40cm，摆动蚀刻的速度为20m/min，摆动蚀刻的温度为10℃，摆动蚀刻的时间为90s。
66.(3)蒙砂后进行两次纯水漂洗得到蒙砂玻璃。
67.利用电子扫描显微镜观察本示例蒙砂玻璃的蒙砂部，可观察到六面体凸起，且六面体凸起分布均匀(参考图3)。肉眼观察该蒙砂玻璃，可观察到均匀且美观的闪光效果。
68.蒙砂部的粗糙度为1.4-2.6μm，雾度为70-90％。
69.示例2
70.蒙砂液：
71.第一组分：70重量份的氟化氢铵、25重量份的氟硅酸铵、2.6重量份的氟硅酸钠、2
重量份的氟硅酸钙、0.2重量份的pvp、0.2重量份的sds。
72.第二组分：50重量份的纯水和50重量份的硝酸。
73.本示例蒙砂液的制备方法以及蒙砂玻璃的加工方法，均与示例1相同。
74.利用电子扫描显微镜观察本示例蒙砂玻璃的蒙砂部，可观察到六面体凸起，且六面体凸起分布均匀。肉眼观察该蒙砂玻璃，可观察到均匀且美观的闪光效果。
75.示例3
76.蒙砂液：
77.第一组分：63重量份的氟化氢铵、28重量份的氟硅酸铵、4重量份的氟硅酸钠、4.7重量份的氟硅酸钙、0.15重量份的pvp、0.15重量份的sds。
78.第二组分：50重量份的纯水和50重量份的硝酸。
79.本示例蒙砂液的制备方法以及蒙砂玻璃的加工方法，均与示例1相同。
80.利用电子扫描显微镜观察本示例蒙砂玻璃的蒙砂部，可观察到六面体凸起，且六面体凸起分布均匀。肉眼观察该蒙砂玻璃，可观察到均匀且美观的闪光效果。
81.示例4
82.蒙砂液：
83.第一组分：65重量份的氟化氢铵、30重量份的氟硅酸铵、2.6重量份的氟硅酸钠、2重量份的氟硅酸钙、0.15重量份的pvp、0.25重量份的sds。
84.第二组分：50重量份的纯水和50重量份的硝酸。
85.本示例蒙砂液的制备方法以及蒙砂玻璃的加工方法，均与示例1相同。
86.利用电子扫描显微镜观察本示例蒙砂玻璃的蒙砂部，可观察到六面体凸起，六面体凸起分布均匀，但六面体凸起的尺寸较示例1稍小。肉眼观察该蒙砂玻璃，可观察到均匀的闪光效果，但闪光明显程度稍低于示例1。
87.示例5
88.蒙砂液：
89.第一组分：68重量份的氟化氢铵、30重量份的氟硅酸铵、4.5重量份的氟硅酸钠、5重量份的氟硅酸钙、0.25重量份的pvp、0.25重量份的sds。
90.第二组分：45重量份的纯水和45重量份的硝酸。
91.第一组分和第二组分的质量比为1.2。
92.本示例蒙砂液的制备方法以及蒙砂玻璃的加工方法，均与示例1相同。
93.利用电子扫描显微镜观察本示例蒙砂玻璃的蒙砂部，可观察到六面体凸起，六面体凸起分布均匀，但六面体凸起的尺寸较示例1稍小。肉眼观察该蒙砂玻璃，可观察到均匀的闪光效果，但闪光明显程度稍低于示例1。
94.对比例1
95.蒙砂液：
96.第一组分：65重量份的氟化氢铵、30重量份的氟硅酸铵、2.5重量份的氟硅酸钠、2.5重量份的氟硅酸钙。
97.第二组分：50重量份的纯水和50重量份的硝酸。
98.本对比例蒙砂液的制备方法以及蒙砂玻璃的加工方法，均与示例1相同。
99.利用电子扫描显微镜观察本对比例蒙砂玻璃的蒙砂部，玻璃表面无尖状凸起，且
有漏砂现象。肉眼观察不到闪光效果。
100.蒙砂部的粗糙度为2.2-3.1μm，雾度为70-90％，粗糙度明显上升。
101.对比例2
102.蒙砂液：
103.第一组分：65重量份的氟化氢铵、30重量份的氟硅酸铵、2.4重量份的氟硅酸钠、2重量份的氟硅酸钙、0.3重量份的pvp、0.3重量份的sds。
104.第二组分：50重量份的纯水和50重量份的硝酸。
105.本对比例蒙砂液的制备方法以及蒙砂玻璃的加工方法，均与示例1相同。
106.利用电子扫描显微镜观察本对比例蒙砂玻璃的蒙砂部，玻璃表面具有尖状凸起，但尖状凸起的大小不均匀。肉眼可观察到闪光效果，但闪光较为杂乱、不均匀，达不到细腻美观的效果。
107.在本说明书的描述中，参考术语“一个示例”、“另一个示例”等的描述意指结合该示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本技术的至少一个示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同示例以及不同示例的特征进行结合和组合。另外，需要说明的是，本说明书中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，为了直观的区分构成蒙砂液的两种组分，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。
108.尽管上面已经示出和描述了本技术的示例，可以理解的是，上述示例是示例性的，不能理解为对本技术的限制，本领域的普通技术人员在本技术的范围内可以对上述示例进行变化、修改、替换和变型。