一种OLED显示面板及其制备方法与流程

一种oled显示面板及其制备方法
技术领域
1.本技术涉及显示技术领域，具体涉及一种oled显示面板及其制备方法。


背景技术：

2.有机发光二极管(organic light-emitting diode，oled)器件具有自发光，对比度高，响应速度快，轻薄，可弯折等特点，已成为显示技术的主要趋势。
3.相对于采用真空热蒸镀的方式来制作oled器件，喷墨打印技术因其材料利用率高达》98％以上，不使用精细金属掩模板，以及可以制作大尺寸oled显示装置等优点，因此，已成为大尺寸oled器件及显示装置的主流制造方案。
4.目前喷墨打印oled器件的主要结构为，阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极。大尺寸oled产品，尤其电视，对视角要求高，目前刚性oled产品可以通过引入lcd彩膜的方案来改善视角，但大尺寸柔性oled产品，因无法使用刚性玻璃基板的彩膜技术，因此视角无法达标。视角问题是大尺寸柔性oled产品的瓶颈。


技术实现要素：

5.本发明提供了一种oled显示面板，当光线辐射至散射粒子，光线的出射角度被散射粒子改变，达到增大视角的效果。
6.本发明实施例提供了一种oled显示面板，所述oled显示面板包括：
7.oled器件基板；
8.粘合层，所述粘合层设置在所述oled器件基板上；所述粘合层内掺杂有散射粒子；以及
9.防护结构层，所述防护结构层设置在所述粘合层上，所述防护结构层用于阻挡水氧。
10.可选的，在本技术的一些实施例中，所述粘合层由粘合材料和散射粒子组成，散射粒子质量分数为1％-3％。
11.其中，所述粘合层包括第一部分和第二部分，所述第二部分设置在所述第一部分的周侧，位于所述第二部分的散射粒子的分布密度大于所述第一部分的所述散射粒子的分布密度。
12.可选的，在本技术的一些实施例中，位于所述第二部分的散射粒子的粒径小于位于所述第一部分的散射粒子的粒径。
13.可选的，在本技术的一些实施例中，位于所述第二部分的散射粒子的表面呈凹凸状，位于所述第一部分的散射粒子的表面呈光滑状。
14.可选的，在本技术的一些实施例中，所述防护结构层包括第一透光层和设置在所述第一透光层上的第二透光层，所述第一透光层设置在所述粘合层上，所述第一透光层的折射率大于所述第二透光层的折射率。
15.可选的，在本技术的一些实施例中，所述粘合层的折射率大于所述第一透光层的
折射率。
16.可选的，在本技术的一些实施例中，所述oled器件基板包括oled器件层和封装层，所述封装层设置在所述oled器件层上，所述封装层的折射率大于所述粘合层的折射率。
17.相应的，本技术实施例还提供一种oled显示面板的制备方法，包括以下步骤：
18.提供一oled器件基板；
19.提供一防护结构层，所述防护结构层用于阻挡水氧；
20.在oled器件基板或者所述防护结构层上设置粘合层，所述粘合层内掺杂有散射粒子，所述粘合层粘合在所述oled器件基板和所述防护结构层之间。
21.可选的，在本技术的一些实施例中，在oled器件基板或所述防护结构层上设置粘合层的步骤包括：
22.将粘合材料和散射粒子按照设定质量分数进行混合，形成混合材料；所述散射粒子的设定质量分数为1％-3％；
23.在所述防护结构层上形成粘合层。
24.本发明的有益效果：当光线辐射至散射粒子，光线的出射角度被散射粒子改变，达到增大视角的效果。
附图说明
25.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
26.图1是本技术实施例的oled面板的结构示意图；
27.图2是本技术实施例的oled面板中粘合层的结构示意图；
28.图3是本技术实施例的oled面板的防护结构和粘合层贴合的结构示意图；
29.图4是本技术实施例的oled面板的制备方法示意图；
30.图5是本技术实施例的oled面板的制备方法中步骤b1的示意图；
31.图6是本技术实施例的oled面板的制备方法中步骤b2的示意图；
32.图7是本技术实施例的oled面板的制备方法中步骤b3的示意图。
33.附图标记说明：
34.oled器件基板10、oled器件层10a、平坦化层11a、tft器件层11、第一电极层12、像素定义层12a、空穴注入层13、空穴传输层14、发光层15、电子传输层16、电子注入层17、第二电极层18、封装层19、第一部分201、第二部分202、粘合层20、散射粒子20a、粘合材料20b、防护结构层30、第一透光层31、第二透光层32、柔性基板33、玻璃34。
具体实施方式
35.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说
明和解释本技术，并不用于限制本技术。在本技术中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
36.本技术实施例提供了一种oled显示面板及其制备方法，下文进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
37.请参阅图1，本发明实施例提供了一种oled显示面板100，oled显示面板100包括oled器件基板10，粘合层20和防护结构层30。
38.粘合层20设置在oled器件基板10上。粘合层20内掺杂有散射粒子20a。
39.防护结构层30设置在粘合层20上。防护结构层30用于阻挡水氧。
40.请参阅图2，本实施例的oled显示面板100采用在粘合层20中掺杂散射粒子20a；当光线辐射至散射粒子20a，光线的出射角度被散射粒子20a改变，达到增大视角的效果。
41.请参阅图2，在本实施例中，粘合层20由粘合材料20b和散射粒子20a组成。散射粒子20a质量分数为1％-3％，在此数值范围的散射粒子20a，当散射粒子20a的质量分数小于此范围时，由于散射粒子20a数量较少不能有效散射更多的光线。不能保证出光的均匀性。当散射粒子20a的质量分数大于此范围时，过多的散射粒子20a会影响透光率。在此范围值的散射粒子20a质量分数既保证了出光率又保证了出光的均匀性。可选的，散射粒子20a质量分数可以是1％、2％或3％。
42.需要说明的是，散射粒子20a的质量分数为散射粒子20a质量与粘合层20的质量的百分比。
43.散射粒子20a的折射率与粘合材料20b的折射率不同，以打破均匀介质中原有的光学均匀性和次波间的干涉平衡，产生光的散射。
44.可选的，散射粒子20a的材料可以选取氧化硅(sio2)、二氧化钛(tio2)、三氧化钼(moo3)、氧化锌(zno)、氧化镍(nio)和三氧化钨(wo3)中的一种或者两种及以上的材料混合。
45.散射粒子20a的粒径在50微米-300微米之间，比如可以为50微米、150微米或300微米。
46.请参阅图2，可选的，粘合层20包括第一部分201和第二部分202。第二部分202设置在第一部分201的周侧。位于第二部分202的散射粒子20a的分布密度大于第一部分201的散射粒子20a的分布密度。
47.也就是说，散射粒子20a粘合层20中的散射粒子20a可以分散到多个区域，区域的划分依据粘合层20中的散射粒子20a均匀分布时的出光强度，将出光强度大的区域内掺杂更少散射粒子20a，达到补偿低出光强度的区域的目的，从而使出光更加均匀。
48.在一些实施例中，粘合层20中的散射粒子20a均匀分布。
49.在本技术的一些实施例中，位于第二部分202的散射粒子20a的粒径小于位于第一部分201的散射粒子20a的粒径。
50.其中，位于第二部分202的散射粒子20a的粒径小于位于第一部分201的散射粒子20a的粒径可以使第二部分202的散射粒子20a密度更大，拥有更多的散射方向。由于第一部分201的出光量大于第二部分202的出光量，第二部分202具有更好的散射效果，使得显示面板100具有均匀出光的效果。
51.在本技术的一些实施例中，位于第二部分202的散射粒子20a的表面呈凹凸状，位于第一部分201的散射粒子20a的表面呈光滑状。
52.其中，第二部分202的散射粒子20a的表面呈凹凸状，可以使第二部分202的散射粒子20a拥有更多的散射方向。第一部分201的散射粒子20a表面呈光滑状，可以使得经第一部分201的出射光线的散射方向较少。由于第一部分201的出光量大于第二部分202的出光量，第二部分202具有更好的散射效果，使得显示面板100具有均匀出光的效果。
53.请参阅图3，在本技术的一些实施例中，防护结构层30包括第一透光层31和设置在第一透光层31上的第二透光层32，第一透光层31设置在粘合层20上，第一透光层31的折射率大于第二透光层32的折射率。
54.当光线穿过第一透光层31和第二透光层32的界面时，光线发生折射，进而起到增大视角的效果。
55.可选的，第一透光层31的材料可以采用sio
x
、sin
x
、sion和sioc的至少一种。第一透光层31的厚度在40纳米-60纳米之间，比如可以为40纳米、50纳米或60纳米。
56.可选的，第二透光层32的材料可以采用sio
x
、sin
x
、sion和sioc中的至少一种。第二透光层32的厚度为30纳米-1000纳米之间，比如可以为30纳米、500纳米或1000纳米。
57.在本技术的一些实施例中，粘合层20的折射率大于第一透光层31的折射率。
58.当光线穿过第一透光层31和粘合层20的界面时，光线发生折射，进而起到增大视角的效果。
59.防护结构层30还包括柔性基板33，柔性基板33设置在第二透光层32上。
60.可选的，柔性基板33的材料可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺薄膜等材料。柔性基板33的厚度为20微米到100微米之间，比如可以为20微米、40微米或100微米。
61.请参阅图1，在本实施例中，oled器件基板10包括oled器件层10a和封装层19，封装层19设置在oled器件层10a上。封装层19的折射率大于粘合层20的折射率。
62.oled器件基板10包括tft器件层11、第一电极层12、空穴注入层13、空穴传输层14、发光层15、电子传输层16、电子注入层17、第二电极层18。封装层19位于第二电极层18上。
63.其中，第一电极层12可以阳极和阴极中的一者，第二电极层18是阳极和阴极中的另一者。
64.请参照图4，本技术还涉及一种oled显示面板的制备方法，包括以下步骤：
65.步骤b1，提供一oled器件基板10；
66.步骤b2，提供一防护结构层30，防护结构层30用于阻挡水氧；
67.步骤b3，在oled器件基板10或者防护结构层30上设置粘合层20，粘合层20内掺杂有散射粒子20a，粘合层20粘合在oled器件基板10和防护结构层30之间。
68.粘合层20内掺杂有散射粒子20a。当光线辐射至散射粒子20a，光线的出射角度被散射粒子20a改变，达到增大视角的效果。
69.需要说明的是，步骤b1和步骤b2没有先后顺序之分。粘合层20可以形成在oled器件基板10或者防护结构层30。本技术实施例以粘合层20可以形成在防护结构层30为例进行说明，但不限于此。下文对oled显示面板的制备方法进行阐述。
70.步骤b1，请参照图5，提供一oled器件基板10；
71.可选的，步骤b1包括以下步骤：在基板上制作tft器件层11；tft器件层11制作完成
后再制作平坦化层11a，再在平坦化层11a上制作oled器件第一电极层12，在第一电极层12上面制作像素定义层12a。
72.在像素定义层12a上，通过喷墨打印的方式制作空穴注入层13、空穴传输层14、发光层15。
73.在发光层15上通过蒸镀方法制作电子传输层16、电子注入层17和第二电极层18。在阴极上制作封装层19。
74.其中，tft器件层11中的tft器件可以是低温多晶硅，铟镓锌氧化物等材料制作的器件，
75.封装层19采用无机薄膜和有机薄膜交替的复合薄膜封装技术，在本实施例中，有机薄膜采取了亚克力树脂层，无机薄膜采取了sinx层。可选的，封装层19还可以采取无机薄膜封装、有机薄膜封装等结构，在封装技术上还会采用薄膜封装、铟封接、熔块熔接密封等技术。可选的，为了去除残留的水氧，还可以在封装层19中加入干燥剂。
76.随后转入步骤b2。
77.步骤b2，请参照图6，提供一防护结构层30，防护结构层30用于阻挡水氧。
78.可选的，步骤b2包括以下步骤：将柔性基板33材料涂布于玻璃34上，固化完成柔性基板33的制作。随后，在柔性基板33上通过化学气相沉积制作第二透光层32。接着，在第二透光层32上采用原子层沉积法制作第一透光层31。
79.其中，第一透光层31的材料为氧化铝，分为两次制作，在本实施例中，第一次制作厚度为20纳米，第二次制作厚度为30纳米，总厚度约为50纳米。其中第一次制作的厚度为10纳米-40纳米，可选的为10纳米、20纳米或40纳米。第二次制作的厚度为10纳米-40纳米，可选的为10纳米、30纳米或40纳米。第一透光层31的总厚度在40纳米-60纳米，可选的为40纳米、50纳米或60纳米；
80.可选的，第一透光层31的材料可以采用siox、sinx、sion和sioc的至少一种。第一透光层31的厚度在40纳米-60纳米之间，比如可以为40纳米、50纳米或60纳米。
81.可选的，第二透光层32的材料选取可以采用siox、sinx、sion和sioc中的至少另一种。第二透光层32的厚度为30纳米-1000纳米之间，比如可以为30纳米、500纳米或1000纳米。
82.随后转入步骤b3。
83.步骤b3，请参照图7，在防护结构层30上设置粘合层20，粘合层20内掺杂有散射粒子20a，粘合层20粘合在oled器件基板10和防护结构层30之间。
84.可选的，步骤b3包括以下步骤：
85.步骤b31，将粘合材料20b和散射粒子20a进行混合，将粘合材料20b和散射粒子20a按照设定质量分数进行混合，形成混合材料。
86.步骤b32，在第二透光层32涂布混合材料形成黏合层20。
87.步骤b33，去除防护结构层30下的基板，并将防护结构层30通过粘合层20设置在oled器件基板10上。
88.可选的，用激光玻璃方法将防护结构层30与基板分开。
89.其中，粘合材料20b的厚度在180微米-220微米之间，可选的为180微米、200微米或220微米。
90.可选的，散射粒子20a的粒径在50微米-300微米，可选的为50微米，150微米或300微米。
91.可选的，散射粒子20a的材料可以选取氧化硅(sio2)、二氧化钛(tio2)、三氧化钼(moo3)、氧化锌(zno)、氧化镍(nio)和三氧化钨(wo3)中的一种或者两种及以上的材料混合。
92.可选的，散射粒子20a的设定质量分数为1％-3％，比如1％、2％或3％；
93.另外，在本实施例中，oled显示面板的制备方法，还包括以下步骤：
94.固化粘合层20。
95.可选的，采用热固化的方式将粘合层20固化，固化温度为70℃-90℃，比如可以是70、80和90摄氏度。时间为0.8-1.5小时，比如可以是0.8小时、1小时或1.5小时。
96.在本实施例中，粘合层20采取的粘合材料20b为热固化材料，因此采用热传导方式进行固化。本实施例选取采取红外炉，热板，热风任意一种都可以。在一些实施例中粘合材料20b还可以选取光固化材料，在此步骤中选取光固化的固化方式，例如紫外固化。
97.这样便完成了本技术的oled显示面板的制备过程。
98.以上对本技术实施例所提供的一种oled显示面板及制作方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本技术的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本技术的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本技术的限制。