一种残膜回收机防缠绕挑膜装置的制 一种秧草收获机用电力驱动行走机构

颜色转换面板的制作方法

2022-02-22 03:13:01 来源:中国专利 TAG:


1.本揭示涉及一种颜色转换面板。


背景技术:

2.低折射率材料可用于各种处理光的装置。当使用低折射率的特性时,可表现出低反射率效果。低折射率材料可用于减少光传感器外部的透镜的低反射层上、显示器或太阳能电池最外部的抗反射涂层(anti-reflection coating,ar)上或光移动的装置内部的光损失的层,以提高效率。此外,随着涂层的折射率降低,涂层的厚度可减小,且因此涂膜的边缘可变得更宽,并且根据装置目的的效率可增加。
3.特别地,随着最近显示器的发展,使用显示器的各种显示器装置变得多样化。在有机发光二极管(organic light-emitting diode,oled)或包含显示器装置的量子点的显示器装置中,需要光致发光材料的发光效率。
4.根据现存技术,当使用热固性低折射率材料时,需要在350℃或高于350℃及至少300℃或高于300℃的温度下进行烘烤制程。作为另一选择,需要使用气相沉积,例如化学气相沉积(chemical vapor deposition,cvd),但是难以获得如上所述的低折射性质。作为另一选择,已经使用了昂贵的中空颗粒(中空二氧化硅),但是该些颗粒可在例如蚀刻及图案化等制程中散开,使得后续处理变得困难。


技术实现要素:

5.技术问题
6.一实施例提供一种具有增加的发光效率的颜色转换面板。
7.本发明要解决的技术目的不限于以上所述者,并且本发明所属技术中技术人员将自以下说明中清楚地理解未提及的另外的技术目的。
8.技术解决方案
9.(1)一实施例提供一种颜色转换面板,所述颜色转换面板包括:基板;颜色转换层,设置在所述基板上且包括颜色转换构件;低折射层,设置在所述基板与所述颜色转换层之间、设置在所述颜色转换层上或设置在所述基板与所述颜色转换层之间且设置在所述颜色转换层上;以及平坦化层,覆盖所述低折射层及所述颜色转换层,其中所述颜色转换构件包含量子点,且所述低折射层包含聚合物基质及分散在所述聚合物基质中的中空颗粒。
10.(2)所述低折射层可设置在所述颜色转换层上。
11.(3)所述低折射层对于波长为500纳米至550纳米的光具有小于1.32的折射率。
12.(4)所述低折射层对于波长为400纳米的光可具有大于或等于90%的透光率。
13.(5)所述聚合物基质可包括硅酮系聚合物或丙烯酸系聚合物。
14.(6)所述聚合物基质可包括通过化学式1表示的化合物和/或由化学式2表示的化合物的水解-缩合反应而形成的硅酮系聚合物。
15.[化学式1]
[0016]
(r1)a(r2)b(r3)
c-si-(or4)
4-a-b-c
[0017]
在化学式1中,
[0018]
r1至r3独立地为氢、经取代或未经取代的c1至c30烷基、经取代或未经取代的c3至c30环烷基、经取代或未经取代的c6至c30芳基、经取代或未经取代的c7至c30芳基烷基、经取代或未经取代的c1至c30杂烷基、经取代或未经取代的c2至c30杂环烷基、经取代或未经取代的c2至c30烯基、经取代或未经取代的c2至c30炔基、r(c=o)-(其中r是经取代或未经取代的c1至c30烷基、经取代或未经取代的c3至c30环烷基、或经取代或未经取代的c6至c30芳基)、环氧基、(甲基)丙烯酸酯基、(甲基)丙烯酰氧基或其组合,
[0019]
r4是氢、或经取代或未经取代的c1至c30烷基、经取代或未经取代的c3至c30环烷基、经取代或未经取代的c6至c30芳基、经取代或未经取代的c7至c30芳基烷基、或其组合,及
[0020]
0≤a b c《4;
[0021]
[化学式2]
[0022]
(r7o)
3-d-e
(r5)d(r6)
e-si-y
1-si-(r8)f(r9)g(or
10
)
3-f-g
[0023]
其中,在化学式2中,
[0024]
r5、r6、r8及r9独立地为氢、经取代或未经取代的c1至c30烷基、经取代或未经取代的c3至c30环烷基、经取代或未经取代的c6至c30芳基、经取代或未经取代的c7至c30芳基烷基、经取代或未经取代的c1至c30杂烷基、经取代或未经取代的c2至c30杂环烷基、经取代或未经取代的c2至c30烯基、经取代或未经取代的c2至c30炔基、r(c=o)-(其中r是经取代或未经取代的c1至c30烷基、经取代或未经取代的c3至c30环烷基、或经取代或未经取代的c6至c30芳基)、环氧基、(甲基)丙烯酸酯基、经(甲基)丙烯酸酯基取代的c1至c30烷基、(甲基)丙烯酰氧基、或其组合,
[0025]
r7及r
10
独立地为氢、经取代或未经取代的c1至c30烷基、经取代或未经取代的c3至c30环烷基、经取代或未经取代的c6至c30芳基、经取代或未经取代的c7至c30芳基烷基、或其组合,
[0026]
y1是经取代或未经取代的c1至c30亚烷基、经取代或未经取代的c3至c30亚环烷基、经取代或未经取代的c6至c30亚芳基、或其组合,
[0027]
0≤d e《3,且
[0028]
0≤f g《3。
[0029]
(7)以聚苯乙烯标准样品计,所述硅酮系聚合物的重量平均分子量(mw)可为1,000克/摩尔至100,000克/摩尔。
[0030]
(8)所述聚合物基质可为通过化学式1表示的所述化合物及由化学式2表示的所述化合物的水解-缩合反应而制备的碳硅烷-硅氧烷共聚物。
[0031]
(9)所述碳硅烷-硅氧烷共聚物可通过包含以由化学式1表示的所述化合物及由化学式2表示的所述化合物的总质量计,小于或等于20%的由化学式2表示的所述化合物、通过水解-缩合反应来制备。
[0032]
(10)所述中空颗粒可为包括氧化钛、氧化硅、氧化钡、氧化锌、氧化锆、或其组合的中空金属氧化物微粒。
[0033]
(11)所述中空金属氧化物微粒可包括tio2、sio2、batio3、ba2tio4、zno、zro2、或其
组合。
[0034]
(12)所述中空颗粒的平均直径(d50)可为10纳米至150纳米。
[0035]
(13)所述中空颗粒的孔隙率可为40%至90%。
[0036]
(14)以所述低折射层的总质量计,所述中空颗粒的含量可小于或等于80质量%。
[0037]
(15)所述颜色转换构件可更包含分散有所述量子点的黏合剂树脂。
[0038]
(16)所述颜色转换构件中的所述黏合剂树脂可包括丙烯酸系黏合剂树脂、卡多系黏合剂树脂或其组合。
[0039]
(17)所述量子点可在500纳米至680纳米的波长下具有最大萤光发射。
[0040]
(18)所述平坦化层可包含与包含在所述低折射层中的所述聚合物基质相同或不同的聚合物基质。
[0041]
(19)所述颜色转换面板可还包括覆盖所述平坦化层的第一顶盖层及设置在所述低折射层与所述颜色转换层之间的第二顶盖层中的至少一者。
[0042]
有利效果
[0043]
根据本揭示,可提供一种能够提高发光效率的颜色转换面板。
附图说明
[0044]
图1是根据实施例的颜色转换面板的示意性俯视图。
[0045]
图2是示出沿图1的ii-ii线截取的剖面的示意性剖视图。
[0046]
图3是根据图2的例示性变型的剖视图。
[0047]
图4是根据图2的例示性变型的剖视图。
[0048]
图5是根据图2的例示性变型的剖视图。
[0049]
[符号说明]
[0050]
100:颜色转换面板
[0051]
110:基板
[0052]
112:保护层
[0053]
120:低折射层
[0054]
130:颜色转换层
[0055]
132:第一颜色转换层
[0056]
133:第一颜色转换构件
[0057]
134:第二颜色转换层
[0058]
135:第二颜色转换构件
[0059]
136:透射构件
[0060]
140:平坦化层
[0061]
150:第一顶盖层
[0062]
160:第二顶盖层
[0063]
a:第一区域
[0064]
b:第二区域
[0065]
c:第三区域
具体实施方式
[0066]
在下文中,将参考附图详细阐述本发明的示例性实施例。然而,在本揭示的说明中,为了阐明本揭示的主旨,将省略对已知功能或组件的说明。
[0067]
为了清楚地阐述本揭示,在本说明书通篇中,省略与说明不相关的部分,且相同的参考编号指代相同或相似的组件。此外,由于为了便于阐述,视需要表示出图中所示的每个组件的大小及厚度,因此本揭示不限于图示。
[0068]
在附图中,为清晰起见,会夸大层、膜、面板、区域等的厚度。在附图中,为清晰起见,会夸大层或区域等的一部分的厚度。应理解,当称一元件(例如,层、膜、区域、或基板)位于另一元件“上”时,所述元件可直接位于所述另一元件上,抑或亦可存在中间元件。
[0069]
图1是根据实施例的颜色转换面板(100)的示意性俯视图,且图2是示出沿图1的ii-ii线截取的剖面的示意性剖视图。
[0070]
参考图2,根据示例性实施例的颜色转换面板(100)包括基板(110)、低折射层(120)、颜色转换层(130)及平坦化层(140),其中颜色转换层(130)可包括发射至少两种具有不同波长的光的颜色转换层,例如发射具有第一波长的光的第一颜色转换层(132)及发射具有第二波长的光的第二颜色转换层(134)。
[0071]
基板(110)由透明且电性绝缘材料制成,且可在对应于第一颜色转换层(132)及第二颜色转换层(134)的位置处更包括保护层(112)。保护层(112)形成在基板(110)的一个表面上,且当颜色转换层(130)形成在基板(110)上时,保护层(112)使得颜色转换层的图案化被平稳地执行,并且保护颜色转换层内部的颜色转换构件。
[0072]
低折射层(120)可覆盖基板(110)的一部分以及基板(110)的一个表面(例如,基板(110)的形成有保护层(112)的一个表面)上的保护层(112),或者可形成在颜色转换层(130)上以覆盖颜色转换层(130)、基板(110)的一部分及保护层(112)。根据实施例的低折射层(120)对于波长为500纳米至550纳米的光具有小于1.32、例如小于或等于1.31、小于或等于1.30、小于或等于1.29、小于或等于1.28、小于或等于1.27、小于或等于1.26、小于或等于1.25、小于或等于1.24、小于或等于1.23、小于或等于1.22、小于或等于1.21、或小于或等于1.20的相对低的折射率。当低折射层(120)形成在颜色转换层(130)上或颜色转换层(130)之下,或者形成在颜色转换层(130)上及颜色转换层(130)之下两者时,可防止自颜色转换层(130)发射的光被朝向基板(110)反射。亦即,当光穿过低折射层(120)时,光由于折射率的差异而被反射或折射,且再次移动至颜色转换层(130),使得损失的光被重复使用。因此,根据其中低折射层(120)形成在颜色转换层(130)上或颜色转换层(130)之下或者颜色转换层(130)上及颜色转换层(130)之下两者的实施例的颜色转换面板(100)的发光效率可进一步提高。本说明书中的折射率是指指示真空与介质中的光速之比的绝对折射率。
[0073]
此外,低折射层(120)对于波长为400纳米的光可具有大于或等于90%、例如大于或等于91%、大于或等于92%、大于或等于93%、大于或等于94%、大于或等于95%、大于或等于96%、大于或等于97%、大于或等于98%、或大于或等于99%的透光率,但不限于此。当低折射层(120)对于波长为400纳米的光的透光率满足上述范围时,低折射层(120)的光学性质可进一步改善。
[0074]
根据实施例的低折射层(120)包含聚合物基质及分散在所述聚合物基质中的中空颗粒。低折射层(120)可通过在基板(110)上涂布包含聚合物及中空颗粒的用于形成低折射
层的组成物且形成聚合物基质并固化所述聚合物基质来形成。下面将详细阐述用于形成低折射层的组成物的每一组分。
[0075]
如上所述,低折射层(120)形成在颜色转换层(130)上和/或颜色转换层(130)之下。根据图1中的示例性实施例的颜色转换面板(100)包括发射具有第一波长的光的第一颜色转换层(132)及发射具有第二波长的光的第二颜色转换层(134)。例如,第一颜色转换层(132)可发射红光,而第二颜色转换层(134)可发射绿光,但是第一颜色转换层(132)及第二颜色转换层(134)不限于此。此外,颜色转换面板(100)可发射蓝光,或者可更包括发射白光的第三区域(c)。
[0076]
第一颜色转换层(132)及第二颜色转换层(134)分别包括发射具有第一波长的光的第一颜色转换构件(133)及发射具有第二波长的光的第二颜色转换构件(135),并且第一颜色转换构件(133)及第二颜色转换构件(135)中的每一者可包含将入射光的波长转换成其他波长的量子点。稍后将阐述颜色转换构件及颜色转换层(130)中包含的量子点。
[0077]
同时,参考图1,颜色转换层(130)可还包括对应于第三区域(c)设置的透射构件(136)。透射构件(136)可发射自光源接收的光自身,而无需单独的颜色转换。为此,例如,透射构件(136)可形成在与颜色转换层(130)相同的高度处。然而,透射构件(136)不限于此,并且亦可包含量子点以如同第一颜色转换层(132)及第二颜色转换层(134)一样发射波长被转换成特定波长的光。
[0078]
在下文中,详细阐述根据实施例的用于形成低折射层(120)的用于形成低折射层的组成物的每一组分。
[0079]
硅酮系聚合物
[0080]
低折射层(120)可设置在基板(110)与颜色转换层(130)之间,可设置在颜色转换层(130)上,或者可设置在基板(110)与颜色转换层(130)之间以及颜色转换层(130)上两者,并且低折射层(120)可包含聚合物基质及分散在聚合物基质中的中空颗粒。聚合物基质可包括具有低折射性质的聚合物,并且作为此种聚合物的实例,可使用硅酮系聚合物、丙烯酸系聚合物、环氧系聚合物等。在实施例中,聚合物可为硅酮系聚合物。
[0081]
通过包含具有低折射性质的聚合物,低折射层可通过回收光在面板的层之间移动时损失的光量来提高颜色转换面板的发光效率。
[0082]
特别地,由于难以增加绿色量子点(quantum dot,qd)发光体的发光效率,因此通过引入低折射涂膜作为绿色qd的上层及下层,可有助于绿色qd发光体的发光效率。
[0083]
在示例性实施例中,聚合物基质可包括硅酮系聚合物,且硅酮系聚合物可通过化学式1表示的化合物和/或化学式2表示的化合物的水解-缩合反应而形成。
[0084]
[化学式1]
[0085]
(r1)a(r2)b(r3)
c-si-(or4)
4-a-b-c
[0086]
在化学式1中,
[0087]
r1至r3独立地为氢、经取代或未经取代的c1至c30烷基、经取代或未经取代的c3至c30环烷基、经取代或未经取代的c6至c30芳基、经取代或未经取代的c7至c30芳基烷基、经取代或未经取代的c1至c30杂烷基、经取代或未经取代的c2至c30杂环烷基、经取代或未经取代的c2至c30烯基、经取代或未经取代的c2至c30炔基、r(c=o)-(其中r是经取代或未经取代的c1至c30烷基、经取代或未经取代的c3至c30环烷基、或经取代或未经取代的c6至c30
芳基)、环氧基、(甲基)丙烯酸酯基、(甲基)丙烯酰氧基或其组合,
[0088]
r4是氢、或经取代或未经取代的c1至c30烷基、经取代或未经取代的c3至c30环烷基、经取代或未经取代的c6至c30芳基、经取代或未经取代的c7至c30芳基烷基、或其组合,及
[0089]
0≤a b c《4;
[0090]
[化学式2]
[0091]
(r7o)
3-d-e
(r5)d(r6)
e-si-y
1-si-(r8)f(r9)g(or
10
)
3-f-g
[0092]
其中,在化学式2中,
[0093]
r5、r6、r8及r9独立地为氢、经取代或未经取代的c1至c30烷基、经取代或未经取代的c3至c30环烷基、经取代或未经取代的c6至c30芳基、经取代或未经取代的c7至c30芳基烷基、经取代或未经取代的c1至c30杂烷基、经取代或未经取代的c2至c30杂环烷基、经取代或未经取代的c2至c30烯基、经取代或未经取代的c2至c30炔基、r(c=o)-(其中r是经取代或未经取代的c1至c30烷基、经取代或未经取代的c3至c30环烷基、或经取代或未经取代的c6至c30芳基)、环氧基、(甲基)丙烯酸酯基、经(甲基)丙烯酸酯基取代的c1至c30烷基、(甲基)丙烯酰氧基、或其组合,
[0094]
r7及r
10
独立地为氢、经取代或未经取代的c1至c30烷基、经取代或未经取代的c3至c30环烷基、经取代或未经取代的c6至c30芳基、经取代或未经取代的c7至c30芳基烷基、或其组合,
[0095]
y1是经取代或未经取代的c1至c30亚烷基、经取代或未经取代的c3至c30亚环烷基、经取代或未经取代的c6至c30亚芳基或其组合,
[0096]
0≤d e《3,且
[0097]
0≤f g《3。
[0098]
化学式1的r1至r3可独立地为氢、经取代或未经取代的c1至c10烷基、经取代或未经取代的c2至c10烯基、经取代或未经取代的c6至c10芳基、环氧基、(甲基)丙烯酸酯基、(甲基)丙烯酰氧基、或其组合,且r4可为氢、经取代或未经取代的c1至c10烷基、经取代或未经取代的c2至c4酰基、或经取代或未经取代的c6至c10芳基。
[0099]
化学式2的r5、r6、r8及r9可独立地为氢、经取代或未经取代的c1至c10烷基、经取代或未经取代的c2至c10烯基、经取代或未经取代的c6至c10芳基、环氧基、(甲基)丙烯酸酯基、(甲基)丙烯酰氧基、或其组合,且r7及r
10
可独立地为氢、经取代或未经取代的c1至c10烷基、经取代或未经取代的c2至c4酰基、或经取代或未经取代的c6至c10芳基。
[0100]
化学式2的y1可为经取代或未经取代的c1至c10亚烷基、经取代或未经取代的c3至c6亚环烷基、经取代或未经取代的c6至c10亚芳基或其组合。
[0101]
以聚苯乙烯标准样品计,硅酮系聚合物的重量平均分子量(mw)可为1,000至100,000、例如1,000至90,000、1,000至80,000、1,000至70,000、1,000至60,000、1,000至50,000、1,000至40,000、1,000至30,000、1,000至20,000、1,000至10,000、2,000至100,000、3,000至100,000、4,000至100,000、5,000至100,000、6,000至100,000、7,000至100,000、8,000至100,000、9,000至100,000或10,000至100,000,但不限于此。
[0102]
在示例性实施例中,所述聚合物基质可包括通过化学式1表示的化合物及由化学式2表示的化合物的水解-缩合反应而形成的碳硅烷-硅氧烷共聚物。
glycol methyl ether acetate,pgmea)、γ-丁内酯(gamma-butyrolactone,gbl)及可在100℃至230℃的制程温度下使用的其他类型的溶剂的混合物。
[0115]
在示例性实施例中,以总量为100重量份的硅酮系聚合物(例如碳硅烷-硅氧烷共聚物及中空颗粒)计,溶剂的含量可为300重量份至2,000重量份、例如500重量份至2,000重量份、800重量份至2,000重量份、1,000重量份至2,000重量份、1,300重量份至2,000重量份、或1,500重量份至2,000重量份,但不限于此。
[0116]
固化触媒
[0117]
用于形成低折射层的组成物可还包含固化触媒,以用于促进在硅酮系聚合物(例如碳硅烷-硅氧烷共聚物)的硅氧烷树脂末端处的未反应的硅烷醇基或环氧基的固化,并且此种固化触媒可为热固性触媒或光固化触媒。此外,根据所使用的聚合物,可不包含此种固化触媒。在实施例中,用于固化硅酮系聚合物的固化触媒的实例可具有铵盐形式,例如乙酸四丁基铵(tetrabutylammonium acetate,tbaa)。
[0118]
当使用固化触媒时,以100重量份的硅酮系聚合物计,触媒的含量可为0.1重量份至1重量份、例如0.3重量份至1重量份、0.5重量份至1重量份、0.7重量份至1重量份或0.8重量份至1重量份,但不限于此。
[0119]
表面改质添加剂
[0120]
用于形成低折射层的组成物可还包含此项技术中已知的各种添加剂,并且可还包含表面改质添加剂作为添加剂。当用于形成低折射层的组成物包含表面改质添加剂时,可在涂布用于形成低折射层的组成物时,达成改善涂布性质及防止缺陷的效果。
[0121]
作为表面改质添加剂,可还包含界面活性剂,例如氟系界面活性剂,但不限于此。
[0122]
以100重量份的硅酮系聚合物计,该些添加剂的含量可小于或等于约5重量份、例如1重量份至5重量份、2重量份至5重量份或3重量份至5重量份,且不限于此。
[0123]
通过将包含上述组分的用于形成低折射层的组成物涂布在基板上,然后干燥并固化所述组成物,可形成包含硅酮系聚合物及中空颗粒的低折射层。
[0124]
用于形成低折射层的组成物可使用此项技术中已知的各种方法中的任何方法涂布在基板上,并且可为例如旋涂、狭缝及旋转涂布、狭缝涂布、辊涂方法或模涂,但不限于此。在示例性实施例中,用于形成低折射层的组成物可旋涂在基板上。
[0125]
用于形成包含硅酮系聚合物及中空颗粒的低折射层且涂布在基板上的组成物可通过干燥及固化制程来干燥或固化以形成低折射层。干燥或固化温度可为大于或等于150℃且小于或等于300℃、大于或等于150℃且小于或等于280℃、大于或等于150℃且小于或等于270℃、大于或等于150℃且小于或等于250℃、大于或等于170℃且小于或等于250℃、或大于或等于180℃且小于或等于240℃的温度。
[0126]
根据所述方法制造的低折射层(120)可具有100纳米至5.0微米的厚度。
[0127]
包含在用于形成低折射层的组成物中的硅酮系聚合物可包括由化学式1表示的化合物和/或由化学式2表示的化合物的水解-缩合反应产物,并且用于形成低折射层的组成物可还包含溶剂、固化触媒及表面改质添加剂。
[0128]
同时,低折射层(120)在除特定波长区域之外的包括400纳米波长的剩余可见光波长区域中可具有大于或等于60%、例如大于或等于70%、大于或等于80%、大于或等于90%、大于或等于95%的透射率。
[0129]
此外,在400纳米至750纳米的整个波长区域的可见光范围内的平均反射率(排除镜面反射(specular component exclude,sce)值)可小于或等于10%、小于或等于7%、小于或等于5%、或小于或等于3%。因此,根据实施例的颜色转换面板(100)即使在低波长区域下亦可具有高透光率,且可在可见光的整个波长区域保持低反射率,以进一步改善光学性质。
[0130]
如上所述,颜色转换层(130)可形成在基板上,并且低折射层(120)可设置在基板与颜色转换层之间,设置在颜色转换层上,或者设置在颜色转换层与基板之间以及颜色转换层上两者。颜色转换层(130)包括颜色转换构件(133)及(135),颜色转换构件(133)及(135)包含吸收各自具有特定波长的光并发射具有其他波长的光的量子点。此种颜色转换构件可通过以下方式来形成:将包含量子点的用于形成颜色转换层的组成物施加在基板上或形成在基板上的保护层上,或者当首先形成低折射层(120)时,施加在低折射层(120)上。用于形成颜色转换层的组成物可包含量子点、黏合剂树脂、可光聚合单体、光聚合起始剂、溶剂及其他添加剂。
[0131]
在实施例中,颜色转换层(130)通过在形成于基板(110)上的低折射层(120)上涂布用于形成包括包含量子点的颜色转换构件(133)及(135)的颜色转换层的组成物,且通过进行图案化制程来形成,并且作为另一选择通过将其涂布在基板(110)上或形成于基板(110)上的保护层上,然后进行图案化制程来形成。图案化制程可包括,例如,使用旋涂或狭缝涂布、辊涂法、网版印刷法、敷料机方法等在基板(110)上涂布用于形成颜色转换层的组成物,对所述组成物进行干燥以形成膜,使用遮罩对所述膜进行曝光以形成具有对应于第一颜色转换层(132)及第二颜色转换层(134)的形状的图案,对其进行显影以移除不需要的部分,及耐热性,以及将其再加热以获得具有改善的耐光性、紧密接触性质、抗裂性、耐化学性、高强度、储存稳定性等的图案或者照射光化射线的后制程,但不限于此。
[0132]
除了包含量子点的颜色转换构件(133)及(135)之外,第一颜色转换层(132)及第二颜色转换层(134)可更包含光散射体(未示出)。光散射体可与量子点一起分散在颜色转换层(130)中。光散射体可诱导入射光到达量子点或辐射方向,使得自量子点发射的辐射光可自颜色转换层(130)发射至外部。由此,可使颜色转换层(130)的光效率的劣化最小化。另一方面,透射构件(136)亦可包含光散射体。
[0133]
平坦化层(140)形成在低折射层(120)及颜色转换层(130)上。平坦化层(140)覆盖低折射层(120)及颜色转换层(130),以保护低折射层(120)及颜色转换层(130)并使颜色转换面板(100)的表面平坦化。平坦化层(140)可由透明且电性绝缘材料制成,使得可透射光。本文中,根据本实施例的平坦化层(140)可由与低折射层(120)相同或不同的聚合物基质组成。
[0134]
例如,如同低折射率层(120)一样,平坦化层(140)由包括碳硅烷-硅氧烷共聚物的低折射率材料制成,从而可进一步提高颜色转换面板(100)的发光效率。此外,当低折射层(120)的入射光进入平坦化层(140)时,反射或散射可被最小化,从而界面处的光损失可被最小化,以提供具有提高的光效率的颜色转换面板(100)。
[0135]
图5是图2的例示性变型的剖视图。参考图5,根据例示性变型的颜色转换面板(100)可还包括第一顶盖层(150)及第二顶盖层(160)。在图5中,示出包括第一顶盖层(150)及第二顶盖层(160)的例示性变型,但是可省略其中的一者。
硅氧烷共聚物的重量平均分子量(mw)为3,800。
[0149]
制备用于形成低折射层的组成物
[0150]
实例1
[0151]
将32重量%的合成例1的碳硅烷-硅氧烷共聚物、42重量%的丙二醇甲醚乙酸酯(pgmea)、23重量%的中空颗粒(hs-70(a5f);瓦森纳米化学公司(vaxan nano chem))、2重量%的固化触媒及1重量%的界面活性剂f-563(其全部是以固体含量计)混合并搅拌,且然后用0.1微米的微孔过滤器进行了过滤,以制备用于形成低折射层的组成物。
[0152]
实例2
[0153]
通过以下方式制备了用于形成低折射层的组成物:将30重量%的合成例1的碳硅烷-硅氧烷共聚物、41重量%的丙二醇甲醚乙酸酯(pgmea)、26重量%的中空颗粒(hs-70(a5f);瓦森纳米化学公司)、2重量%的固化触媒及1重量%的界面活性剂f-563(其全部是以固体含量计)混合,且然后用0.1微米的微孔过滤器对混合物进行了过滤。
[0154]
实例3
[0155]
通过以下方式制备了用于形成低折射层的组成物:将29重量%的合成例1的碳硅烷-硅氧烷共聚物、39重量%的丙二醇甲醚乙酸酯(pgmea)、29重量%的中空颗粒(hs-70(a5f);瓦森纳米化学公司)、2重量%的固化触媒及1重量%的界面活性剂f-563(其全部是以固体含量计)混合,且然后用0.1微米的微孔过滤器对混合物进行了过滤。
[0156]
比较例1
[0157]
通过以下方式制备了用于形成低折射层的组成物:将48重量%的合成例1的碳硅烷-硅氧烷共聚物、47重量%的丙二醇甲醚乙酸酯(pgmea)、4重量%的固化触媒及1重量%的界面活性剂f-563(其全部是以固体含量计)混合,且然后用0.1微米的微孔过滤器对混合物进行了过滤。
[0158]
比较例2
[0159]
通过以下方式制备了用于形成低折射层的组成物:将7.5重量%的合成例2的硅氧烷共聚物、7.5重量%的通过以5:5的重量比混合聚亚苯醚(poly phenylene oxide,ppo)(mn=2,000)及十六烷基三甲基氯化铵制备的有机聚合物及0.01%的界面活性剂f-552(其全部是以固体含量计)混合,利用pgmea将其溶解约30分钟,直至固体含量达到12重量%,且然后,用0.1微米的微孔过滤器对混合物进行了过滤。
[0160]
制造固化膜及评价
[0161]
将根据实例1至实例3以及比较例1及比较例2的组成物分别用旋转涂布机(光学涂布(opticcoat)ms-a150,三笠有限公司(mikasa co.,ltd.))以300转/分钟至1500转/分钟的速度涂布在基板上以用于评价量子点效率,然后将其在100℃的热板上预烘烤了120秒以形成膜。随后,将膜在230℃下固化了20分钟,并干燥以形成1.0微米厚的涂布固化膜,且通过使用α-台阶(表面轮廓仪(surface profiler)kla,kla-滕科公司(kla-tencor corp.))测量了涂布固化膜的厚度。
[0162]
(1)折射率
[0163]
通过使用光谱椭偏仪(m-2000d,j.a.伍拉姆公司(j.a.woollam co.))测量了根据实例1至实例3以及比较例1及比较例2的由用于形成低折射层的组成物形成的每个涂布固化膜在550纳米下的折射率,且结果示于表1中。
[0164]
(2)发光效率
[0165]
当在基板的正下方施加以用于评价量子点效率以及当在基板上及基板之下两者施加时,通过使用昆特露丝(quantaurus)-qy绝对光致发光(photoluminescence,pl)量子产率光谱仪(莫度技术有限公司(modoo technology co.,ltd.))测量了根据实例1至实例3以及比较例1及比较例2的由用于形成低折射层的组成物形成的每个涂布固化膜的量子点效率,且结果示于表1中。
[0166]
(表1)
[0167][0168]
参考表1,由包含中空颗粒的用于形成低折射层的组成物形成的实例1至实例3的涂布固化膜具有小于或等于1.23的折射率,但是由不包含中空颗粒的用于形成低折射层的组成物形成的比较例1及比较例2的涂布固化膜具有大于或等于1.32的折射率,因此表现出较实例1至实例3的折射率特性差的折射率特性。
[0169]
此外,当将实例1至实例3的涂布固化膜施加在基板之下以用于评价量子点效率时,实例1至实例3的涂布固化膜表现出大于或等于120%的发光效率,并且当施加在基板上及基板之下时,发光效率皆大于或等于150%,但是比较例1及比较例2的涂布固化膜表现出小于或等于101%的发光效率,且因此,相较于比较例1及比较例2的涂布固化膜而言,实例1至实例3的涂布固化膜表现出很大提高的发光效率。
[0170]
总之,相较于比较例1及比较例2的涂布固化膜而言,实例1至实例3的涂布固化膜表现出改善的折射率及发光效率效果。
[0171]
在上文中,已阐述及示出了本发明的某些例示性实施例,然而,对于此项技术中技术人员而言显而易见的是,本发明不限于所述的例示性实施例,并且可在不背离本发明的精神及范围的情况下进行各种修改及变换。因此,如此修改或变换的例示性实施例可能无法与本发明的技术思想及实施例分开理解,并且修改的例示性实施例处于本发明的权利要求的范围内。
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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