用于决定待测量物体的制造空间像的方法与流程

技术特征：
1.一种用于决定在光学制造系统(22,23)的照明和成像条件下进行照明和成像所导致的待测量物体(12)的制造空间像(i(x,y))的方法，包含以下步骤：-在光学测量系统(9)的照明和成像条件下捕获(17)该待测量物体(12)的测量空间像(i(x,y))，所述条件包含一预定义测量照明设定(5)，其中在该捕获(17)的过程中产生该测量空间像(i(x,y))的数据；-通过重建算法从捕获的测量空间像(i(x,y,z))的数据重建(18)该待测量物体(12)的物体结构(13)，其中在该重建(18)的过程中产生重建的物体结构(13)的数据(t
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)；以及-在该光学制造系统(22,23)的照明和成像条件(t
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)下从该重建的物体结构(13)的数据(t
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)模拟(19)该制造空间像(i(x,y))，所述条件包含制造照明设定(19a)，其不同于该测量照明设定(5)。2.如权利要求1的方法，其特征在于，该测量照明设定(5)由设定光阑(7)预定义。3.如权利要求1或2的方法，其特征在于，该制造照明设定(19a)具有照明光瞳的椭圆边缘轮廓。4.如权利要求1至3中任一项的方法，其特征在于，该制造照明设定(19a)是自由形式的或光源掩模优化(smo)照明设定。5.如权利要求1至4中任一项的方法，其特征在于，该制造照明设定(19a)在照明光瞳的被照明区域上具有照明强度，该照明强度在最小照明强度和最大照明强度之间的范围内变化，其中该最小照明强度大于0。6.如权利要求1至5中任一项的方法，其特征在于，该制造照明设定(19a)在照明光瞳内具有多个被照明的个别区域(21)。7.如权利要求6的方法，其特征在于，所述被照明的个别区域(21)中的每一个具有相同的典型直径。8.如权利要求6或7的方法，其特征在于，所述被照明的个别区域(21)以在该照明光瞳上不规则分布的方式布置。9.如权利要求6至8中任一项的方法，其特征在于，所述被照明的个别区域(21)以不同表面密度分布在该照明光瞳上的方式布置。10.一种包含用于执行如权利要求1至9中任一项的方法的光学测量系统(9)的计量系统(2)：-包含照明系统(4)，其包含用于以预定义的照明设定(5)照明该待测量物体(12)的照明光学单元，-包含用于将该物体(12)的部分成像到测量平面(15)中的成像光学单元(8)，以及-包含布置在该测量平面(15)中的空间解析检测装置(16)。11.如权利要求10的计量系统，其特征在于，用于预定义该测量照明设定(5)的可改变的设定光阑(7)。

技术总结
为了决定由于在光学制造系统的照明和成像条件下进行照明和成像所造成的待测量物体的制造空间像，首先捕获(17)待测量物体的测量空间像(17)。这在光学测量系统的照明和成像条件下进行，该条件包含预定义测量照明设定。测量空间像的数据在捕获的过程中产生。通过重建算法从所捕获的测量空间像的数据重建(18)待测量物体的物体结构。重建的物体结构的数据在重建的过程中产生。在光学制造系统的照明和成像条件下从重建的物体结构的数据模拟(19)制造空间像。该条件包含制造照明设定，其不同于测量照明设定。这导致一决定方法，其中即使在光学制造系统的严格照明和成像条件下，也减轻了在决定方法中所使用的光学测量系统的要求。了在决定方法中所使用的光学测量系统的要求。了在决定方法中所使用的光学测量系统的要求。


技术研发人员：M.迪策尔 R.卡佩利
受保护的技术使用者：卡尔蔡司SMT有限责任公司
技术研发日：2020.06.03
技术公布日：2022/1/28