一种晶圆表面清洗装置的制作方法

1.本实用新型涉及晶圆生产领域，特别涉及一种晶圆表面清洗装置。


背景技术：

2.本实用新型涉及晶圆生产领域，特别涉及一种晶圆表面清洗装置。


技术实现要素：

3.本实用新型提供一种晶圆表面清洗装置，旨在解决现有清洗机构清洗效果差，无法适应晶圆各个角度结构的问题。
4.本实用新型提供一种晶圆表面清洗装置，包括升降机构、喷头调节机构、清洗喷头、高度调节杆、支撑杆，所述高度调节杆一端固定连接、其另一端连接升降机构，所述升降机构通过旋转来调节在高度调节杆上的高度，所述支撑杆横向连接在升降机构上，所述喷头调节机构设置在支撑杆上，所述清洗喷头连接在喷头调节机构上，根据晶圆的位置所述喷头调节机构调整清洗喷头的朝向对准晶圆表面。
5.作为本实用新型的进一步改进，所述喷头调节机构包括横向支架和角度支架，所述横向支架的上端在支撑杆上移动并通过紧固件固定在支撑杆上的任一位置，所述横向支架的下端连接角度支架，所述清洗喷头连接在角度支架上。
6.作为本实用新型的进一步改进，所述角度支架的顶端与横向支架的下端铰接并通过紧固件固定在任一角度，所述清洗喷头连接在角度支架的底端。
7.作为本实用新型的进一步改进，该机构包括管路支架，所述支撑杆上连接有一个或多个管路支架，所述清洗喷头通过管路外接清洗供液设备，所述管路支架上设有管路通孔，所述管路穿过一个或多个管路支架上的管路通孔。
8.作为本实用新型的进一步改进，该晶圆表面清洗装置包括兆声波发生器，所述兆声波发生器连接在清洗喷头上。
9.作为本实用新型的进一步改进，所述升降机构包括旋转驱动气缸、升降台，所述高度调节杆上设有螺纹，所述支撑杆连接在升降台上，所述升降台连接在旋转驱动气缸上，所述旋转驱动气缸与高度调节杆通过螺纹连接。
10.本实用新型的有益效果是：本装置采用兆声波发声器，使液体产生高频振荡来对晶圆表面进行清洗，对残留物有较强的清洗效果；利用升降机构调节装置与晶圆的相对高度，再利用喷头调节机构，使清洗喷头对准晶圆表面，使清洗喷头喷出的液体相对晶圆表面有最佳清洗角度。
附图说明
11.图1是本实用新型一种晶圆表面清洗装置的结构图。
具体实施方式
12.为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。
13.如图1所示，本实用新型的一种晶圆表面清洗装置，包括升降机构1、喷头调节机构、清洗喷头6、高度调节杆2、支撑杆3，高度调节杆2一端固定连接、其另一端连接升降机构1，升降机构1通过旋转来调节在高度调节杆2上的高度，支撑杆3横向连接在升降机构1上，喷头调节机构设置在支撑杆3上，清洗喷头6连接在喷头调节机构上，根据晶圆的位置喷头调节机构调整清洗喷头6的朝向对准晶圆表面。
14.升降机构1配合高度调节杆2，通过支撑杆3的连接来调节清洗喷头6相对于晶圆表面的高度，而喷头调节机构则通过调节清洗喷头6的对准角度来控制喷雾的清洗液能以最佳的角度对晶圆表面进行清洗。
15.其中该装置还包括兆声波发生器7，兆声波发生器7连接在清洗喷头6上，清洗液经过兆声波发生器7的高频振动后，形成不了超声波清洗那样的气泡，以高速的流体波连续冲击晶圆表面，使晶圆表面附着的污染物的细小微粒被强制除去并进入到清洗液中。
16.喷头调节机构包括横向支架4和角度支架5，横向支架4的上端在支撑杆3上移动并通过紧固件固定在支撑杆3上的任一位置，横向支架4的下端连接角度支架5，清洗喷头6连接在角度支架6上。横向支架4负责调节清洗喷头6在支撑杆3上的位置，即调节清洗半径，当横向支架4移动到所需的位置后，通过拧紧紧固件将横向支架4固定。
17.角度支架5的顶端与横向支架4的下端铰接并通过紧固件固定在任一角度，清洗喷头6连接在角度支架5的底端。角度支架5负责调节清洗喷头6相对与横向支架4的倾斜角度，角度支架5的一端可以绕着横向支架4的下端转动，当转动到所需要的角度后，通过拧紧紧固件将角度支架5固定，使清洗喷头6对准晶圆表面。利用前后及角度调节机构，使液体相对晶圆以最佳位置和角度清洗晶圆。
18.该晶圆表面清洗装置包括管路支架8，支撑杆3上连接有一个或多个管路支架8，清洗喷头6通过管路外接清洗供液设备，管路支架8上设有管路通孔81，管路穿过一个或多个管路支架8上的管路通孔81。管路包括控制清洗喷头6和兆声波发生器7所需要的线管和气管，线管和气管的线长均穿过管路通孔81进行固定，使线管和气管不会散落在支撑杆3上，影响到清洗过程中装置的位置调节，也避免了阻碍到清洗喷头6的喷液。
19.升降机构1包括旋转驱动气缸、升降台9，高度调节杆2上设有螺纹，支撑杆3连接在升降台9上，升降台9连接在旋转驱动气缸上，旋转驱动气缸与高度调节杆2通过螺纹连接。利用螺纹将旋转运动转换为直线运动的原理，通过在旋转驱动气缸与高度调节杆2的螺旋配合，带动升降台9改变在高度调节杆2上的位置，从而完成整个装置的高度调节。用带有升降功能的旋转机构，由伺服电机准确定位相对晶圆的位置。
20.本晶圆表面清洗装置对于兆声波发生器7采用了多个自由度的调节机构，使液体相对晶圆表面有最佳清洗角度。并通过清洗喷头6的清洗液配合用兆声波发声器7，使液体产生高频振荡对晶圆表面的残留物进行高效地清洗。
21.以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视
为属于本实用新型的保护范围。


技术特征：
1.一种晶圆表面清洗装置，其特征在于，包括升降机构、喷头调节机构、清洗喷头、高度调节杆、支撑杆，所述高度调节杆一端固定连接、其另一端连接升降机构，所述升降机构通过旋转来调节在高度调节杆上的高度，所述支撑杆横向连接在升降机构上，所述喷头调节机构设置在支撑杆上，所述清洗喷头连接在喷头调节机构上，根据晶圆的位置所述喷头调节机构调整清洗喷头的朝向对准晶圆表面。2.根据权利要求1所述的晶圆表面清洗装置，其特征在于，所述喷头调节机构包括横向支架和角度支架，所述横向支架的上端在支撑杆上移动并通过紧固件固定在支撑杆上的任一位置，所述横向支架的下端连接角度支架，所述清洗喷头连接在角度支架上。3.根据权利要求2所述的晶圆表面清洗装置，其特征在于，所述角度支架的顶端与横向支架的下端铰接并通过紧固件固定在任一角度，所述清洗喷头连接在角度支架的底端。4.根据权利要求1所述的晶圆表面清洗装置，其特征在于，包括管路支架，所述支撑杆上连接有一个或多个管路支架，所述清洗喷头通过管路外接清洗供液设备，所述管路支架上设有管路通孔，所述管路穿过一个或多个管路支架上的管路通孔。5.根据权利要求1所述的晶圆表面清洗装置，其特征在于，包括兆声波发生器，所述兆声波发生器连接在清洗喷头上。6.根据权利要求1所述的晶圆表面清洗装置，其特征在于，所述升降机构包括旋转驱动气缸、升降台，所述高度调节杆上设有螺纹，所述支撑杆连接在升降台上，所述升降台连接在旋转驱动气缸上，所述旋转驱动气缸与高度调节杆通过螺纹连接。

技术总结
本实用新型涉及晶圆生产领域，特别涉及一种晶圆表面清洗装置。该装置包括升降机构、喷头调节机构、清洗喷头、高度调节杆、支撑杆，高度调节杆一端固定连接、其另一端连接升降机构，升降机构通过旋转来调节在高度调节杆上的高度，支撑杆横向连接在升降机构上，喷头调节机构设置在支撑杆上，清洗喷头连接在喷头调节机构上，根据晶圆的位置喷头调节机构调整清洗喷头的朝向对准晶圆表面。本装置采用兆声波发声器，使液体产生高频振荡来对晶圆表面进行清洗，对残留物有较强的清洗效果；利用升降机构调节装置与晶圆的相对高度，再利用喷头调节机构，使清洗喷头对准晶圆表面，使清洗喷头喷出的液体相对晶圆表面有最佳清洗角度。的液体相对晶圆表面有最佳清洗角度。的液体相对晶圆表面有最佳清洗角度。


技术研发人员：黄海荣 谢柏弘 何若飞
受保护的技术使用者：深圳远荣半导体设备有限公司
技术研发日：2021.08.23
技术公布日：2022/1/26