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导电端子、电连接器及电子设备的制作方法

2022-02-20 22:10:01 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种导电端子,其特征在于,包括:端子本体;铜合金镀层,所述铜合金镀层镀于所述端子本体;以及保护层,所述保护层镀于所述铜合金镀层远离所述端子本体的一侧。2.根据权利要求1所述的导电端子,其特征在于,还包括底镀层,所述底镀层位于所述端子本体与所述铜合金镀层之间,所述底镀层包括铜镀层。3.根据权利要求2所述的导电端子,其特征在于,所述底镀层的厚度为2~5μm,所述铜合金镀层的厚度为1~5μm。4.根据权利要求2所述的导电端子,其特征在于,所述铜合金镀层与所述保护层之间,和/或所述底镀层与所述铜合金镀层之间,包括过渡层;所述过渡层包括银镀层或银合金层或金镀层或金合金层。5.根据权利要求1所述的导电端子,其特征在于,所述保护层包括铂镀层以及钯镀层;所述铂镀层镀于所述铜合金镀层远离所述端子本体的一侧,所述钯镀层镀于所述铂镀层远离所述铜合金镀层的一侧;或者所述钯镀层镀于所述铜合金镀层远离所述端子本体的一侧,所述铂镀层制于所述钯镀层远离所述铜合金镀层的一侧。6.根据权利要求1所述的导电端子,其特征在于,所述保护层至少包括1层铂镀层以及2层钯镀层,所述铂镀层位于所述2层钯镀层之间;或者所述保护层至少包括2层铂镀层以及1层钯镀层,所述钯镀层位于所述2层铂镀层之间。7.根据权利要求5或6所述的导电端子,其特征在于,所述铂镀层的厚度为0.1~1.5μm,所述钯镀层的厚度为0.1~1.5μm。8.根据权利要求1所述的导电端子,其特征在于,所述铜合金镀层包括铜锡锌合金镀层。9.一种电连接器,其特征在于,包括:壳体,所述壳体设有容置腔;以及如权利要求1~8所述的导电端子,所述导电端子设于所述容置腔内。10.一种电子设备,其特征在于,包括:如权利要求9所述的电连接器;以及电路板,所述电路板与所述电连接器电连接。

技术总结
本申请公开了导电端子、电连接器及电子设备。导电端子包括:端子本体、铜合金镀层以及保护层。其中,铜合金镀层镀于端子本体,保护层镀制于铜合金镀层远离端子本体的一侧。通过上述方式,本申请采用了铜合金镀层来代替镍镀层作为打底,使得本申请的导电端子的镀制中不含镍镀层,不存在镍释放的风险。不存在镍释放的风险。不存在镍释放的风险。


技术研发人员:刘运祥 程龙
受保护的技术使用者:OPPO广东移动通信有限公司
技术研发日:2021.07.14
技术公布日:2022/1/18
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