一种控制清洗刷姿态的晶圆清洗装置的制作方法

技术特征：
1.一种控制清洗刷姿态的晶圆清洗装置，其特征在于，包括：晶圆旋转组件，用于支撑晶圆并驱动晶圆旋转；两个清洗刷，设置于晶圆的两侧并绕自身轴线滚动以对晶圆表面进行刷洗；清洗刷运动机构，用于带动所述两个清洗刷相向移动并以一定夹角夹持晶圆进行刷洗；控制器，用于控制所述清洗刷运动机构调整所述两个清洗刷之间的夹角，使得清洗刷与晶圆旋转方向相同的一端对晶圆的夹紧力大于清洗刷与晶圆旋转方向相反的一端对晶圆的夹紧力。2.如权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述清洗刷与晶圆旋转方向相同的一端的两个清洗刷之间的第一间距小于清洗刷与晶圆旋转方向相反的一端的两个清洗刷之间的第二间距。3.如权利要求2所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述第二间距与所述第一间距的差值为0.1～0.5mm。4.如权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述晶圆旋转组件包括用于检测晶圆转速的转速传感器；所述控制器获取所述转速传感器检测的晶圆转速并在所述晶圆转速不属于正常范围时控制所述清洗刷运动机构调整所述夹角。5.如权利要求4所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述控制器包括：第一控制模块，用于当所述晶圆转速偏低时，增大两个清洗刷之间的夹角以增大清洗刷对晶圆的摩擦力矩；第二控制模块，用于当所述晶圆转速偏高时，减小两个清洗刷之间的夹角以减小清洗刷对晶圆的摩擦力矩。6.如权利要求4所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述晶圆转速的正常范围为40rpm～60rpm。7.如权利要求4所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述晶圆旋转组件包括主动辊轮和从动辊轮，所述从动辊轮上设置有所述转速传感器。

技术总结
本发明公开了一种控制清洗刷姿态的晶圆清洗装置，包括：晶圆旋转组件，用于支撑晶圆并驱动晶圆旋转；两个清洗刷，设置于晶圆的两侧并绕自身轴线滚动以对晶圆表面进行刷洗；清洗刷运动机构，用于带动所述两个清洗刷相向移动并以一定夹角夹持晶圆进行刷洗；控制器，用于控制所述清洗刷运动机构调整所述两个清洗刷之间的夹角，使得清洗刷与晶圆旋转方向相同的一端对晶圆的夹紧力大于清洗刷与晶圆旋转方向相反的一端对晶圆的夹紧力。向相反的一端对晶圆的夹紧力。向相反的一端对晶圆的夹紧力。


技术研发人员：许振杰 王同庆
受保护的技术使用者：华海清科股份有限公司
技术研发日：2021.12.10
技术公布日：2022/1/18