一种离子注入机的防偏装置的制作方法

1.本实用新型涉及离子注入机机技术领域，具体为一种离子注入机的防偏装置。


背景技术：

2.背景技术:离子注入机在现在的科研领域使用的越来广泛，而离子注入机就是将离子注入到硅片材料中，引起硅片材料表面成分、结构和性能发生变化的掺杂过程，现有技术中的一种离子注入机的防偏装置存在以下问题：
3.1、现有的需要将硅片放置导注入机的内部，然后通过对离子的注入，让离子自行注入导硅片材料的内部，现有技术中放置在注入机内部的硅片角度会和离子的注射角度发生一定程度的偏移，而现有的注入机不能够对硅片放置的角度进行调节，从而导致注入机内部的离子注入到硅片的内部之后，在硅片的内部分布不均匀，从而提升了产品的残次率，对硅片造成了极大的浪费。
4.2、现有的离子注入机内部对硅片放置时，对硅片夹持的夹具不能够根据硅片的大小而改变，从而使得不同大小的硅片放置到离子注入机的内部时需要更换特定的夹具对硅片进行夹持，使得硅片注入离子时操作步骤不够简便。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的在于提供一种离子注入机的防偏装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
6.为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：一种离子注入机的防偏装置，包括承载板和放置盘，放置盘通过转轴转动安装在承载板的上端中部，承载板和放置盘的外部均设置有用于对放置盘限位的调节装置；
7.调节装置包括第一限位齿轮和第二限位齿轮，转轴的一端穿插至承载板的内部，第一限位齿轮的一端中部固定安装在转轴延伸至承载板内部的一端，承载板的上端转动安装有连杆，连杆的一端穿插至承载板的内部，第二限位齿轮的一端中部固定安装在连杆延伸至承载板内部的一端，第一限位齿轮的外部转动安装有用于带动第二限位齿轮转动的传动带，承载板的内部开设有用于第一限位齿轮和第二限位齿轮活动的腔室。
8.优选地，放置盘远离承载板的径向两侧对称开设有t型滑槽，t型滑槽的内腔中滑动安装有t型滑块，t型滑块的一端通过t型滑槽延伸至放置盘的外部，且延伸至放置盘外部的一端固定安装有限位板。
9.优选地，t型滑槽的内腔一侧固定安装有用于对t型滑块复位的弹性件。
10.优选地，弹性件可以设置为弹簧、弹片或弹性板等。
11.优选地，连杆远离承载板的一端中部开设有凹槽，承载板的一侧转动安装有用于和凹槽相互贴合的l型挡杆，凹槽的内腔底部固定安装有用于对l型挡杆限位的磁铁。
12.与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：
13.1、通过设置第一限位齿轮和传动带，可以使得硅片放置到放置盘的上端之后，通
过转动放置盘让硅片和放置盘一起进行转动一定角度之后，通过转动连杆使得第二限位齿轮进行转动，在传动带的作用下致使第一限位齿轮进行转动，此时的放置盘会再次进行转动，从而边可以对硅片的角度调节的更加精准，使得离子注入到硅片的内部时注入的更急均匀，降低了产品的残次率，减少了对硅片的浪费。
14.2、通过设置限位板和弹性件，可以将不同大小的硅片放置到限位板的内腔中，此时限位板会在t型滑槽的作用下在放置盘的上端往远离硅片的方向进行滑动，当硅片放置完成之后，在弹性件的作用下限位板会往靠近硅片的方向进行滑动，从而使得不同尺寸的硅片放置导离子注入机的内部时不用对模具进行更换，使得硅片注入离子的时候操作步骤更加简便。
附图说明
15.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
16.图1为本实用新型的主体结构示意图。
17.图2为本实用新型的调节装置的剖视图。
18.图3为本实用新型的弹性件和l型挡杆的剖视图。
19.图中：1、承载板；2、放置盘；3、调节装置；31、t型滑槽；32、限位板；33、弹性件；34、l型挡杆；35、连杆；36、第一限位齿轮；37、传动带；38、第二限位齿轮。
具体实施方式
20.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
21.实施例：如图1-3所示，本实用新型提供了一种离子注入机的防偏装置，包括承载板1和放置盘2，放置盘2通过转轴转动安装在承载板1的上端中部，承载板1和放置盘2的外部均设置有用于对放置盘2限位的调节装置3，承载板1和放置盘2均放置在离子注入机的内部，当硅片需要注入离子的时候，将硅片放置导放置盘2的上端，从而放置盘2可以对硅片进行放置，同时转动安装的放置盘2可以对硅片的注入角度进行调节，从而致使离子注入到硅片的内部时注入的更加均匀，降低了产品的残次率，减少了对硅片的浪费。
22.调节装置3包括第一限位齿轮36和第二限位齿轮38，转轴的一端穿插至承载板1的内部，第一限位齿轮36的一端中部固定安装在转轴延伸至承载板1内部的一端，通过手动转动放置盘2边可以使得第一限位齿轮36和放置盘2一起进行转动，从而使得第一限位齿轮36在承载板1的内部转动的时候更加方便。
23.承载板1的上端转动安装有连杆35，连杆35的一端穿插至承载板1的内部，第二限位齿轮38的一端中部固定安装在连杆35延伸至承载板1内部的一端，第一限位齿轮36的外部转动安装有用于带动第二限位齿轮38转动的传动带37，其中，第一限位齿轮36和第二限
位齿轮38之间的直径比为5：1，当放置盘2进行转动的时候，第一限位齿轮36便可以进行传动，同时在传动带37的作用下第二限位齿轮38会一起进行转动，当硅片的注射角度随着放置盘2转动的一定角度之后，手动转动连杆35，便可以致使放置盘2再次的进行转动，因为第一限位齿轮36和第二限位齿轮38之间的直径比为5：1的原因，便可以使得再次转动的放置盘2转动的幅度变小，从而便可以实现对硅片的角度实现微调，致使硅片注射离子的角度调节的更加精准。
24.承载板1的内部开设有用于第一限位齿轮36和第二限位齿轮38活动的腔室，腔室可以对第一限位齿轮36、传动带37和第二限位齿轮38的转动提供空间，致使第一限位齿轮36、传动带37和第二限位齿轮38转动的更加方便。
25.放置盘2远离承载板1的径向两侧对称开设有t型滑槽31，其中，t型滑槽31在放置盘2的径向方向均匀开设有四个，t型滑槽31的内腔中滑动安装有t型滑块，t型滑块的一端通过t型滑槽31延伸至放置盘2的外部，且延伸至放置盘2外部的一端固定安装有限位板32，其中，限位板32设置为弧形板，同时在放置盘2的外部滑动安装有四个，四个弧形板可以拼接成一个圆环，从而四个弧形板便可以对不同直径的硅片进行夹持，使得硅片在放置盘2的上端放置的更加稳定，同时当不同尺寸的硅片二次放置到离子注入机的内部之后，不需要对夹具的更换，使得硅片内部注入离子的时候操作步骤更加简便。
26.t型滑槽31的内腔一侧固定安装有用于对t型滑块复位的弹性件33，弹性件33可以对滑动的t型滑块进行复位，从而致使限位板32对硅片夹持的更加牢固。
27.弹性件33可以设置为弹簧、弹片或弹性板等，弹簧、弹片或弹性板自身具备储存和释放弹性势能，从而便可以对滑动的t型滑块进行复位。
28.连杆35远离承载板1的一端中部开设有凹槽，承载板1的一侧转动安装有用于和凹槽相互贴合的l型挡杆34，其中，承载板1的一侧固定安装有用于l型挡杆34转动的支撑板，l型挡杆34可以通过支撑板进行转动，从而l型挡杆34的一端便可以转动至凹槽的内腔中进行放置。凹槽的内腔底部固定安装有用于对l型挡杆34限位的磁铁，其中，l型挡杆34为铁质品，当l型挡杆34的一端转动至凹槽的内腔中之后，磁铁会对l型挡杆34进行吸引，致使连杆35在l型挡杆34的作用下不能够进行转动，从而使得调节完成角度的硅片注入离子的时候放置盘2不易发生转动，使得离子注入到硅片的内部时更加均匀，减少了硅片的残次品。
29.显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。