光增强处理方法与流程

技术特征：
1.一种处理皮肤和头皮的方法，包括：a.在所述头皮或皮肤上施用组合物，所述组合物包含选自以下的头皮护理活性物质：2-吡啶酚-n-氧化物、吡啶硫酮或吡啶硫酮的多价金属盐、一种或多种alogp值大于或等于0.4的铁螯合剂，以及其中的混合物；b.将所述头皮和皮肤暴露于具有350nm至500nm波长和0.1毫瓦/cm2至1000毫瓦/cm2功率的电磁辐射并持续2秒至5分钟的时间段；其中如通过真菌生长敏感性测试所测量，抗微生物处理导致真菌生长与深色样品相比减少至少50％。2.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述方法还包括用水从所述头皮或皮肤冲洗所述组合物。3.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述方法包括将所述组合物留在皮肤的所述头皮上。4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述组合物包含含水载体。5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述头皮护理活性物质包含0.1％至4％的羟甲辛吡酮乙醇胺。6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述一种或多种铁螯合剂选自对亚铁(铁ii)或三价铁(iii)形式的铁离子具有亲和力的材料、对亚铁(铁ii)或三价铁(iii)形式的铁离子具有亲和力从而形成二或更高的配位体齿数的材料、儿茶酚和苯酚、异羟肟酸盐、硫代异羟肟酸盐、羟基吡啶酮、羟基硫代吡啶酮、羟基吡啶硫酮、氨基羧酸盐、吡啶、羟基羧酸盐、芳酰腙、羟基喹啉、羟基吡喃酮、羟基噻喃酮以及它们的混合物。7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述铁螯合剂选自天然螯合剂、合成螯合剂以及它们的混合物。8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述电磁辐射具有380nm至450nm的波长，优选地其中所述电磁辐射具有400nm至425nm的波长。9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述功率为0.3毫瓦/cm2至200毫瓦/cm2，优选地其中所述功率为0.5毫瓦/cm2至75毫瓦/cm2。10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述时间段为10秒至2分钟。11.根据前述权利要求中任一项所述的个人护理组合物，其中所述铁螯合剂以0.01％至5％存在。12.根据前述权利要求中任一项所述的个人护理组合物，其中所述头皮护理活性物质为0.01％至5％的吡啶硫酮或吡啶硫酮的多价金属盐，优选地其中所述头皮护理活性物质为吡啶硫酮锌。13.根据前述权利要求中任一项所述的个人护理组合物，其中吡啶硫酮锌和暴露于电磁辐射的分数抑制剂浓度(fic)具有指示协同作用的≤0.5的fic值。14.根据前述权利要求中任一项所述的个人护理组合物，其中羟甲辛吡酮乙醇胺和暴露于电磁辐射的分数抑制剂浓度(fic)具有指示协同作用的≤0.5的fic值。15.根据前述权利要求中任一项所述的试剂盒，包含头皮或皮肤组合物，所述头皮或皮肤组合物包含选自以下的头皮护理活性物质：2-吡啶酚-n-氧化物、吡啶硫酮或吡啶硫酮的多价金属盐、一种或多种alogp值大于或等于0.4的铁螯合剂，以及其中的混合物；和电磁辐
射源，所述电磁辐射源具有350nm至500nm的波长和0.1毫瓦/cm2至1000毫瓦/cm2的功率，并且持续2秒至5分钟的时间段；其中如通过真菌生长敏感性测试所测量，抗微生物处理导致真菌生长与深色样品相比减少至少50％。

技术总结
本发明涉及一种处理皮肤和头皮的方法，所述方法包括：在所述头皮或皮肤上施用组合物，所述组合物包含选自以下的头皮护理活性物质：2-吡啶酚-N-氧化物、吡啶硫酮或吡啶硫酮的多价金属盐、一种或多种AlogP值大于或等于0.4的铁螯合剂，以及其中的混合物；使所述头皮和皮肤暴露于具有约350nm至约500nm波长和约0.1毫瓦/cm2至约1000毫瓦/cm2功率的电磁辐射，并持续约2秒至约5分钟的时间段；其中如通过真菌生长敏感性测试所测量，抗微生物处理导致真菌生长与深色样品相比减少至少50％。长与深色样品相比减少至少50％。


技术研发人员：C
受保护的技术使用者：宝洁公司
技术研发日：2020.06.25
技术公布日：2022/1/7