多带电粒子束设备和方法与流程

技术特征：
1.一种带电粒子束设备，包括：带电粒子源，被配置为沿着初级光轴生成初级带电粒子束；第一孔阵列，所述第一孔阵列包括第一多个孔，所述第一多个孔被配置为从所述初级带电粒子束生成多个初级子束；聚光透镜，包括能够沿着所述初级光轴进行调整的平面；以及第二孔阵列，所述第二孔阵列包括第二多个孔，所述第二多个孔被配置为生成多个探测子束，其中所述多个探测子束中的每个探测子束包括对应初级子束的带电粒子的部分，并且其中所述带电粒子的所述部分至少基于所述聚光透镜的所述平面的位置和所述第二孔阵列的特性来确定。2.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一孔阵列包括预子束形成孔阵列，所述预子束形成孔阵列被设置在所述带电粒子源与所述聚光透镜之间。3.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一孔阵列包括被配置为生成轴上子束的轴上孔，所述轴上子束入射在所述第二孔阵列的轴上孔上。4.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一孔阵列包括被配置为生成离轴子束的离轴孔，所述离轴子束入射到所述第二孔阵列的对应离轴孔上。5.根据权利要求4所述的设备，其中所述第一孔阵列的所述离轴孔包括具有圆端和逐渐变窄的宽度的细长孔。6.根据权利要求5所述的设备，其中所述第一孔阵列的所述离轴孔具有弯曲形式。7.根据权利要求4所述的设备，其中所述离轴孔被定向为使得所述宽度朝着所述初级光轴逐渐变窄。8.根据权利要求4所述的设备，其中所述聚光透镜被配置为使所述离轴子束的部分形成所述多个探测子束中的对应探测子束。9.根据权利要求1所述的设备，其中所述第二孔阵列包括射束限制孔阵列，所述射束限制孔阵列被设置在所述聚光透镜与物镜之间。10.根据权利要求1所述的设备，其中所述第二多个孔被配置为确定所述多个探测子束的大小和形状。11.根据权利要求1所述的设备，其中所述第二孔阵列的所述特性包括所述第二多个孔的大小、形状和布置中的至少一者。12.根据权利要求1所述的设备，其中所述聚光透镜包括静电透镜、电磁透镜或电磁复合透镜。13.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一多个孔包括多个离轴孔。14.根据权利要求13所述的设备，其中所述多个离轴孔包括第一离轴孔与第二离轴孔重叠的孔，其中所述第一离轴孔使所述第二孔阵列能够生成第一离轴探测子束，并且所述第二离轴孔使所述第二孔阵列能够生成第二离轴探测子束。15.一种存储指令集的非瞬态计算机可读介质，所述指令集能够由具有第一孔阵列和第二孔阵列的多射束设备的一个或多个处理器执行，以使所述多射束设备执行方法，所述方法包括：激活带电粒子源以生成初级带电粒子束；以及
沿着初级光轴关于所述第一孔阵列和所述第二孔阵列调整聚光透镜的平面的位置，其中：所述第一孔阵列被配置为使用第一多个孔从所述初级带电粒子束生成多个初级子束，所述多个初级子束中的初级子束的带电粒子的部分形成对应的探测子束，并且所述带电粒子的所述部分至少基于所述聚光透镜的所述平面的位置和所述第二孔阵列的特性来确定。

技术总结
公开了减轻多射束设备中的库仑效应的系统和方法。该多射束设备可以包括：带电粒子源，被配置为沿着初级光轴生成初级带电粒子束；第一孔阵列，该第一孔阵列包括第一多个孔，该第一多个孔具有形状并且被配置为生成源自初级带电粒子束的多个初级子束；聚光透镜，包括沿着初级光轴可调的平面；以及第二孔阵列，该第二孔阵列包括第二多个孔，该第二多个孔被配置为生成与多个子束相对应的探测子束，其中多个探测子束中的每个探测子束包括至少基于聚光透镜的平面的位置和第二孔阵列的特性的对应初级子束的带电粒子的部分。初级子束的带电粒子的部分。初级子束的带电粒子的部分。


技术研发人员：任伟明 刘学东 胡学让 陈仲玮 M
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
技术研发日：2020.05.18
技术公布日：2022/1/3