用于可变流阻滞器的系统和方法与流程

技术特征：
1.一种可变流阻滞器装置，所述装置包括：流体室，所述室具有输入部和输出部；减小的横截面区域，所述减小的横截面区域在所述室内位于所述输入部与所述输出部之间；以及可移动元件，所述可移动元件设计成沿着所述减小的横截面区域移动以在所述减小的横截面区域与所述可移动元件之间限定流体流动通道，所述流体流动通道独立于流体源与所述输出部处的输送点之间的压力差提供基本上一致的流速。2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述减小的横截面区域由定位在所述室内的限流器限定。3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述限流器包括从所述室的壁延伸的对称形状结构、非对称形状结构或偏心形状结构或其组合。4.根据权利要求3所述的装置，其中，所述限流器具有至少一个偏心切口。5.根据权利要求4所述的装置，其中，所述可移动元件定形状成基本上填满由所述限流器限定的所述减小的横截面区域，从而通过所述至少一个偏心切口形成所述流体流动通道。6.根据权利要求2所述的装置，其中，所述流体流动通道的最小长度和最大长度由所述可移动元件与所述限流器之间的最小重叠和最大重叠限定。7.根据权利要求6所述的装置，其中，所述室包括一个或更多个止挡件以建立所述可移动元件与所述限流器之间的所述最小重叠或所述最大重叠中的至少一者。8.根据权利要求7所述的装置，其中，所述一个或更多个止挡件能够调节，以改变所述可移动元件与所述限流器之间的所述最小重叠或所述最大重叠中的所述至少一者。9.根据权利要求1所述的装置，其中，所述可移动元件是活塞。10.根据权利要求1所述的装置，还包括至少一个偏置构件，所述偏置构件联接至所述可移动元件的至少一个端部和所述室的至少一个端部。11.根据权利要求10所述的装置，其中，所述偏置构件包括弹簧、弹性体内衬、手风琴状件、拉长元件或其组合中的至少一者。12.根据权利要求1所述的装置，还包括表明是否存在通过所述装置的主动流的流指示器。13.根据权利要求2所述的装置，其中，所述可移动元件设计成围绕所述限流器的至少一部分并且相对于所述限流器移动。14.一种用于实现受控流速的系统，所述系统包括：流体源；可变流阻滞器装置，所述可变流阻滞器装置与所述流体源流体连通，并且包括：流体室，所述流体室具有用于接收来自所述流体源的流体的输入部并且具有输出部；减小的横截面区域，所述减小的横截面区域在所述流体室内位于所述输入部与所述输出部之间；以及可移动元件，所述可移动元件设计成沿着所述减小的横截面区域移动以在所述减小的横截面区域与所述可移动元件之间限定流体流动通道，所述流体流动通道独立于流体源与所述输出部处的输送点之间的压力差提供基本上一致的流速；以及
通路，所述通路用以将来自所述流体源的流体引导通过所述流体室并且引导至输送点。15.根据权利要求14所述的系统，其中，所述减小的横截面区域由定位在所述室内的限流器限定。16.根据权利要求14所述的系统，其中，所述可变流阻滞器装置根据所述流体源的输入压力差(δp)自动地调节所述可变流阻滞器装置的阻力(r)，使得通过所述可变流阻滞器装置的所述输出部的流量是恒定的(q0)。17.根据权利要求14所述的系统，还包括至少一个偏置构件，所述偏置构件联接至所述可移动元件的至少一个端部和所述室的至少一个端部，其中，所述偏置构件包括弹簧、弹性体内衬、手风琴状件、拉长元件或其组合中的至少一者。18.根据权利要求14所述的系统，还包括表明是否存在通过所述装置的主动流的流指示器。19.一种用于输送恒定流体流的方法，所述方法包括：提供可变流阻滞器，所述可变流阻滞器具有：流体室，所述流体室具有输入部和输出部；减小的横截面区域，所述减小的横截面区域在所述室内位于所述输入部与所述输出部之间；以及可移动元件，所述可移动元件设计成沿着所述减小的横截面区域移动以在所述减小的横截面区域与所述可移动元件之间限定流体流动通道，所述流体流动通道独立于流体源与输送点之间的压力差提供基本上一致的流速；将所述可变流阻滞器经由所述流体室的所述输入部联接至流体源；以及允许所述可变流阻滞器控制所述流体室的出口处的压力以将来自所述流体源的流体以一致的流体流速输送至所述输送点。20.根据权利要求19所述的方法，其中，所述可变流阻滞器将可变入口压力改变为一致的出口流体流速。

技术总结
本公开的系统和方法提供了一种可以插置在入口压力下的流体贮存器与出口压力下的接纳部之间的独立的被动式可变阻滞器。阻滞器可以相对于从输入部到输出部的压力差来调节阻力，使得通过阻滞器的流速是恒定速率。阻滞器可以包括位于室中的可移动元件和偏置机构，以形成流动通道。可移动元件的每一侧暴露于入口压力和出口压力，并且在流动通道内移动，以响应于压力改变通过室的流的阻力。这些力的平衡决定了可移动元件的位置，可移动元件的位置与流体通道相互作用，以确定通过可变阻滞器的流动阻力。偏置机构可以提供建立平衡流速所需的压力。压力。压力。


技术研发人员：里山
受保护的技术使用者：帕夫梅德有限公司
技术研发日：2020.04.10
技术公布日：2021/12/17