等离子清洗机结构的制作方法

1.本实用新型涉及精密仪器加工领域，特别涉及一种等离子清洗机结构。


背景技术：

2.等离子清洗机(plasma cleaner)也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。目前，在对摄像头模组进行清洁时，通常直接采用等离子灌注后直接清洗，但这种直接清洁模式会存在产品周围还存在多余空气的问题，在后续点胶或贴面时，容易起泡和粘贴点胶不牢固。本技术方案为解决上述问题，提出一种等离子清洗机结构，采用抽真空结构，使产品周围的空气抽出后在进行清洁，可使产品表面或间隙的有机物或其他杂质最大限度清除。


技术实现要素：

3.本实用新型旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本实用新型的主要目的在于提供一种等离子清洗机结构，旨在解决现有技术中的等离子清洁机直接清洁模式会存在产品周围还存在多余空气的问题，在后续点胶或贴面时，容易起泡和粘贴点胶不牢固的问题。
4.为实现上述目的，本实用新型提供一种等离子清洗机结构，包括机台和设置于机台上的等离子清洗组件，等离子清洗组件包括滑轨和设置于滑轨一侧的上盖上盖下方设有下盖，上盖与下盖之间设有托架，下盖底部通过抽气管路连接有抽真空机，
5.下盖底部还连接有等离子灌注阀门，上盖通过滑轨下行，与下盖扣合，且通过抽真空机使上盖与下盖之间行成真空状态后，再通过等离子灌注阀门灌注等离子。
6.在其中一个实施例中，等离子清洗组件两侧均设有自动上料架。
7.在其中一个实施例中，托架与下盖为可拆卸式结构。
8.在其中一个实施例中，上盖与下盖接合处设有密封圈。
9.在其中一个实施例中，自动上料架为弹夹式上料架。
10.在其中一个实施例中，机台底部设有脚杯和滑轮。
11.本实用新型的有益效果如下：
12.本技术方案采用抽真空结构，使产品周围的空气抽出后在进行清洁，可使产品表面或间隙的有机物或其他杂质最大限度清除。
附图说明
13.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例
或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
14.图1为本实用新型中的机台与等离子清洗组件整体结构示意图。
15.图2为本实用新型中的等离子清洗组件整体结构示意图。
16.【主要部件/组件附图标记说明表】
17.标号名称标号名称1机台24等离子灌注阀门2等离子清洗组件3抽真空机20滑轨30抽气泵21上盖31抽气管路22下盖4自动上料架23托架
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具体实施方式
18.为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。
19.基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
20.需要说明，本实用新型实施例中所有方向性指示(例如上、下、左、右、前、后
……
)仅用于解释在某一特定状态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
21.在本实用新型中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。
22.在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
23.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”、“固定”等应做广义理解，例如，“固定”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体成型；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
24.另外，本实用新型中各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。
25.实施例1：
26.参照图1～图2，一种等离子清洗机结构，包括机台1和设置于机台1上的等离子清洗组件2，等离子清洗组件2包括滑轨20和设置于滑轨20一侧的上盖 21上盖21下方设有下
盖22，上盖21与下盖22之间设有托架23，下盖22底部通过抽气管路31连接有抽真空机3，
27.下盖22底部还连接有等离子灌注阀门24，上盖21通过滑轨20下行，与下盖22扣合，且通过抽真空机3使上盖21与下盖22之间行成真空状态后，再通过等离子灌注阀门24灌注等离子。
28.使用时先通过抽真空机3将上盖21与下盖22接合后内部的空气抽出，再进行等离子清晰工序。采用抽真空结构，使产品周围的空气抽出后在进行清洁，可使产品表面或间隙的有机物或其他杂质最大限度清除。
29.参照图1，优选地，等离子清洗组件2两侧均设有自动上料架4。
30.设置的自动上料架4可实现无人工值守，自动进行上料操作。
31.参照图2，优选地，托架23与下盖22为可拆卸式结构。
32.托架23与下盖22可根据不同产品规格进行更换。
33.参照图2，优选地，上盖21与下盖22接合处设有密封圈。
34.设置的密封圈能使抽真空的效果更好，防止空气渗漏进腔体。
35.参照图2，优选地，自动上料架4为弹夹式上料架。
36.参照图1，优选地，机台1底部设有脚杯和滑轮。
37.本实用新型的工作原理如下：
38.先通过抽真空机3将上盖21与下盖22接合后内部的空气抽出，再进行等离子清晰工序。采用抽真空结构，使产品周围的空气抽出后在进行清洁，可使产品表面或间隙的有机物或其他杂质最大限度清除。
39.以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的实用新型构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。


技术特征：
1.一种等离子清洗机结构，其特征在于，包括机台和设置于所述机台上的等离子清洗组件，所述等离子清洗组件包括滑轨和设置于所述滑轨一侧的上盖所述上盖下方设有下盖，所述上盖与所述下盖之间设有托架，所述下盖底部通过抽气管路连接有抽真空机，所述下盖底部还连接有等离子灌注阀门，所述上盖通过滑轨下行，与所述下盖扣合，且通过所述抽真空机使所述上盖与所述下盖之间行成真空状态后，再通过等离子灌注阀门灌注等离子。2.根据权利要求1所述的等离子清洗机结构，其特征在于，所述等离子清洗组件两侧均设有自动上料架。3.根据权利要求1所述的等离子清洗机结构，其特征在于，所述托架与所述下盖为可拆卸式结构。4.根据权利要求1所述的等离子清洗机结构，其特征在于，所述上盖与所述下盖接合处设有密封圈。5.根据权利要求2所述的等离子清洗机结构，其特征在于，所述自动上料架为弹夹式上料架。6.根据权利要求1所述的等离子清洗机结构，其特征在于，所述机台底部设有脚杯和滑轮。

技术总结
本实用新型公开了一种等离子清洗机结构，包括机台和设置于机台上的等离子清洗组件，等离子清洗组件包括滑轨和设置于滑轨一侧的上盖上盖下方设有下盖，上盖与下盖之间设有托架，下盖底部通过抽气管路连接有抽真空机，下盖底部还连接有等离子灌注阀门，上盖通过滑轨下行，与下盖扣合，且通过抽真空机使上盖与下盖之间行成真空状态后，再通过等离子灌注阀门灌注等离子。本实用新型解决了现有技术中等离子清洁机直接清洁模式会存在产品周围还存在多余空气的问题，在后续点胶或贴面时，容易起泡和粘贴点胶不牢固的问题。泡和粘贴点胶不牢固的问题。泡和粘贴点胶不牢固的问题。


技术研发人员：王仕初 刘涛 黄建民
受保护的技术使用者：深圳双十科技有限公司
技术研发日：2020.12.18
技术公布日：2021/11/2