一种高温抗氧化太阳能选择性吸收涂层及其制备方法与流程

摘要: 本发明涉及太阳能光热发电,具体涉及一种高温抗氧化太阳能选择性吸收涂层及其制备方法。背景技术:1、太阳能选择性吸收涂层是太阳能集热器的核心部件,其性能直接决定光热...
一种高温抗氧化太阳能选择性吸收涂层及其制备方法与流程

本发明涉及太阳能光热发电,具体涉及一种高温抗氧化太阳能选择性吸收涂层及其制备方法。

背景技术:

1、太阳能选择性吸收涂层是太阳能集热器的核心部件,其性能直接决定光热转换效率。理想的涂层应具备高的太阳光谱吸收率(0.3~2.5 μm)和低的热发射率(中远红外波段)。在实际应用中,特别是中高温场景(400~600℃),涂层面临两大技术难题:

2、其一,红外反射层的高温失效问题。现有涂层普遍采用金属层(如cu、al、w、mo)作为红外反射层,以降低热发射率。然而在高温空气环境下,这些金属容易发生氧化;同时,金属原子在高温下向吸收层扩散,导致吸收层成分改变、光学性能恶化。虽然真空集热管通过内外管抽真空部分缓解了该问题,但制备成本高、工艺复杂,且一旦真空度下降涂层性能即迅速衰减。

3、其二,各层之间的界面匹配性问题。多层膜系结构中,相邻层材料体系不同时,热膨胀系数差异会导致高温热应力,进而引起膜层开裂或剥落;折射率突变则会造成界面反射损失,降低吸收率。

技术实现思路

1、针对上述问题,本发明提供一种高温抗氧化太阳能选择性吸收涂层及其制备方法,通过在吸收层中引入zr构建四元tizraln/tizralon体系、以aln作为扩散阻挡层和钝化层、以纯cu作为红外反射层,并采用al2o3作为减反层,实现在高温大气环境下的优异光学性能和长期稳定性。

2、本发明的第一方面,提供一种高温抗氧化太阳能选择性吸收涂层,该涂层包括在基体上由内到外依次设置的tialn隔离层、复合红外反射层、tizraln/tizralon梯度吸收层和al2o3减反层;其中,

3、所述复合红外反射层由第一tialn钝化膜、cu红外反射膜和第二tialn钝化膜构成;

4、所述tizraln/tizralon梯度吸收层由tizraln第一亚层和tizralon第二亚层构成。

5、进一步地,所述tialn隔离层含有如下原子百分比的组分:ti 32%~38%,al 24%~28%,n 36%~42%;所述tialn隔离层的厚度为15~25 nm。

6、进一步地,所述第一tialn钝化膜和所述第二tialn钝化膜的厚度均为15~25 nm;所述cu红外反射膜的厚度为50~80 nm,纯度≥99.99%。

7、进一步地,所述tizraln第一亚层含有如下原子百分比的组分:ti 18%~25%,zr10%~16%,al 20%~28%,n 38%~46%,其中ti+zr的总量为32%~38%;所述tizraln第一亚层的厚度为25~40 nm。

8、进一步地,所述tizralon第二亚层含有如下原子百分比的组分:ti 14%~20%,zr8%~14%,al 18%~24%,o 16%~24%,n 28%~36%;所述tizralon第二亚层的厚度为38~58 nm。

9、进一步地,所述al2o3减反层的厚度为60~85 nm,纯度≥99.99%。

10、进一步地,所述基体为抛光不锈钢、铜或铝,表面粗糙度值ra≤2 nm。

11、本发明的第二方面,提供上述的高温抗氧化太阳能选择性吸收涂层的制备方法,包括以下步骤:

12、步骤1,对基体进行预处理;

13、步骤2,采用多弧离子镀方法在所述基体上沉积tialn隔离层;

14、步骤3,采用直流磁控溅射方法在所述tialn隔离层上依次沉积第一tialn钝化膜、cu红外反射膜和第二tialn钝化膜,形成复合红外反射层;

15、步骤4,采用中频磁控溅射方法在所述复合红外反射层上依次沉积tizraln第一亚层和tizralon第二亚层,形成tizraln/tizralon梯度吸收层;其中,从沉积所述tizraln第一亚层切换至沉积所述tizralon第二亚层时,通过逐步增加o2流量并同步降低n2流量的方式实现连续过渡;

16、步骤5,采用射频磁控溅射方法在所述tizralon第二亚层上沉积al2o3减反层;

17、步骤6,将所得涂层冷却至室温后取出。

18、进一步地,步骤2中,沉积所述tialn隔离层的工艺参数为:基体温度350~450℃,工作气压0.4~0.8 pa,偏压150~250 v,沉积电流密度0.3~0.5 a/cm²,沉积时间1~2分钟;

19、进一步地,步骤3中,沉积所述第一tialn钝化膜和第二tialn钝化膜的工艺参数为:以ar和n2为工作气体,体积比n2/(ar+n2)=50%~70%,工作气压0.3~0.6 pa,ti靶功率150~250 w,al靶功率120~200 w,沉积时间2~4分钟;沉积所述cu红外反射膜的工艺参数为:以ar为工作气体,气压0.2~0.4 pa,cu靶功率200~350 w,沉积速率控制在8~15 nm/min,沉积时间3~8分钟。

20、进一步地,步骤4中,沉积所述tizraln第一亚层时,以ar和n2为工作气体,体积比n2/(ar+n2)=50%~70%,工作气压0.4~0.7 pa,温度350~450℃,ti靶功率150~220 w,zr靶功率80~150 w,al靶功率120~200 w,沉积时间5~9分钟,且通过调节ti靶与zr靶的功率比使ti/zr原子比为1.5~2.5:1;

21、进一步地,步骤4中,沉积所述tizralon第二亚层时,以n2和o2为工作气体,体积比o2/(n2+o2)=20%~40%,工作气压0.5~0.8 pa,ti靶功率100~180 w,zr靶功率60~120 w,al靶功率100~160 w,沉积时间8~13分钟;所述切换过程中的渐变时间为1~2分钟;

22、进一步地,步骤5中,沉积所述al2o3减反层时,以al2o3陶瓷靶为靶材,ar和o2为工作气体,体积比o2/(ar+o2)=20%~40%,工作气压0.3~0.6 pa,溅射功率150~250 w,沉积时间10~16分钟。

23、相比现有技术,本发明至少包括以下有益效果:

24、(1)优异的光学性能:通过七层梯度结构设计,各层折射率从基体到表面逐步递减,有效抑制了界面反射损失。tizraln/tizralon吸收层中,zr的引入增加了d带电子态密度,丰富了带间跃迁通道,有利于拓宽太阳光谱吸收范围。

25、(2)出色的高温抗氧化能力:采用tialn/cu/tialn复合红外反射层结构,cu反射膜被两侧tialn钝化膜完整包裹,tialn在550℃空气中具有高热稳定性,且可作为cu的有效扩散阻挡层;tialn在真空10-5pa条件下退火至700℃时相组成保持不变。tialn隔离层阻断了基体中有害元素的向外扩散。顶部al2o3减反层化学性质稳定、致密,兼作抗氧化保护层。三重保护机制使涂层可在500~600℃空气中长期稳定工作。

26、(3)优异的界面稳定性和热匹配性:隔离层(tialn)、钝化层(tialn)、吸收层第一亚层(tizraln)、吸收层第二亚层(tizralon)构成了从ti-al-n到ti-zr-al-n再到ti-zr-al-o-n的连续成分渐变链。相邻层之间共享ti、al、n等元素,化学相容性优异,不存在异质界面突变,极大降低了界面应力和高温热循环下的剥落风险。

27、(4)制备工艺成熟可规模化:多弧离子镀+磁控溅射的组合工艺技术成熟,易于实现连续化生产。所用靶材均为常见商业靶材(ti、zr、al、cu),不涉及稀缺或昂贵元素。