UV固化炉以及硅片烧结设备的制作方法

摘要: 本申请涉及太阳能电池,具体而言,涉及一种uv固化炉以及硅片烧结设备。背景技术:1、硅片的制造中,印刷银浆电极进行二次烧结之后,银浆中的玻璃相已与硅形成欧姆接触,...
UV固化炉以及硅片烧结设备的制作方法

本申请涉及太阳能电池,具体而言,涉及一种uv固化炉以及硅片烧结设备。

背景技术:

1、硅片的制造中,印刷银浆电极进行二次烧结之后,银浆中的玻璃相已与硅形成欧姆接触,但冷却过程中可能因应力收缩产生微米级空隙,存在微观缺陷。目前的一种改善思路为紫外线照射,即向紫外线照射硅片表面,在0.5~2秒内使浆料中的单体和寡聚物交联,能够形成致密聚合物网络,提升电极拉力20~30%,改善烧结缺陷。

2、uv固化炉是一种利用紫外线(uv)光源快速固化光敏材料的设备,输送带携带硅片从炉内经过,uv光源通过发射特定波长的紫外线激活硅片电极材料的化学反应,局部精准固化进一步优化电极性能,从而提升电池效率从而达到提升太阳能电池片光电转换效率的效果。

3、然而,uv固化炉在长时间使用后,在下侧的灯面上容易堆积灰尘等杂质,导致硅片下表面的紫外线照射效果较差,进而影响了硅片的烧结质量以及良品率。

技术实现思路

1、为此,本申请提出一种uv固化炉以及硅片烧结设备,能够在长时间使用后维持下侧紫外线灯的表面清洁,保证硅片下表面的紫外线照射效果,保证硅片的烧结质量以及良品率。

2、本申请第一方面实施例的uv固化炉包括:炉体;输送带,沿第一方向输送硅片穿过所述炉体;上侧紫外线灯和下侧紫外线灯,沿竖直方向设置于所述输送带的两侧;气流清洁装置,设置于所述输送带的下侧,用于通过气流清洁所述下侧紫外线灯的表面。

3、可选地,所述气流清洁装置包括吹气管,所述吹气管伸入所述炉体内部,所述吹气管的位于所述炉体内部的部分设有吹气口,所述吹气口用于吹扫所述下侧紫外线灯的表面。

4、可选地,所述吹气口沿第二方向设置于所述下侧紫外线灯的一侧,所述第一方向与所述第二方向相互垂直设置。

5、可选地,所述uv固化炉还包括抽气管,所述抽气管伸入所述炉体内部且设有抽气口,用于从所述炉体向外抽气。

6、可选地,所述抽气口设置于所述输送带的上侧,且朝向所述输送带设置。

7、可选地,所述抽气口沿着所述第一方向与所述上侧紫外线灯间隔设置。

8、可选地,所述uv固化炉还包括:上侧冷却水循环装置,设置于所述上侧紫外线灯的背面,用于冷却所述上侧紫外线灯;和/或下侧冷却水循环装置,设置于所述下侧紫外线灯的背面,用于冷却所述下侧紫外线灯。

9、可选地,所述uv固化炉还包括:上侧玻璃板,设置于所述上侧紫外线灯的表面,用于防护所述上侧紫外线灯;和/或下侧玻璃板,设置于所述下侧紫外线灯的表面,用于防护所述下侧紫外线灯。

10、可选地,所述炉体包括:底座和盖板;液压开合机构,用于驱动所述盖板与所述底座盖合。

11、本申请第二方面实施例的硅片烧结设备包括本申请第一方面实施例所述的uv固化炉。

12、相对于现有技术,本方案具有以下有益效果:

13、本申请实施例的uv固化炉设有气流清洁装置,能够对下侧紫外线灯的表面进行气流清洁,带走下侧紫外线灯的表面的粉尘等杂质,能够在长时间使用后维持下侧紫外线灯的表面清洁,保证硅片下表面的紫外线照射效果,保证硅片的烧结质量以及良品率。

14、本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本申请的实践了解到。

1.一种uv固化炉(100),其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的uv固化炉(100),其特征在于,所述气流清洁装置(150)包括吹气管(151),所述吹气管(151)伸入所述炉体(110)内部,所述吹气管(151)的位于所述炉体(110)内部的部分设有吹气口(1511),所述吹气口(1511)用于吹扫所述下侧紫外线灯(140)的表面。

3.根据权利要求2所述的uv固化炉(100),其特征在于,所述吹气口(1511)沿第二方向设置于所述下侧紫外线灯(140)的一侧,所述第一方向与所述第二方向相互垂直设置。

4.根据权利要求1所述的uv固化炉(100),其特征在于,所述uv固化炉(100)还包括抽气管(161),所述抽气管(161)伸入所述炉体(110)内部且设有抽气口(1611),用于从所述炉体(110)向外抽气。

5.根据权利要求4所述的uv固化炉(100),其特征在于,所述抽气口(1611)设置于所述输送带(120)的上侧,且朝向所述输送带(120)设置。

6.根据权利要求4所述的uv固化炉(100),其特征在于,所述抽气口(1611)沿着所述第一方向与所述上侧紫外线灯(130)间隔设置。

7.根据权利要求1所述的uv固化炉(100),其特征在于,所述uv固化炉(100)还包括:

8.根据权利要求1所述的uv固化炉(100),其特征在于,所述uv固化炉(100)还包括:

9.根据权利要求1所述的uv固化炉(100),其特征在于,所述炉体(110)包括:

10.一种硅片烧结设备,其特征在于,包括如权利要求1至9任一项所述的uv固化炉(100)。