一种耐腐蚀感光干膜及其制备方法与流程

本发明属于感光干膜材料的，涉及一种耐腐蚀感光干膜及其制备方法。

背景技术：

1、感光干膜是印刷电路板制作中关键的感光材料，随着电子产业的不断发展，印刷电路板朝着高密度、高精度的方向升级，对感光干膜的各项性能提出了更高要求。在感光干膜使用过程中，需要经过蚀刻、镀铜等酸性或强腐蚀性工艺处理，干膜需要耐受腐蚀液的侵蚀，才能保证制作得到的线路完整清晰，避免出现线路变形、断线、侧蚀过度等缺陷。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种耐腐蚀感光干膜及其制备方法，以丙烯酸树脂作为基体，通过添加特殊两步改性制得的功能填料，改善填料与树脂基体的相容性，使其均匀稳定分散在体系中，有效提升制得的感光干膜的耐腐蚀性能与力学性能，满足高精度印刷电路板线路制作的使用要求。

2、本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

3、一种耐腐蚀感光干膜，由感光树脂组合物经过涂布和烘干后制得，所述感光树脂组合物按重量份数包括以下组分：

4、丙烯酸树脂100-115份、光聚合单体14-20份、功能填料2.8-4.0份、光引发剂2-5份。

5、进一步地，本发明通过对二氧化硅先后进行硅烷改性接枝双键、紫外引发接枝油酸、再配合相容剂熔融挤出改性处理，得到的功能填料能够大幅提升与丙烯酸树脂基体的相容性，避免填料团聚，最终显著提升干膜的耐腐蚀性能与力学稳定性。

6、作为本发明的一种优选技术方案，所述丙烯酸树脂选自科鼎mr2402。

7、作为本发明的一种优选技术方案，所述光聚合单体由二缩三丙二醇二丙烯酸酯和季戊四醇四丙烯酸酯组成。

8、进一步地，所述光聚合单体由二缩三丙二醇二丙烯酸酯和季戊四醇四丙烯酸酯按质量比3：1组成，复配使用可在保证固化后交联密度的同时，改善干膜的柔韧性与分辨率，满足精细线路制作需求。

9、所述功能填料的制备包括下面步骤：

10、s1、将干燥的二氧化硅粉体分散于溶剂中，加入硅烷偶联剂回流反应，取滤饼洗涤，真空烘干，得到硅烷改性二氧化硅；

11、s2、在氮气避光保护下将硅烷改性二氧化硅、油酸和无水乙醇超声分散，加入光引发剂采用紫外灯照射，滤出取固体物，洗涤，真空干燥，得到中间填料；

12、s3、将中间填料和助剂熔融挤出、冷却、造粒，得到功能填料。

13、作为本发明的一种优选技术方案，步骤s1中所述二氧化硅粉体的型号为sba-15，所述回流反应的条件为70-75℃回流5-6h，所述洗涤为用无水乙醇洗涤3遍，所述真空烘干为60-65℃真空烘干至恒重。

14、作为本发明的一种优选技术方案，步骤s1中所述二氧化硅粉体、溶剂和硅烷偶联剂的用量比为15-18g：100-110ml：5.0-6.5g，所述溶剂为无水乙醇。

15、作为本发明的一种优选技术方案，步骤s2中所述超声分散的时间为30-45min，所述洗涤为用无水乙醇洗涤3遍，所述真空干燥的条件为80℃真空干燥至恒重，所述紫外灯照射的条件为在365nm波长用紫外线灯照射4-5h。

16、作为本发明的一种优选技术方案，步骤s2中所述硅烷改性二氧化硅、油酸和无水乙醇的用量比为12-14g：2.5-3.0g：50-60ml。

17、作为本发明的一种优选技术方案，步骤s3中所述熔融挤出的温度为170-190℃，所述中间填料和助剂的质量比为18-20：1.0-1.3，所述助剂为核壳结构的增韧型相容剂，佳易容®sbg-001。

18、一种耐腐蚀感光干膜的制备方法包括以下步骤：将感光树脂组合物依次经过涂布和烘干得到。

19、本发明的有益效果：

20、本发明通过在丙烯酸树脂体系中添加功能填料，其制备过程中油酸改性和核壳结构增韧相容剂的添加，都对干膜性能的提升起到了明显的正向作用，经过两步改性处理得到的功能填料，能够均匀稳定地分散在感光树脂基体中，有效改善了干膜整体的耐腐蚀与力学性能，满足高精度线路制作对感光干膜耐腐蚀性能的使用要求。

1.一种耐腐蚀感光干膜，由感光树脂组合物加工制得，其特征在于，所述感光树脂组合物按重量份数包括以下组分：丙烯酸树脂100-115份、光聚合单体14-20份、功能填料2.8-4.0份、光引发剂2-5份。

2.根据权利要求1所述的一种耐腐蚀感光干膜，其特征在于：所述光聚合单体由二缩三丙二醇二丙烯酸酯和季戊四醇四丙烯酸酯组成。

3.一种如权利要求1-2中任一项所述耐腐蚀感光干膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：将感光树脂组合物依次经过涂布和烘干得到。

4.根据权利要求3所述的一种耐腐蚀感光干膜的制备方法，其特征在于，所述功能填料的制备包括下面步骤：

5.根据权利要求3所述的一种耐腐蚀感光干膜的制备方法，其特征在于：步骤s1中所述二氧化硅粉体的型号为sba-15。

6.根据权利要求3所述的一种耐腐蚀感光干膜的制备方法，其特征在于：所述回流反应的条件为70-75℃回流5-6h，所述二氧化硅粉体、溶剂和硅烷偶联剂的用量比为15-18g：100-110ml：5.0-6.5g。

7.根据权利要求3所述的一种耐腐蚀感光干膜的制备方法，其特征在于：步骤s2中所述紫外灯照射的条件为在365nm波长用紫外线灯照射4-5h，所述硅烷改性二氧化硅、油酸和无水乙醇的用量比为12-14g：2.5-3.0g：50-60ml。

8.根据权利要求3所述的一种耐腐蚀感光干膜的制备方法，其特征在于：步骤s3中所述熔融挤出的温度为170-190℃，所述中间填料和助剂的质量比为18-20：1.0-1.3，所述助剂为核壳结构的增韧型相容剂。